# METRONICS Semiconductor Equipment GmbH

> Geräte und Module für Megaschall-Reinigung, Substrattrocknung und Medientemperierung für die nasschemische Produktion.

## Auf einen Blick

- **Website:** https://www.metronics-semi.de/
- **Gegründet:** 2001
- **Verfahren:** Megaschall-Reinigung von Wafern und Substraten, Ultraschall-Reinigung, Trocknung von Wafern und Substraten (Spin Dryer), Temperierung der Prozessmedien, Megaschall-/Ultraschall-Reinigungssysteme, Substrattrocknung (Spin Dryer), Medientemperierung, Substratreinigungsmodule, Prozesstanks aus hochreinem Quarz, hochreine Ventile und Verschraubungen, kundenspezifische PFA-Schlauchleitungen, individuelle Anpassung an Applikationen, Entwicklung, CAD-Konstruktion, Consulting
- **Werkstoffe:** Quarz (hochrein, für Prozesstanks), PFA (Schlauchleitungen), PFA, hochreiner Quarz
- **Branchen:** Halbleiterindustrie, Solarindustrie, Optikindustrie, Chemieindustrie, Medizintechnik, Forschung, Forschungsinstitute
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/metronics-semiconductor-equipment

## Über uns

Die METRONICS Semiconductor Equipment GmbH bietet Geräte und Module an, die in der nasschemischen Produktion von Halbleiter-, Optik- und Medizinprodukten verwendet werden. Das Produktspektrum umfasst Substratreinigungsmodule, Substrattrocknungsmodule, Geräte zur Temperierung der Prozessmedien, Prozesstanks aus hochreinem Quarz sowie hochreine Ventile, Verschraubungen und kundenspezifisch vorgeformte, formstabile PFA-Schlauchleitungen. Ein Teil der Produkte, darunter das Megaschall-Reinigungssystem, wird selbst entwickelt und hergestellt und wird bei Wafer- und Chipherstellern sowie Forschungsinstituten weltweit eingesetzt. Standardprodukte können auf Anforderung an beliebige Applikationen angepasst werden, um Prozessergebnisse, Geräte-Lebensdauer und Produktionsdurchsatz zu verbessern. Das Unternehmen wird von den Gründern Dipl.Ing. (FH) Marco Meyer und Dipl.Ing. (TH) Rosemarie Kehr geführt, die über langjährige Erfahrung in Herstellung, Vertrieb und Service von Halbleiteranlagen verfügen.

## Verfahren & technische Grenzen

- Megaschall-Reinigung von Wafern und Substraten
- Ultraschall-Reinigung
- Trocknung von Wafern und Substraten (Spin Dryer)
- Temperierung der Prozessmedien

## Maschinenpark

- Megaschall-Reinigungssystem METRONICS Semiconductor Equipment GmbH
- Substratreinigungsmodul METRONICS Semiconductor Equipment GmbH
- Substrattrocknungsmodul METRONICS Semiconductor Equipment GmbH
- Gerät zur Medientemperierung METRONICS Semiconductor Equipment GmbH
- Prozesstank aus hochreinem Quarz METRONICS Semiconductor Equipment GmbH

## Historie

- 2001: Aufnahme der Geschäftstätigkeit durch die Gründer Marco Meyer und Rosemarie Kehr.
