# Gersteltec Engineering Solutions

> Entwickelt und fertigt SU-8-Funktionalpolymere, Photoresiste und Mikrostrukturen für MEMS, LIGA und Mikroelektronik.

## Auf einen Blick

- **Ort:** Pully
- **Website:** https://www.gersteltec.ch
- **Gegründet:** 2004
- **Verfahren:** Herstellung von SU-8 Photoepoxy-Mikrostrukturen (MEMS, MOMES, BioMEMS, LIGA), UV-LIGA Mikrofabrikation, Microstereolithography (3D-Mikro-Stereolithografie), Electroforming / Galvanik für LIGA-Microparts (Gears, Federn, Greifer, Metallteile), Micro-Mold Fabrication (SU8 Master, SU8 Cap, Cavities), Nanoimprint-Lithografie, Beschichtung mit Nanopartikeln (Coating Nanoparticles, Pips coating), e-Beam Lithografie (E-Beam Resist), MEMS/MOMES/LIGA Prozessentwicklung, Prototyping, Foundry Service (semi volume production), Packaging and Assembly (WLP, CSP, Bonding, Microfluidic Assembly), Mask Design / Functional Design / Feasibility Studies / Reliability Testing, Prototyping, Development & Consulting, Technical services, Tailor-made photoresist formulation, Mask design, Functional design, Process development, optimization and scale up, Feasibility studies, Reliability testing
- **Werkstoffe:** SU-8 Photoresist (negativer Epoxid-Photolack), Bio-kompatibler SU-8 Photoresist (toxizitätsfrei), Nanocomposite SU-8 Epoxy (elektrisch/thermisch/optisch funktionalisiert), Photo-Dielectric, E-Beam Resist, Polyimid, Keramik-Composite / Aluminiumoxid (Alumina, gesintert), Dielektrische und leitfähige Nano-Inks, Bioverträglicher SU-8 Photoresist (toxizitätsfrei), Nanocomposite SU-8 Epoxy, Keramik-Composite / Aluminiumoxid (gesintert)
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/gersteltec-engineering-solutions

## Über uns

Gersteltec Engineering Solutions ist ein 2004 als Spin-off der EPFL gegründetes Schweizer Unternehmen mit Sitz in Pully. Das Unternehmen entwickelt, fertigt und vertreibt Epoxyd-Photoresiste, Photo-Dielektrika und zugehörige Produkte auf Basis von SU-8-Technologie für die Herstellung von Mikrostrukturen wie MEMS, MOMES, BioMEMS und LIGA-Mikroteilen. Die Produkte lassen sich mit Nanopartikeln funktionalisieren, um spezifische elektrische, thermische, physikalische oder optische Eigenschaften zu erreichen; es gibt außerdem bioverträgliche, toxizitätsfreie SU-8-Photoresiste für Mikrofluidik und neurale Anwendungen. Das Leistungsspektrum reicht von maßgeschneiderten Resist-Formulierungen, Masken- und Funktionsdesign, Prozessentwicklung und Machbarkeitsstudien bis zu Prototyping, Foundry-Dienstleistung in Semi-Volumenproduktion, Assembly und Packaging. Abnehmer sind Unternehmen, Universitäten, Biotechs, Pharmakonzerne und Start-ups in Branchen wie Photonik, Mikrofluidik/MedTech, Uhrenindustrie, Inkjet- und Displaytechnik sowie Automotive-Sensoren.

## Verfahren & technische Grenzen

- Herstellung von SU-8 Photoepoxy-Mikrostrukturen (MEMS, MOMES, BioMEMS, LIGA)
- UV-LIGA Mikrofabrikation
- Microstereolithography (3D-Mikro-Stereolithografie)
- Electroforming / Galvanik für LIGA-Microparts (Gears, Federn, Greifer, Metallteile)
- Micro-Mold Fabrication (SU8 Master, SU8 Cap, Cavities)
- Nanoimprint-Lithografie
- Beschichtung mit Nanopartikeln (Coating Nanoparticles, Pips coating)
- e-Beam Lithografie (E-Beam Resist)
- MEMS/MOMES/LIGA Prozessentwicklung, Prototyping, Foundry Service (semi volume production)
- Packaging and Assembly (WLP, CSP, Bonding, Microfluidic Assembly)
- Mask Design / Functional Design / Feasibility Studies / Reliability Testing

## Standorte

- Pully – Hauptsitz, Entwicklung und Produktion

## Historie

- 2003: Wissenschaftliche Publikationen zu Photopolymer-Mikrostrukturen, UV-LIGA und Mikrostereolithographie (EPFL-Forschung)
- 2004: Gründung als Spin-off der EPFL in der Schweiz

## Kontakt

- General-Guisan 26
- 1009 Pully
- +41 (0)21 728 35 83
- info@gersteltec.ch
