# Indigo Optical Systems GmbH

> Entwicklung von Optikinstrumenten für lasergetriebene EUV-Quellen aus VUV bis Soft-X-Ray.

## Auf einen Blick

- **Website:** https://indigo-optics.com/
- **Verfahren:** Custom Optical Solutions – Instruments für VUV (~200 nm) bis EUV und Soft X-Ray (SXR, ~2 nm), Non-Destructive EUV Inspection – digitale Mikroskopie zur zerstörungsfreien Inspektion von Optiken,, Beamline Design & Spectrometry – hochauflösende Spektrometer, Monochromatoren, Reflektometer und, Attosecond & Time-Resolved Experiments – Pump-Probe-Experimente mit Attosekunden-Auflösung, Angle-resolved photoelectron spectroscopy (ARPES), Near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS), Coherent diffraction imaging (CDI), Reflectometry & Scatterometry, Kundenspezifische Optiklösungen (VUV–EUV–SXR), Zerstörungsfreie EUV-Inspektion / digitale Mikroskopie, Beamline-Design, Spektrometrie (Spektrometer, Monochromatoren, Reflektometer, Interferometer), Lösungen für Attosekunden-/zeitaufgelöste Pump-Probe-Experimente
- **Werkstoffe:** EUV- und SXR-Optiken, High-Harmonic Generation, Plasmabasierte Quellen, Synchrotron-Strahlung, Freie-Elektronen-Laser
- **Branchen:** Wissenschaftliche Forschung, Halbleiterindustrie, Ultrafast Science
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/indigo-optical-systems

## Über uns

Indigo Optical Systems GmbH entwickelt leistungsfähige optische Instrumente für lasergetriebene EUV-Quellen und bedient damit sowohl die wissenschaftliche Forschung als auch die Halbleiterindustrie. Das Portfolio umfasst kundenspezifische Optiklösungen vom Vakuum-Ultraviolett (VUV, ca. 200 nm) bis zum extremen Ultraviolett (EUV) und weichen Röntgenlicht (SXR, ca. 2 nm) für Spektroskopie, Imaging und Diagnostik. Darüber hinaus bietet das Unternehmen zerstörungsfreie EUV-Inspektion mittels digitaler Mikroskopie für Optiken, Masken, Logikbauelemente, Wafer und integrierte Schaltungen sowie Beamline-Design und Spektrometrie mit hochauflösenden Spektrometern, Monochromatoren, Reflektometern und Interferometern. Weitere Schwerpunkte liegen auf Lösungen für Attosekunden- und zeitaufgelöste Pump-Probe-Experimente sowie Anwendungen wie ARPES, NEXAFS, coherent diffraction imaging, Reflektometrie und Scatterometrie. Unterstützte Lichtquellen sind High-Harmonic Generation, plasmabasierte Quellen, Synchrotrons und Freie-Elektronen-Laser.

## Verfahren & technische Grenzen

- Custom Optical Solutions – Instruments für VUV (~200 nm) bis EUV und Soft X-Ray (SXR, ~2 nm)
- Non-Destructive EUV Inspection – digitale Mikroskopie zur zerstörungsfreien Inspektion von Optiken,
- Beamline Design & Spectrometry – hochauflösende Spektrometer, Monochromatoren, Reflektometer und
- Attosecond & Time-Resolved Experiments – Pump-Probe-Experimente mit Attosekunden-Auflösung
- Angle-resolved photoelectron spectroscopy (ARPES)
- Near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS)
- Coherent diffraction imaging (CDI)
- Reflectometry & Scatterometry

## Historie

- 2021: ISO-Veröffentlichungsdatum der Website im Januar 2021; Jahresangabe bezieht sich auf dieses Datum.