# Allresist GmbH

> Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die optische und Elektronenstrahl-Lithographie samt Prozesschemikalien

## Auf einen Blick

- **Ort:** Strausberg
- **Website:** https://www.allresist.de
- **Gegründet:** 1992
- **Verfahren:** Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische Lithographie, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie, Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler), Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen), Resistentwicklung nach Kundenwunsch, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für Optische und Elektronenstrahl-Lithographie, Prozesschemikalien, Forschung und Entwicklung, Logistikzentrum (Neubau)
- **Werkstoffe:** Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 (45 %), Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-42 (4,3 %), PMMA-E-Beamresist, E-Beam Resist AR-N 7520, Lack AR-P 3110, Medusa 84 SiH System, HSQ (Hydrogensilsesquioxan), PPA (Polyphthalaldehyd) für Zweilagenanwendungen, TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid), PMMA-E-Beamresists, Hydrogensilsesquioxan (HSQ), PPA (Polyphthalaldehyd)
- **Branchen:** Mikroelektronik, Halbleiter, Sensorik, Optische Lithographie, Elektronenstrahl-Lithographie, Forschung/Akademie, Elektronische Bauteile
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/allresist

## Über uns

Die Allresist GmbH entwickelt, produziert und vertreibt Resists für die optische und die Elektronenstrahl-Lithographie sowie die dazugehörigen Prozesschemikalien für die Herstellung elektronischer Bauteile. Das Alleinstellungsmerkmal ist die Resistentwicklung nach Kundenwunsch: Mit eigenem Forschungs- und Entwicklungsbereich entstehen kostengünstige, technologieangepasste Resists in kurzer Zeit. Das Portfolio umfasst unter anderem PMMA-E-Beamresists, den E-Beam Resist AR-N 7520, den Lack AR-P 3110, das Medusa 84 SiH System, HSQ sowie PPA für Zweilagen- und Lift-off-Anwendungen. 2026 führte das Unternehmen mit AR 300-41 und AR 300-42 TMAH-freie, Cholin-Hydroxid-basierte Entwickler ein. Die Produkte werden vor allem in der Mikroelektronik, Halbleiter- und Sensorikbranche sowie an Forschungs- und Akademieeinrichtungen eingesetzt. Das Unternehmen sitzt seit der Gründung 1992 in Strausberg (Brandenburg) und hat im September 2026 das Dichtfest eines neuen Logistikzentrums gefeiert, das als rund 3-Millionen-Euro-Investition umgesetzt wird.

## Verfahren & technische Grenzen

- Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische Lithographie
- Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie
- Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler)
- Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen)

## Standorte

- Strausberg – Hauptsitz und Produktion; neues Logistikzentrum in Bau

## Historie

- 1992: Gründung der Allresist GmbH; Beginn des Geschäftsmodells mit hoher Produktqualität bei moderaten Preisen.
- 2026: Markteinführung der TMAH-freien Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 und AR 300-42.
- 2026: Dichtfest des neuen Logistikzentrums in Strausberg (rund 3 Mio. € Investition); Finalist beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027 mit dem Medusa 84 SiH System.

## Kontakt

- Am Biotop 14
- 15344 Strausberg
- +49 3341 35 93 0
- info@allresist.de