# Clear & Clean – Werk für Reintechnik GmbH

> Fertigt Reinraumtücher, Reinraumpapier, Spezialhandschuhe und Reinheitsprüfsysteme für die HiTech-Industrie

## Auf einen Blick

- **Ort:** Lübeck
- **Website:** https://www.cleanboss.de
- **Gegründet:** 1979
- **Verfahren:** Stricken von Reinraumtüchern aus Multifilament-Garn (Gestricke), Laserschneiden von Gestrick-Rollenmaterial zu Tuchformaten (Laser Cutter), Dekontamination von Reinraumtüchern (ein- oder mehrstufig: aquatisch, organisch, überkritisch), Herstellung atmungsaktiver Flachgelege-Handschuhe aus Polyurethan-Vlies (Handschuh-Strecke), Fertigung von Reinraumtüchern aus Vliesstoffen (nahezu vollautomatisiert, Interfalz-Faltung,, Spezialpapier-Fertigung mit elektronisch gesteuerten Schneidmaschinen und Kantendekontamination,, Produkt-Verpackung im ISO-Klasse-5 Reinraum, Reinheitsprüfsystem: visuelle Erfassung partikulärer Oberflächenreinheit und Partikelfreisetzung, Partikelbestimmung nach IEST-RP-CC004.4 mit Flüssigkeits-Partikelzähler, Partikelbestimmung (Tauchmethode) mit automatisiertem Lichtmikroskop (Auf-, Durch-, Schräglicht,, Tropfen-Einsinkzeit-Messung (Wasserbenetzbarkeit/Hydrophilisierung) mit Hochgeschwindigkeits-Kamera, Elektrische Reinheits-Prüfung (Entladungsverhalten textiler Wischmittel), TOC-Bestimmung (organischer Gesamtkohlenstoff) mittels katalytischer Oxydation, Spurenanalytik GC/MS (Gaschromatographie mit Massenspektrometer), Raster-Elektronenmikroskopie mit EDX (Elementanalyse von Kontaminationen), Raster-Kraft-Mikroskopie (AFM) im Nanometer-Bereich, CO2-Plasma-Reinigung von Proben, DIC-Mikroskopie (Differential-Interferenz-Kontrast nach Normarski) für schichtförmige, Zentrifugale Adhäsionskraft-Messung zur Bestimmung filmischer Verunreinigungen, Messung luftgetragener Nanopartikel (Feret-Durchmesser ab 5 nm), Farb-Analyse zur Reinheitsbestimmung mittels Spektralanalyse
- **Werkstoffe:** Polyester (PES), Polyamid (PA), Polyurethan (Stretchbond-Vlies), Synthetikfaser-Vliesstoff (Duro PA), Cellulose-basierte Reinigungs-Vliese, Reinraum-Spezialpapier (beidseitig beschichtet), Polyester (Multifilament-Gestrick), Polyamid (Multifilament-Gestrick)
- **Zertifikate:** ISO 9001:2015, ISO 14001:2015
- **Branchen:** Halbleiterindustrie, Pharma-Industrie, Biotechnik, Optik, Medizinische Forschung, Raumfahrt-Industrie, Medizintechnik / Implantat-Medizin, Distributoren, Medizinische Forschung
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/clear-clean-werk-fuer-reintechnik-3e3c

## Über uns

Clear & Clean – Werk für Reintechnik GmbH ist ein rein deutsches Unternehmen mit Hauptsitz und Fertigung im Ostsee-Werk Lübeck. Das Unternehmen fertigt seit 1979 HiTech-Reinraumtücher aus Multifilament-Garn-Gestricke aus Polyester und Polyamid, atmungsaktive Flachgelege-Handschuhe aus Polyurethan-Vlies sowie beidseitig beschichtetes Reinraum-Papier, Notiz- und Logbücher und Scheiben-Separatoren. Die Fertigung umfasst 1800 m² umbaute Fläche mit zwei ISO-Klasse-5 Reinräumen, in denen auch die Produkt-Verpackung erfolgt. Gestrick-Rollenmaterial wird mit Laser-Cuttern zu Tuchformaten geschnitten und je nach Reinheitsbedarf ein- oder mehrstufig dekontaminiert (aquatisch, organisch, überkritisch). Ein 1990 gegründetes Forschungs- und Qualitätslabor mit über 50 analytischen Verfahren unterstützt Anwender bei wischenden Reinigungsprozeduren, Material-Qualifizierung und Produkt-Entwicklung. Abnehmer sind die Halbleiter- und Pharma-Industrie, Biotechnik, Optik, medizinische Forschung, Raumfahrt-Industrie und Medizintechnik sowie Distributoren im deutschsprachigen Raum.

## Verfahren & technische Grenzen

- Stricken von Reinraumtüchern aus Multifilament-Garn (Gestricke)
- Laserschneiden von Gestrick-Rollenmaterial zu Tuchformaten (Laser Cutter)
- Dekontamination von Reinraumtüchern (ein- oder mehrstufig: aquatisch, organisch, überkritisch)
- Herstellung atmungsaktiver Flachgelege-Handschuhe aus Polyurethan-Vlies (Handschuh-Strecke)
- Fertigung von Reinraumtüchern aus Vliesstoffen (nahezu vollautomatisiert, Interfalz-Faltung,
- Spezialpapier-Fertigung mit elektronisch gesteuerten Schneidmaschinen und Kantendekontamination,
- Produkt-Verpackung im ISO-Klasse-5 Reinraum
- Reinheitsprüfsystem: visuelle Erfassung partikulärer Oberflächenreinheit und Partikelfreisetzung
- Partikelbestimmung nach IEST-RP-CC004.4 mit Flüssigkeits-Partikelzähler
- Partikelbestimmung (Tauchmethode) mit automatisiertem Lichtmikroskop (Auf-, Durch-, Schräglicht,
- Tropfen-Einsinkzeit-Messung (Wasserbenetzbarkeit/Hydrophilisierung) mit Hochgeschwindigkeits-Kamera
- Elektrische Reinheits-Prüfung (Entladungsverhalten textiler Wischmittel)
- TOC-Bestimmung (organischer Gesamtkohlenstoff) mittels katalytischer Oxydation
- Spurenanalytik GC/MS (Gaschromatographie mit Massenspektrometer)
- Raster-Elektronenmikroskopie mit EDX (Elementanalyse von Kontaminationen)
- Raster-Kraft-Mikroskopie (AFM) im Nanometer-Bereich, CO2-Plasma-Reinigung von Proben
- DIC-Mikroskopie (Differential-Interferenz-Kontrast nach Normarski) für schichtförmige
- Zentrifugale Adhäsionskraft-Messung zur Bestimmung filmischer Verunreinigungen
- Messung luftgetragener Nanopartikel (Feret-Durchmesser ab 5 nm)
- Farb-Analyse zur Reinheitsbestimmung mittels Spektralanalyse
- Plasma-Reinigung (Plasma-Generator zur Ultra-Reinigung funktionaler Oberflächen)

## Maschinenpark

- Laser-Cutter (Tuchschneiden)
- Elektronisch gesteuerte Schneidmaschinen mit Stapellift (Papierfertigung)
- Handschuh-Strecke (Flachgelege-Handschuh-Fertigung)
- Anlage zur Tensid-freien organischen Dekontamination von HiTech-Reinigungstüchern
- Reinstwasser-Anlage (18,2 Mega-Ohm)
- Flüssigkeits-Partikelzähler
- Automatisiertes Lichtmikroskop (Auflicht, Durchlicht, Schräglicht, Polarisation, Fluoreszenz)
- Raster-Elektronenmikroskop mit EDX
- Raster-Kraft-Mikroskop (AFM)
- DIC-Mikroskop (nach Normarski)
- 2× Gaschromatograph mit Massenspektrometer (GC-MS)
- TOC-Anlage (katalytische Oxydation)
- Messgerät für luftgetragene Nanopartikel (ab 5 nm Feret-Durchmesser)
- Plasma-Generator zur Ultra-Reinigung funktionaler Oberflächen
- Messplatz zur Kontaktwinkel-Bestimmung
- Mikrowellen-Extraktionsgerät
- Elektronischer Zähler für Oberflächen-Partikel
- Auto-Sputter-Coater (Beschichtung mit Gold, Gold/Palladium, Silber)
- Hochgeschwindigkeits-Kamera (Tropfen-Einsinkzeit)
- 2× Reinraum ISO-Klasse-5 (Fertigung/Verpackung)
- Reinheitsprüfsystem (Kompaktgerät zur visuellen Erfassung partikulärer Oberflächenreinheit)

## Standorte

- Ostsee-Werk Lübeck – Hauptsitz, Fertigung, Forschungs- und Qualitätslabor, zwei ISO-Klasse-5 Reinräume

## Historie

- 1979: Gründung des Unternehmens (22. August) durch Win Labuda in Lübeck
- 1985: Beginn der Fachpublikationen zu Oberflächen-Reinheit; seitdem über 40 Fachaufsätze und 10 Patente
- 1990: Gründung des Forschungslabors
- 2006: Erstmalige Zertifizierung nach DIN EN ISO 9001
- 2015: Forschungspreis an Dr. Udo Riss; Inbetriebnahme einer 18,2 Mega-Ohm Reinstwasser-Anlage
- 2016: Modernisierung und Vergrößerung des Reinraums (Schale und Filterdecke); Nutzung zur Produkt-Verpackung
- 2017: Erweiterung des Labor-Instrumentariums (Oberflächen-Partikelzähler, REM mit EDX, Kontaktwinkel-Messplatz, Mikrowellen-Extraktion, Plasma-Generator)
- 2018: Neue Prüf-Methode: zentrifugale Adhäsionskraft-Messung für die wischende Reinigungsprozedur
- 2019: 40 Jahre Clear & Clean; zweites GC-MS für Spurenanalytik; Anlage zur tensidfreien organischen Dekontamination
- 2020: Inbetriebnahme einer TOC-Anlage; Messplatz zur Partikelfreisetzungs-Analyse; Messgerät für luftgetragene Nanopartikel (ab 5 nm)
- 2021: Neue Homepage www.cleanboss.de mit wöchentlicher Veröffentlichung der Qualitäts-Regelkarten des Tuchs SONIT-MDM
- 2023: Win Labuda wird 85 Jahre alt und veröffentlicht 'Zur Reinheit funktionaler Oberflächen – Gesammelte Fachaufsätze' (ISBN 978-3-9825567-0-3)
- 2024: Zertifizierung des Umweltmanagements nach ISO 14001:2015; Farb-Analyse (Spektralanalyse) zur Reinheitsbestimmung

## Kontakt

- Niels-Bohr-Ring 36
- 23568 Lübeck
- +49 451 389500
- info@clearclean.de