# EPFL - École polytechnique fédérale de Lausanne

> Föderale technische Hochschule mit CMi-Reinraum und M2C-Infrastruktur für Mikro-/Nanofertigung, 3D-Metalldruck und Charakterisierung

## Auf einen Blick

- **Ort:** CH-1015 Lausanne
- **Website:** https://www.epfl.ch
- **Mitarbeiter:** 6500
- **Verfahren:** Electron beam lithography (Raith EBPG5000+/EBPG5200+), Photolithography (EVG 150, Süss ACS200 Gen3, Mask-aligner, Laser writer, DUV Stepper), Ion Beam Etching (Veeco Nexus IBE350), LPCVD / Oxidation / Diffusion / Doping / Annealing (Centrotherm furnaces), Atomic Layer Deposition ALD (BENEQ TFS200), Rapid Thermal Processing (JETFIRST 200), Flash Lamp Annealing (ROVAK Semi-Line 3.0), Thin-film deposition PECVD / Sputtering, Laser Powder Bed Fusion 3D Metal Printing (Sisma, EOS), Metal powder atomization, Femtosecond laser processing, Nanoimprint lithography, Mechanical characterization (vibration/shaker testing up to 200g, 1 Hz–10 kHz), Wet etching (KOH, BHF, Piranha), Surface metrology / Stylus profiling (Tencor P-17), Weiterbildung und Lebenslanges Lernen, Zugang zu Forschungsinfrastruktur (Shared Equipments, CMi, M2C), Technologietransfer / Innovation, Praktikumsportal für Unternehmen (Talents EPFL), Carbon-Emissions-Rechner für Forschungslabore (Open Source)
- **Werkstoffe:** Silizium / Polysilizium / amorphes Silizium, Siliziumdioxid (LTO, TEOS, HTO, PSG, BPSG, BSG), Siliziumnitrid / Low-stress-Siliziumnitrid, Aluminiumoxid (ALD), Titandioxid (ALD), Hafniumdioxid (ALD), Platin (ALD), Galliumarsenid, Siliziumcarbid, Saphir, Aluminium (Legierungsofen), Metallpulver (für 3D-Druck), Saphir (Al2O3), Aluminium, Metallpulver (3D-Druck)
- **Zertifikate:** Metrologie im Reinraum (AFM, SEM/FIB, EDX, Profilometrie), Optische Spektroskopie (Raman, UV-Vis, FTIR, Ellipsometrie), Elektrische Charakterisierung / Probe Station, Mechanische Charakterisierung (Vibrationstests bis 200g)
- **Branchen:** Hochschulausbildung, Forschung und Entwicklung, Innovation / Technologietransfer, Mikro- und Nanotechnologie, Additive Fertigung, Mikro- und Nanotechnologie (CMi), Additive Fertigung (M2C)
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/epfl-cole-polytechnique-f-d-rale-de-lausanne

## Über uns

Die EPFL ist eine öffentlich-rechtliche technische Hochschule der ETH Domain in der Schweiz mit Sitz in Lausanne und rund 6.500 Mitarbeitenden. Neben den drei Missionen Lehre, Forschung und Innovation betreibt die EPFL Forschungs- und Fertigungsinfrastruktur, die auch externen Partnern zugänglich ist. Das Center of MicroNanoTechnology (CMi) stellt einen Reinraum mit Lithografie (Elektronenstrahl und Photolithografie), Plasma- und Ionenstrahlätzen, Dünnschichtprozessen (LPCVD, Oxidation, ALD, PECVD, Sputtering) sowie umfassender Metrologie (REM/FIB, AFM, Stylus-Profilometrie) für Wafer bis 150 mm bereit. Das Zentrum M2C (Advanced Manufacturing) bietet 3D-Metalldruck im Laser-Powder-Bed-Fusion-Verfahren, Metallpulver-Atomisierung, Femtosekunden-Laserbearbeitung und Röntgen-Tomografie. Am Associated Campus Neuchâtel (Microcity) stehen geteilte Laboratorien für Mikroskopie, optische Spektroskopie, elektrische Charakterisierung, Chemie und Probe-Station-Messungen zur Verfügung. Unternehmen können über Shared-Equipment-Zugänge, Technologietransfer und Praktikumsprogramme mit der EPFL zusammenarbeiten.

## Verfahren & technische Grenzen

- Electron beam lithography (Raith EBPG5000+/EBPG5200+), max. Länge 150 mm wafer
- Photolithography (EVG 150, Süss ACS200 Gen3, Mask-aligner, Laser writer, DUV Stepper), Toleranz Overlay >20 nm (ebeam), max. Länge 150 mm wafer
- Ion Beam Etching (Veeco Nexus IBE350), max. Länge 100 mm wafer, max 4 mm dick
- , max. Länge 100 mm wafer
- LPCVD / Oxidation / Diffusion / Doping / Annealing (Centrotherm furnaces)
- Atomic Layer Deposition ALD (BENEQ TFS200)
- Rapid Thermal Processing (JETFIRST 200), max. Länge 8" wafer
- Flash Lamp Annealing (ROVAK Semi-Line 3.0), max. Länge 4" wafer, max 2 mm dick
- Thin-film deposition PECVD / Sputtering
- Laser Powder Bed Fusion 3D Metal Printing (Sisma, EOS)
- Metal powder atomization
- Femtosecond laser processing
- Nanoimprint lithography
- Mechanical characterization (vibration/shaker testing up to 200g, 1 Hz–10 kHz)
- Wet etching (KOH, BHF, Piranha)
- Surface metrology / Stylus profiling (Tencor P-17), max. Länge 200 mm Scanlänge

## Maschinenpark

- 1× Elektronenstrahl-Lithografiesystem Raith EBPG5000+
- 1× Elektronenstrahl-Lithografiesystem Raith EBPG5200 plus
- 1× Ion Beam Etcher Veeco Nexus IBE350
- 1× ICP Dry Etcher (Deep Si Etching) SPTS Rapier DSE
- 1× ICP Dry Etcher Alcatel AMS 200 SE
- 1× Dielectric Etcher SPTS Synapse
- 1× Dielectric Etcher SPTS APS
- 1× RIE Dry Etcher TEL Unity Me
- 15× LPCVD-/Oxidations-/Diffusionsöfen Centrotherm
- 1× Rapid Thermal Processing JETFIRST 200
- 1× Flash Lamp Annealing System ROVAK Semi-Line 3.0
- 2× Atomic Layer Deposition BENEQ TFS200 (ALD I & II)
- 1× Automatischer Resist-Processing-Cluster EVG 150
- 1× Automatischer Resist-Processing-Cluster Süss MicroTec ACS200 Gen3
- 1× Maskenverarbeitung (Cr-Blanks) Hamatech HMR900
- 1× Spin-Coater (Ebeam-Resists) Sawatec SM-150
- 1× Spin-Coater mit Hotplates Sawatec SM-200
- 1× Atomic Force Microscope Park Systems FX200
- 1× Atomic Force Microscope Bruker FastScan (Icon)
- 1× SEM/Plasma-FIB Zeiss/Thermo Fisher Helios G4 PFIB UXe
- 1× SEM/FIB CrossBeam Zeiss CrossBeam 540
- 1× REM (Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop) Zeiss MERLIN
- 1× SEM CrossBeam Zeiss Crossbeam 550
- 1× Stylus Profiler Tencor (KLA) P-17
- 1× 3D-Metalldrucker (Laser Powder Bed Fusion) Sisma
- 1× 3D-Metalldrucker (Laser Powder Bed Fusion) EOS
- 1× Metal Powder Atomizer
- 1× Femtosecond laser source
- 1× High Resolution X-Ray Tomography System
- 1× Automated Pick & Place System
- 1× Rasterelektronenmikroskop Zeiss Gemini 2 SEM
- 1× Rasterelektronenmikroskop JEOL JSM-7500 TFE
- 1× Laser-Konfokalmikroskop Keyence VK X-1000
- 1× Digitalmikroskop Hirox KH-8700
- 1× Digital Holographic Microscope Lyncee Tec
- PECVD-Beschichtungssystem
- 1× Electromagnetic Shaker (Vibrationsgenerator)
- 1× Probe Station
- 1× Konfokales Raman-/Photolumineszenz-Mikroskop
- 1× UV-Vis-Spektrometer
- 1× FTIR-Spektrometer
- 1× Ellipsometer
- 1× Spin-Coater für Polymere mit Hotplates Sawatec

## Standorte

- Lausanne – Hauptcampus: Lehre, Forschung, Innovation, CMi-Reinraum, CIME, M2C
- Neuchâtel – Associated Campus Microcity: geteilte Laboratorien (Mikroskopie, Spektroskopie, Chemie, Bio, Probe Station)

## Kontakt

- EPFL AV-GR
- CH-1015 Lausanne
- +41 21 693 11 11