# DIRAMICS AG

> Hersteller ultra-low-noise pHEMT-Transistoren – vom Epitaxie-Design bis zur Charakterisierung und zum Device-Modelling

## Auf einen Blick

- **Ort:** Steinhausen
- **Website:** https://diramics.com
- **Gegründet:** 2016
- **Verfahren:** Epi-Design (Epitaxial-Schichtdesign), Transistor-Fabrikation (pHEMT/HEMT Herstellung), Device Characterization und Modelling, Epi-Design (Epitaxie-Schichtdesign), Transistor-Fabrikation, Device-Charakterisierung, Device-Modelling, Angepasste ultra-low-noise pHEMT Transistoren
- **Werkstoffe:** InP HEMT / pHEMT Technologie (Indiumphosphid), Indiumphosphid (InP HEMT / pHEMT), Molecular Beam Epitaxy, Atomic Layer Deposition, Plassys Beschichtungs-/Ätzanlage
- **Zertifikate:** ISO 9001, Sonstiges
- **Branchen:** Halbleiter, Weltraum/Erdstationen (ESA), Radioastronomie, Mikrowellentechnik, Kryogene Empfänger
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/diramics

## Über uns

Diramics wurde 2016 in Zürich als Spin-off der ETH Zurich gegründet, um die Ultra-Low-Noise-pHEMT-Technologie aus der Forschung auf den Markt zu bringen. Das Unternehmen fertigt anpassbare ultra-low-noise HEMT-Transistoren (pH-100) auf Indiumphosphid-Basis, die seit über zehn Jahren in ESA-Erdstationen im Feldeinsatz sind. Die Wertschöpfung umfasst sämtliche Schritte: Epitaxie-Schichtdesign (Epi-Design), Transistor-Fabrikation im eigenen Reinraum mit MBE-Anlage, Device-Charakterisierung und Device-Modelling. Die Transistoren werden in hybriden Low-Noise-Verstärkern für Radioastronomie und Weltraumanwendungen eingesetzt, etwa bei der Yebes-Sternwarte (IGN/CDT, Spanien) und im Deep Space Network. 2019 wurde die Kommerzialisierung der InP-HEMT-Technologie im Rahmen des EU-Programms Horizon 2020 (Grant Agreement No 855915) gefördert. Der Hauptsitz mit Fertigung und Reinraum befindet sich in Steinhausen, Schweiz.

## Verfahren & technische Grenzen

- Epi-Design (Epitaxial-Schichtdesign)
- Transistor-Fabrikation (pHEMT/HEMT Herstellung)
- Device Characterization und Modelling

## Maschinenpark

- MBE-Anlage (Molecular Beam Epitaxy)
- Plassys Beschichtungs-/Ätzanlage Plassys
- Mikroskop
- Wet Bench (Nasschemie)
- ALD-Anlage (Atomic Layer Deposition, Cleanroom)
- Wet-Chemie Cleanroom-Bereich
- Rasterelektronenmikroskop (SEM)

## Standorte

- Steinhausen – Hauptsitz, Fertigung, Reinraum, Charakterisierung

## Historie

- 2016: Gründung in Zürich als Spin-off der ETH Zurich zur Kommerzialisierung der Ultra-Low-Noise-pHEMT-Technologie
- 2019: EU-Förderung im Rahmen von Horizon 2020 (Grant Agreement No 855915) für die Kommerzialisierung der InP HEMT Technologie
- 2025: Website-Aktualisierung; pH-100 Transistoren >10 Jahre im Feldeinsatz bei ESA-Erdstationen

## Kontakt

- Hinterbergstrasse 28
- 6312 Steinhausen
- contact@diramics.com