# Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

> Entwickelt und fertigt Lasersysteme für hochpräzise maskenlose Lithographie und Nanofabrication.

## Auf einen Blick

- **Ort:** Deutschland
- **Website:** https://heidelberg-instruments.com
- **Verfahren:** Maskless Laser Lithography, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL), Grayscale Lithography, Direct Laser Sublimation, In-situ Inspection & Metrology (Closed-Loop Lithography), Accurate Pattern Placement (Alignment/Overlay), Photomask Manufacturing, Maskless Aligner Exposure (MLA), Kundenspezifische Lithographie-Lösungen, Training und Support in Process and Application Labs (PAL), Weltweiter Service und Support, In-situ-Inspektion & Metrologie
- **Werkstoffe:** PPA (Polyphthalaldehyde thermal resist), i-line resist, Glas (Glass substrates), Chrom, Zerodur (sample chuck material), Silicon, Graphene, Mica (Glimmer), ZnSe
- **Zertifikate:** ISO 9001, In-situ-Inspektion & Metrologie
- **Branchen:** Halbleiter, Advanced Packaging, Displays, Mikrooptik und Photonik, MEMS, Quantengeräte, Sensoren, Biotechnologie und Medizintechnik, Mikrofluidik, Materialwissenschaften, Nanoimprint Templates, Photomasken, High-Security Printing, Mikroelektronik und Nanoelektronik, 1D & 2D-Materialien, Mikrofluidik und Nanofluidik
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/heidelberg-instruments-mikrotechnik

## Über uns

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH ist ein Hersteller von hochpräzisen Laserlithographie-Systemen, Maskless Alignern und Nanofabrication-Werkzeugen. Das Portfolio reicht von kompakten Tischgeräten für Prototyping und Forschung bis zu High-End-Anlagen für Photomaskenfertigung und hochvolumige industrielle Produktion. Die Systeme ermöglichen 2D-Strukturierung sowie komplexe 2.5D-Strukturen mittels Graustufen-Lithographie, ergänzt durch Thermal Scanning Probe Lithography (NanoFrazor) mit In-situ-Inspektion und Metrologie. Seit rund 40 Jahren sind über 1.500 Systeme weltweit installiert; Kunden sind führende Unternehmen, Universitäten und Forschungsinstitute. In den Process and Application Labs (PAL) in Deutschland, der Schweiz und China arbeiten Ingenieure eng mit Kunden zusammen und bieten Schulung und Support. Einsatzfelder umfassen Mikrooptik und Photonik, Halbleiter und Advanced Packaging, MEMS, Quantengeräte, Mikrofluidik, Biotechnologie, Displays, Nanoimprint-Templates und Photomasken.

## Verfahren & technische Grenzen

- Maskless Laser Lithography
- Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL)
- Grayscale Lithography
- Direct Laser Sublimation
- In-situ Inspection & Metrology (Closed-Loop Lithography)
- Accurate Pattern Placement (Alignment/Overlay)
- Photomask Manufacturing
- Maskless Aligner Exposure (MLA), Toleranz 1 µm minimum feature size (MLA 300, Advanced Packaging)

## Maschinenpark

- Maskless Aligner Heidelberg Instruments µMLA Maskless Aligner
- Maskless Aligner Heidelberg Instruments MLA 150
- Maskless Aligner Heidelberg Instruments MLA 300
- Direct Write Laser Lithography System Heidelberg Instruments DWL 66 +
- Direct Write Laser Lithography System Heidelberg Instruments DWL 2000 GS
- Direct Write Laser Lithography System Heidelberg Instruments DWL 4000 GS
- Volume Pattern Generator Heidelberg Instruments VPG + 200
- Volume Pattern Generator Heidelberg Instruments VPG + 400
- Volume Pattern Generator Heidelberg Instruments VPG + 800
- Volume Pattern Generator Heidelberg Instruments VPG + 1400 FPD
- Volume Pattern Generator Heidelberg Instruments VPG + 1850 FPD
- Maskless Stepper Heidelberg Instruments VPG 300 DI
- Semiconductor Mask Writer Heidelberg Instruments ULTRA
- Thermal Scanning Probe Lithography System Heidelberg Instruments NanoFrazor

## Standorte

- Deutschland – Prozess- und Anwendungslabor (PAL)
- Schweiz – Prozess- und Anwendungslabor (PAL)
- China – Prozess- und Anwendungslabor (PAL)

## Historie

- 1980er: Ursprünge der Thermal Scanning Probe Lithographie im Millipede-Projekt bei IBM Research – Zurich
- : Über 40 Jahre aktiv in der Mikro- und Nanofabrikation mit über 1.500 installierten Systemen weltweit
- : Kommerzialisierung der t-SPL-Technologie über die NanoFrazor-Plattform