# CCR GmbH

> CCR Technology entwickelt und fertigt COPRA RF-ICP-Plasmaquellen für Beschichtung, Ätzen und Oberflächenmodifikation.

## Auf einen Blick

- **Ort:** Troisdorf
- **Website:** https://www.rf-icp-plasmasources.com/
- **Gegründet:** 1995
- **Verfahren:** PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) von Silizium, Metalloxiden und Nitriden für, PVD Assist (Sputter Assist, E-Gun Assist) mittels 13,56 MHz RF-ICP Plasmaquelle, Etching / Chemical Etching / Ion Milling, Cleaning (Plasma-Reinigung), Activation (Plasma-Aktivierung), PALD Assist (Plasma-Assisted ALD Assist), Oberflächenmodifikation / Densification dünner Schichten (Ion Assist, Ion-Energie 15–150 eV), Service/Support, Vertrieb (international), Technologieberatung/Know-how-Transfer
- **Werkstoffe:** Silizium, Metalloxide, Nitride, DLC (Diamond-Like Carbon), Glas, Polymere, Induktiv gekoppeltes 13,56-MHz-RF-Plasma, Silizium, Metalloxide, Nitride
- **Zertifikate:** ISO 9001
- **Branchen:** Präzisionsoptik, Solar, Halbleiter, Displays, Speichermedien, Architekturglas, Verschleißschutzbeschichtung, Verpackung, Precision Optics, Storage Media, Semiconductor, Architectural Glass, Wear Coatings, Packaging
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/ccr

## Über uns

CCR Technology mit Sitz in Troisdorf ist Hersteller der COPRA®-Plasmatechnologie, einer filamentlosen, induktiv gekoppelten 13,56-MHz-RF-Plasmaquelle. Das Unternehmen fertigt Plasmaquellen in verschiedenen Bauformen (Round, Linear, Ring, Built In) sowie Plasma-Systeme und Faraday-Cup-Systeme und beliefert Endanwender, Anlagenhersteller (OEM) und Forschungsgruppen. Die Anwendungen umfassen PECVD von Silizium-, Metalloxid- und Nitridschichten für Barrier- und Funktionsschichten, PVD-Assist (Sputter- und E-Gun-Assist), Ätzen/Ion Milling, Plasma-Reinigung und -Aktivierung sowie PALD-Assist. Zielmärkte sind Präzisionsoptik, Solar, Halbleiter, Displays und Speichermedien, architektonische Glasbeschichtung sowie Verschleiß- und Dekorschichten. Seit der Gründung 1995 wurden mehr als 1500 Einheiten in über 40 Länder verkauft. Neben der Hardware stellt CCR einen Know-how-Pool für die Prozessentwicklung zur Verfügung.

## Verfahren & technische Grenzen

- PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) von Silizium, Metalloxiden und Nitriden für
- PVD Assist (Sputter Assist, E-Gun Assist) mittels 13,56 MHz RF-ICP Plasmaquelle
- Etching / Chemical Etching / Ion Milling
- Cleaning (Plasma-Reinigung)
- Activation (Plasma-Aktivierung)
- PALD Assist (Plasma-Assisted ALD Assist)
- Oberflächenmodifikation / Densification dünner Schichten (Ion Assist, Ion-Energie 15–150 eV)

## Maschinenpark

- COPRA Plasmaquelle (RF-ICP, 13,56 MHz, inductively coupled) CCR Technology COPRA Round Sources
- COPRA Plasmaquelle (RF-ICP, 13,56 MHz, inductively coupled) CCR Technology COPRA Linear Sources
- COPRA Plasmaquelle (RF-ICP, 13,56 MHz, inductively coupled) CCR Technology COPRA Ring Sources
- COPRA Plasmaquelle (RF-ICP, 13,56 MHz, inductively coupled) CCR Technology COPRA Built In Sources
- Plasma System (unter Konstruktion) CCR Technology
- Faraday Cup System CCR Technology

## Standorte

- Troisdorf – Headquarter mit Entwicklung, Vertrieb und Service

## Historie

- 1995: Gründung von CCR Technology und Beginn der Entwicklung der RF-Plasma-Technologie (COPRA®)
- : Mehr als 1500 Einheiten in über 40 Ländern verkauft; 25 Jahre Tätigkeit im Bereich Plasma

## Kontakt

- Camp-Spich-Str. 3a
- 53842 Troisdorf
- +49 2241 93215-0
- contact@ccrtechnology.de