# Tekscend Photomask Corp.

> Hersteller von Photomasken, Silizium-Stencil-Masken und Formen für die Nanoimprint-Lithographie für die Halbleiterindustrie

## Auf einen Blick

- **Ort:** 105-7133 Tokio
- **Website:** https://www.photomask.com/en/
- **Verfahren:** Photomask-Herstellung (Photomasks for Semiconductors), Molds for Nanoimprinting / Nanoimprint Lithography (NIL), Silicon Stencil Mask, Photomasks for Various Applications, Multibeam Mask Writing (Mask Writer, Kooperation mit IMS Nanofabrication), Photomasken für Halbleiter, Formen für Nanoimprinting (NIL), Silizium Stencil Masks, Photomasken für verschiedene Anwendungen
- **Werkstoffe:** Silizium, Multibeam Mask Writing, Nanoimprint-Lithographie
- **Branchen:** Halbleiterindustrie
- **Profil:** https://amplifa-marketplace.com/anbieter/tekscend-photomask-corp

## Über uns

Tekscend Photomask Corp. ist ein Anbieter von Photomasken für die Halbleiterfertigung mit Hauptsitz im Shiodome City Center in Tokio. Das Produktportfolio umfasst Photomasken für Halbleiter, Photomasken für verschiedene weitere Anwendungen, Silizium-Stencil-Masken sowie Formen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL). Die Fertigung basiert auf moderner Mikrostrukturierungstechnik; im europäischen Standort Dresden wurde gemeinsam mit IMS Nanofabrication der erste Multibeam Mask Writer Europas vorgestellt, der das Schreiben von Photomasken mit Multibeam-Technologie ermöglicht. 2025 nahm Tekscend Photomask Japan eine neue NIL-Fertigungslinie in Betrieb und kündigte Investitionen in die Photomask Writing-Kapazität in Europa sowie ein neues Werk in Singapur an. Das Unternehmen beliefert die Halbleiterindustrie weltweit und versteht sich nach eigener Aussage als erster Wahl für seine Kunden.

## Verfahren & technische Grenzen

- Photomask-Herstellung (Photomasks for Semiconductors)
- Molds for Nanoimprinting / Nanoimprint Lithography (NIL)
- Silicon Stencil Mask
- Photomasks for Various Applications
- Multibeam Mask Writing (Mask Writer, Kooperation mit IMS Nanofabrication)

## Maschinenpark

- Multibeam Mask Writer IMS Nanofabrication

## Standorte

- Tokio – Hauptsitz
- Dresden – Europastandort mit Photomask Writing-Kapazität
- Singapur – Neues Werk (Spatenstich 2025)

## Historie

- 2024: Gemeinsame Präsentation des ersten Multibeam Mask Writers Europas mit IMS Nanofabrication bei AMTC Dresden (11.11.2024).
- 2024: Partnerschaftsvereinbarung mit Shiga Lakes (26.12.2024).
- 2025: Einführung neuer Unternehmens-MVV (01.04.2025).
- 2025: Inbetriebnahme einer neuen Nanoimprint-Lithographie-(NIL)-Fertigungslinie in Japan (15.07.2025).
- 2025: Kapazitätsausbau in Europa durch strategische Investition in Photomask Writing (21.07.2025).
- 2025: Spatenstich für ein neues Werk in Singapur (31.10.2025).
- 2026: MOU über Investitionsförderung mit Icheon City, Südkorea (30.03.2026).
- 2026: Ausstellung und Vortrag bei NNT 2026 (07.10.2026).

## Kontakt

- Shiodome City Center, 1-5-2 Higashi-Shimbashi, Minato-ku
- 105-7133 Tokio
- +81-3-5418-3905