# E+H Metrology GmbH

> Entwickelt und fertigt kundenspezifische Messsysteme und Software für Halbleiter, Mikroelektronik und Werkstoffprüfung bis in den Subnanometer-Bereich.

## Auf einen Blick

- **Ort:** Karlsruhe
- **Website:** https://www.eh-metrology.com/
- **Gegründet:** 1968
- **Verfahren:** Contract Measurements (Lohrmessungen), Messung von Oberflächen: Waviness, Saw Marks, Roughness, Nanotopography, Geometriemessung: Thickness, TTV (total thickness variation), Warp and Bow, Film Stress, Messung elektrischer Eigenschaften: Resistivity, Sheet Resistance, P/N Dotation, Messung Achsen, Wellen und Lager: Wellenverlagerung an Gleitlagern, Achskonzentrizität, Turbine and motor measurement, Messung von Materialeigenschaften: Elastizitätsmodul (Young's modulus), Wärmeausdehnungskoeffizient, Tieftemperatur-/Kryomessungen (unter ca. -150 °C) mit kapazitiven Sensoren, Wafer-Kalibrierung: Referenzwafer für Dicke oder Spez. Widerstand, periodische (Re)Kalibrierung, Dickenmessung von Silizium-Wafern oder leitfähigen Substraten (Geometry Head), Herstellung kundenspezifischer Messsysteme (Elektronik, Mechanik, Konstruktion, Software), Auftragsmessungen (Contract Measurements), Wafer-Kalibrierung / Referenzwafer, Technischer Support, Inhouse-Softwareentwicklung, Anpassung kundenspezifischer Messlösungen
- **Werkstoffe:** Silizium (Wafer), technische Keramik, Photovoltaik-Produkte, leitfähige Substrate, Kryomaterialien
- **Zertifikate:** Reproduzierbare Messung nach internationalen Kalibrierstandards, Factory Calibration / Referenzwafer (Dicke, spez. Widerstand), ISO 9001 (belegt)
- **Branchen:** Halbleiter & MEMS, Mikroelektronik, Forschung & Entwicklung, Wafer Reclaim, Technische Keramik, Maschinenbau, Sensorik & Messtechnik, Photovoltaik & Solar
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/e-h-metrology

## Über uns

E+H Metrology GmbH ist ein unabhängiges, mittelständisches Unternehmen mit Sitz in Karlsruhe, das seit 1968 maßgeschneiderte Messsysteme und Software für die Randbereiche des Messbaren entwickelt. Das Portfolio umfasst kapazitive Distanzsensoren, Geometrie-Messköpfe, manuelle Messgeräte (Manual Tools), OEM-integrierte Tools sowie automatisierte Messsysteme und Wafer-Sorterierer (Robot Sorter, Belt Sorter MX 202 WaferStream) für Dicken-, Flachheits- und Oberflächenmessung. Gemessen werden Silizium-Wafer, leitfähige Substrate, Photovoltaik-Produkte, technische Keramik und andere Materialien bis in den Subnano-Bereich, einschließlich elektrischer Eigenschaften, Materialeigenschaften und Kryomessungen unter etwa -150 °C. Elektronik, Mechanik, Konstruktion und Softwareentwicklung erfolgen vollständig inhouse; die Fertigung findet am Standort Karlsruhe statt. Kunden kommen aus Halbleiter- und MEMS-Industrie, Mikroelektronik, Forschung und Entwicklung, Wafer-Reclaim, technischer Keramik, Maschinenbau, Sensorik sowie Photovoltaik und Solar. Ein weltweites Distributoren- und Partnernetzwerk unterstützt Kunden vor Ort.

## Verfahren & technische Grenzen

- Contract Measurements (Lohrmessungen)
- Messung von Oberflächen: Waviness, Saw Marks, Roughness, Nanotopography
- Geometriemessung: Thickness, TTV (total thickness variation), Warp and Bow, Film Stress
- Messung elektrischer Eigenschaften: Resistivity, Sheet Resistance, P/N Dotation
- Messung Achsen, Wellen und Lager: Wellenverlagerung an Gleitlagern, Achskonzentrizität
- Turbine and motor measurement
- Messung von Materialeigenschaften: Elastizitätsmodul (Young's modulus), Wärmeausdehnungskoeffizient, Toleranz Deformationen im Nanometer-Bereich
- Tieftemperatur-/Kryomessungen (unter ca. -150 °C) mit kapazitiven Sensoren, Toleranz Nanometer-Auflösung
- Wafer-Kalibrierung: Referenzwafer für Dicke oder Spez. Widerstand, periodische (Re)Kalibrierung
- Dickenmessung von Silizium-Wafern oder leitfähigen Substraten (Geometry Head)
- Herstellung kundenspezifischer Messsysteme (Elektronik, Mechanik, Konstruktion, Software)

## Maschinenpark

- Robot Sorter (Wafer-Robotersorterierer) E+H Metrology
- Belt Sorter (modularer Bandsorter) E+H Metrology MX 202 WaferStream
- Thickness and flatness gauge 300 mm E+H Metrology
- 450 mm Tool E+H Metrology
- Kapazitiver Distanzsensor / capacitive displacement transducer E+H Metrology
- Deflektrometrische Messtechnik (AMA Innovations Award) E+H Metrology
- Makyoh-Technologie (GNS Global Nanoscope) E+H Metrology GNS Global Nanoscope
- Manual Tools (manuelle Messgeräte) E+H Metrology
- OEM Integrated Tools E+H Metrology
- Automated Tools (automatisierte Messsysteme) E+H Metrology MX204, MX608
- Sensor systems / Distance Meters (Standard Sensors) E+H Metrology

## Standorte

- Karlsruhe – Zentrale: Entwicklung, Produktion, Messtechnik, Elektronik, Mechanik, Konstruktion, Vertrieb, Verwaltung

## Historie

- 1968: Gründung von E+H durch Wilfried Eichhorn und Taddaeus Hausmann: linearer kapazitiver Abstandssensor mit Kabelkapazitäts-Eliminierung.
- 1978: Erster Geometrie-Messkopf für eine der ersten Halbleiteranwendungen: Dickenmessung von Siliziumwafern
- 1992: E+H an der Spitze der technologischen Entwicklung für die Photovoltaik-Industrie
- 1996: Erste 300-mm-Dicken- und Flachheitsmessgeräte präsentiert auf der SEMICON Europa
- 2001: Wilfried Eichhorn übergibt nach 33 Jahren die Unternehmensführung an Daniel Raseghi
- 2008: Erstes Unternehmen mit 450-mm-Werkzeug auf der SEMICON 2008
- 2015: AMA Innovationspreis für wegweisende deflektrometrische Messtechnik
- 2021: Umzug in neue, größere Räumlichkeiten am Standort Karlsruhe (Entwicklung, Produktion, Prüftechnik, Support)
- 2021: GNS Global Nanoscope: Makyoh-Technologie neu gedacht
- 2022: E+H Metrology Relaunch (Website)

## Kontakt

- Griesbachstraße 12 · Benzstraße 5-9
- 76185 Karlsruhe
- +49-(0)721-83118-0
- info@eh-metrology.com