# Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

> Entwickelt und fertigt Laserlithografie-, Maskless-Aligner- und Nanofabrikationssysteme für Mikro- und Nanostrukturierung.

## Auf einen Blick

- **Ort:** Heidelberg
- **Website:** https://heidelberg-instruments.com
- **Verfahren:** Maskless Laser Lithography (Direktschreib-Lithographie, 2D- und 2.5D-Grayscale-Strukturierung), Maskless Lithography für Advanced Packaging mit 1 µm minimum feature size, High & Ultra-High Resolution Lithographie (200 nm optisch, 15 nm isolierte Feature-Größe), Grayscale Lithographie (65.536 Graustufen, Photoresiste bis 150 µm dick), High Aspect Ratio Microstructures in dicken Photoresisten (Seitenverhältnisse bis 40:1, SU-8 bis, Thermal Scanning Probe Lithography, Single-Step 3D Patterning von Negativresisten via Maskless Aligner (doppelt-reentrante Strukturen,, Photomasken-Herstellung für High-Volume-Industrieproduktion, Kundenspezifische Lithografie-Lösungen, Training und Support an Process and Application Labs (PAL), Anwendungs- und Prozessunterstützung
- **Werkstoffe:** SU-8, PPA Resist, AZ 125nXT, AZ 9260, mr-DWL 40, AZ nLoF 2070, Silicium, Gold, Aluminiumoxid, Chrom, Siliciumdioxid
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/heidelberg-instruments-mikrotechnik-ca91

## Über uns

Heidelberg Instruments ist ein Hersteller von Hochpräzisions-Laserlithografiesystemen, Maskless Alignern und Nanofabrikationswerkzeugen mit Sitz in Heidelberg. Das Portfolio reicht von kompakten Tabletop-Systemen für Prototyping und Forschung bis zu Anlagen für die Photomasken- und Produktionstechnik im High-Volume-Industriemaßstab. Die Systeme ermöglichen 2D- und 2.5D-Strukturierung inklusive Grayscale-Lithografie mit 65.536 Graustufen, Direktschreib-Lithografie ohne Masken, Thermal Scanning Probe Lithographie sowie Single-Step-3D-Patterning in Negativresisten. Es werden dichte Photoresiste wie SU-8 bis 800 µm Schichtdicke einstuftig belichtet, mit Seitenverhältnissen bis 40:1; die optische Auflösung reicht bis 200 nm, die Thermal Scanning Probe Lithographie bis zu 15 nm isolierter Feature-Größe. Abnehmer sind Unternehmen, Universitäten und Forschungsinstitute, unter anderem in Mikrooptik, Photonik, Halbleitern, Advanced Packaging, MEMS, Mikrofluidik, Quantengeräten und Biotechnologie. Über 1.500 Systeme sind weltweit installiert; an den Process and Application Labs (PAL) in Deutschland, der Schweiz und China werden Training und Prozessunterstützung angeboten.

## Verfahren & technische Grenzen

- Maskless Laser Lithography (Direktschreib-Lithographie, 2D- und 2.5D-Grayscale-Strukturierung)
- Maskless Lithography für Advanced Packaging mit 1 µm minimum feature size
- High & Ultra-High Resolution Lithographie (200 nm optisch, 15 nm isolierte Feature-Größe)
- Grayscale Lithographie (65.536 Graustufen, Photoresiste bis 150 µm dick)
- High Aspect Ratio Microstructures in dicken Photoresisten (Seitenverhältnisse bis 40:1, SU-8 bis
- Thermal Scanning Probe Lithography
- Single-Step 3D Patterning von Negativresisten via Maskless Aligner (doppelt-reentrante Strukturen,
- Photomasken-Herstellung für High-Volume-Industrieproduktion

## Maschinenpark

- Maskless Aligner (Laserlithographiesystem für Produktion) Heidelberg Instruments MLA 300
- Maskless Aligner Heidelberg Instruments MLA 150
- Laserlithographiesystem (Direct Write) Heidelberg Instruments DWL 66+
- Thermal Scanning Probe Lithography System Heidelberg Instruments Nano NanoFrazor

## Standorte

- Heidelberg – Hauptsitz und Systementwicklung

## Historie

- : Über 40 Jahre Erfahrung in Mikro- und Nanofabrikation; mehr als 1.500 Systeme weltweit installiert.

## Kontakt

- Mittelgewannweg 27
- 69123 Heidelberg
- +49 6221 728899-0