# ASML Berlin AG

> Hersteller von Lithografiesystemen für die Halbleiterindustrie und Präzisionsoptik aus Glas und Keramik

## Auf einen Blick

- **Ort:** Berlin
- **Website:** https://www.asml.com
- **Gegründet:** 1984
- **Mitarbeiter:** >44000
- **Verfahren:** EUV-Lithografie (13,5 nm), High-NA EUV-Lithografie (NA 0,55), DUV-Lithografie (immersiv und trocken), Präzisionsfertigung optischer Komponenten aus Glas, Glaskeramik und Keramik, CNC-Bearbeitung von Keramik- und Glaskeramikteilen, Montage/Baugruppenfertigung unter Reinraumbedingungen, Beschichten an Dünnschichtanlagen (Reinraum), Fügen von Teilen zu Baugruppen, Optische und taktile Messtechnik (Interferometer, 3D-/4D-Messmaschinen), E-Beam-Metrologie und -Inspektion, Refurbishment von PAS 5500 und TWINSCAN Lithografiesystemen, Customer Support und Service (14 Länder), Software (Computational Lithography, Metrologie-Software, Embedded Software), Metrologie & Inspektion (optisch und E-Beam), Refurbishment gebrauchter Lithographiesysteme (PAS 5500, TWINSCAN), Kundentrainingszentren, Präzisionsfertigung optischer Komponenten (Glas, Glaskeramik, Keramik), Reinraumfertigung, Beschichtung (Dünnschichtanlagen), Montage
- **Werkstoffe:** Silizium (Wafer), Glas, Glaskeramik, Keramik, Zinn (EUV-Lichtquelle), Silizium, Zinn
- **Zertifikate:** Reinraumfertigung, Optische/taktile Messtechnik (Interferometer, 3D-/4D-Messmaschinen), Qualitätskontrolle in der Fertigung
- **Branchen:** Halbleiterindustrie, Chipfertigung (Foundries, IDMs), Logik- und Speicherchips
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/asml-berlin

## Über uns

ASML ist ein niederländischer Technologie­konzern mit Hauptsitz in Veldhoven und entwickelt sowie fertigt Lithografiesysteme, mit denen Mikrochips in Serie produziert werden. Das Portfolio umfasst DUV-Systeme (193 nm), EUV-Lithografie mit 13,5 nm Wellenlänge sowie die High-NA-EUV-Plattform TWINSCAN EXE mit einer numerischen Apertur von 0,55. Ergänzt werden die Systeme durch optische und E-Beam-Metrologie und Inspektion, Computational-Lithography-Software sowie Customer Support in 14 Ländern. Am deutschen Standort Berlin (ehemals Berliner Glas, 2020 übernommen) fertigen mehr als 1.300 Mitarbeitende Schlüsselkomponenten für Lithografiesysteme, darunter Wafertafeln, Clamps, Reticle Chucks und Mirrorblöcke aus Glas, Glaskeramik und Keramik – inklusive CNC-Bearbeitung, Reinraum-Montage, Dünnschichtbeschichtung und optisch-taktiler Messtechnik. Kunden sind die weltweit größten Chipfabrikanten wie TSMC, Samsung, Intel, SK Hynix und Micron.

## Verfahren & technische Grenzen

- EUV-Lithografie (13,5 nm)
- High-NA EUV-Lithografie (NA 0,55)
- DUV-Lithografie (immersiv und trocken)
- Präzisionsfertigung optischer Komponenten aus Glas, Glaskeramik und Keramik
- CNC-Bearbeitung von Keramik- und Glaskeramikteilen
- Montage/Baugruppenfertigung unter Reinraumbedingungen
- Beschichten an Dünnschichtanlagen (Reinraum)
- Fügen von Teilen zu Baugruppen
- Optische und taktile Messtechnik (Interferometer, 3D-/4D-Messmaschinen)
- E-Beam-Metrologie und -Inspektion
- Refurbishment von PAS 5500 und TWINSCAN Lithografiesystemen

## Maschinenpark

- EUV-Lithografiesystem (NXE) ASML NXE
- High-NA EUV-Lithografiesystem ASML TWINSCAN EXE:5000
- DUV-Lithografiesystem (immersiv und trocken) ASML
- CNC-Maschinen zur Bearbeitung von Keramik/Glaskeramik
- Interferometer, 3D- und 4D-Messmaschinen
- Dünnschicht-Beschichtungsanlagen (Reinraum)
- E-Beam-Inspektionssysteme ASML (HMI)
- YieldStar-Metrologiesysteme (Fertigung) ASML YieldStar
- Reticle-Handler (Fertigung) ASML
- DUV/EUV-Lichtquellen (Cymer) Cymer (ASML)

## Historie

- 1984: Gründung als Joint Venture von Philips und ASM International in Veldhoven („ASM Lithography“) mit ca. 100 Mitarbeitern; erstes System PAS 2000
- 1986: Erstes wettbewerbsfähiges Wafer-Steppersystem PAS 2500; Beginn der Zusammenarbeit mit Carl Zeiss SMT
- 1988: ASM International zieht sich zurück, Philips übernimmt; Expansion nach Taiwan und in die USA
- 1991: Einführung der PAS 5500 – erster großer kommerzieller Durchbruch
- 1995: Börsengang an der Amsterdamer und New Yorker Börse (15. März)
- 1997: Beginn der EUV-Forschung und -Entwicklung
- 2000: Übernahmen von MaskTools und Silicon Valley Group (SVG); über 8.000 Mitarbeiter
- 2007: Übernahme von BRION; erster ganzheitlicher Lithografieansatz
- 2010: Erste EUV-Plattform NXE ausgeliefert
- 2012: Intel investiert 4,1 Mrd. USD für 15 % Beteiligung zur Finanzierung der EUV-Entwicklung; Samsung und TSMC beteiligen sich ebenfalls
- 2013: Übernahme von Cymer (Lichtquellen für Lithografie)
- 2016: Übernahme von Hermes Microvision (HMI, E-Beam-Inspektion)
- 2017: Quasimonopol bei EUV-Lithografie als einziger Hersteller weltweit
- 2020: Übernahme des Optikherstellers Berliner Glas abgeschlossen (heute ASML Berlin)
- 2023: Auslieferung erster Module des ersten High-NA-EUV-Systems TWINSCAN EXE:5000 an Intel (Dezember)
- 2025: Beteiligung von über 1,3 Mrd. Euro (11 %) am Softwareentwickler Mistral AI
- 2026: Größter bekannter Einzelauftrag von SK Hynix über knapp 7 Mrd. Euro; High-NA-Plattform EXE mit NA 0,55 in Auslieferung

## Kontakt

- Waldkraiburger Str. 5
- 12347 Berlin
- +49 30 60 9050
- info.berlin@asml.com