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3D-Micromac – Fertigung

Entwicklung und Fertigung von Lasersystemen für Mikrobearbeitung sowie Laser-Auftragsfertigung

3D-Micromac Logo

3D-Micromac AG

09126 Chemnitz (Technologie-Campus 8)Neu auf Amplifa

2002Gegründet in Chemnitz
190+Mitarbeitende
Technologie-Campus 8, ChemnitzHauptsitz
HRB 20011, ChemnitzHandelsregister
ISO 9001 seit 2003Zertifiziert

Über 3D-Micromac

Die 3D-Micromac AG wurde 2002 in Chemnitz gegründet und beschäftigt heute mehr als 190 Mitarbeitende. Das Unternehmen entwickelt Prozesse, Maschinen und Turnkey-Lösungen für die Laser-Mikrobearbeitung, insbesondere mit Ultrakurzpuls-Lasern (Femtosekunden/Pikosekunden), Nanosekunden-Lasern und Excimer-Lasern; über 100 von 3D-Micromac gebaute Excimer-Lasersysteme sind in industrieller Nutzung. Das Portfolio umfasst Wafer-Dicing mit TLS-Dicing (Thermal Laser Separation), Laser-Annealing für ohmsche Kontaktformierung auf SiC-Wafern, selektives Laser-Annealing für GMR/TMR-Magnetfeldsensoren, Laser-Trimming und Link Cutting, laserbasierte Probenpräparation für SEM- und TEM-Analyse, Mikrobohren und Laser-Markierung. Bearbeitet werden Halbleiter-Wafer wie Silizium und Siliziumkarbid (SiC) sowie Glas und Metalle. Neben dem Systemgeschäft bietet das Unternehmen im Applikationslabor Prozess- und Technologieentwicklung von der Feasibility bis zur Kleinserie sowie Laser-Auftragsfertigung (Contract Manufacturing) für Klein- und Großserien. Zielbranchen sind Halbleiterindustrie, Photovoltaik, Glas- und Displaytechnik, Mikrodiagnostik, Elektronikfertigung, Medizintechnik und ophthalmische Optik. Standort ist der Technologie-Campus 8 in Chemnitz.

Standort
Chemnitz
Verfahren
Laser-Mikrobearbeitung (Laser Micromachining) mit Ultrakurzpuls-Lasern (fs/ps) und, Excimer-Laser-Mikrobearbeitung, Wafer-Dicing mittels TLS-Dicing (Thermal Laser Separation), Laser-Annealing für die ohmsche Kontaktformierung (OCF) auf SiC-Wafer-Rückseiten, Selektives Laser-Annealing für monolithische magnetische Sensoren (GMR/TMR), Laser-Trimming / Link Cutting auf Halbleiter-Chips (Programmierung digitaler Logikschaltungen,, Laserbasierte Probenpräparation für SEM, TEM und Mikromechanik (Cross-Sections, TEM Lift-Out,, Laser-Micro-Drilling (Mikrobohren, z. B. Düsenherstellung per Excimer-Laser)
Werkstoffe
Siliziumkarbid (SiC), Silizium (Halbleiter-Wafer), Glas, Ultrakurzpuls-Laser (fs/ps), Excimer-Laser, TLS-Dicing (Thermal Laser Separation)
Zertifikate
DIN EN ISO 9001:2015, ISO 9001:2015
Gegründet
2002
Mitarbeiter
190+
Branchen
Halbleiterindustrie, Photovoltaik, Glas- und Displaytechnik, Mikrodiagnostik und Failure Analysis, Elektronikfertigung, Medizintechnik
  1. 01

    Prozess- und Technologieentwicklung im Applikationslabor

  2. 02

    Prototypen- und Kleinserienfertigung

  3. 03

    Laser-Auftragsfertigung (Contract Manufacturing)

  4. 04

    Systembau und Turnkey-Lieferung

  5. 05

    Inbetriebnahme und Kundenschulung

  6. 06

    Wartung, Servicelevel-Verträge und Ersatzteilmanagement

Werkstoffe & Laserverfahren

USP

Ultrakurzpuls-Laser (fs/ps)

Präzise Mikrobearbeitung von Halbleiter-Wafern, Glas und Metallen mit minimaler Wärmeeinwirkung.

EXCIMER

Excimer-Laser

Industrielle Mikroprozessierung, z. B. Düsenbohren und Markierung ophthalmischer Linsen.

TLS

TLS-Dicing (Thermal Laser Separation)

Spanungsfreies Wafer-Dicing von Silizium- und SiC-Wafern mit erhöhter Ausbeute.

Si

Silizium (Halbleiter-Wafer)

Substrat für Dicing, Laser-Trimming und Laser Contact Opening in der Photovoltaik.

SiC

Siliziumkarbid (SiC)

Substrat für Wafer-Dicing und Laser-Annealing zur ohmschen Kontaktformierung in Leistungshalbleitern.

Glas

Glas

Bearbeitung für Glas- und Displaytechnik-Anwendungen.

Standorte

Standort Chemnitz

Chemnitz

DE

Hauptsitz, Entwicklung, Fertigung und Applikationslabor

Losgröße
Kleinserien bis Großserien (Contract Manufacturing)
Werkstoffe
Halbleiter-Wafer (Si, SiC), Glas, Metalle
  • microPREP PRO FEMTO (Femtosekunden-Lasersystem)
  • microPREP L
  • microDICE (TLS-Dicing)
  • microPRO XS OCF
  • microVEGA xMR
  • microVEGA FC
  • microCELL TLS
  • microCELL OTF
  • microFLEX

Systeme & Bauteile

microPREP® PRO FEMTO – Laser-Probenpräparationssystem
microPREP® PRO FEMTO – Laser-ProbenpräparationssystemFemtosekunden-Laser · Mikrodiagnostik/Failure Analysis
microPREP® L – Probenpräparation für Whole-Wafer- und System-Level-Analyse
microPREP® L – Probenpräparation für Whole-Wafer- und System-Level-AnalyseLaser-Mikrobearbeitung · Halbleiterindustrie
microPREP® PRO im Einsatz
microPREP® PRO im EinsatzLaser-Probenpräparation · Mikrodiagnostik

Einblicke in die Fertigung

Applikationslabor mit Lasersystemen
Applikationslabor mit Lasersystemen
Mikrodiagnostik und Failure Analysis
Mikrodiagnostik und Failure Analysis
ISO 9001-Zertifikat (TÜV SÜD)
ISO 9001-Zertifikat (TÜV SÜD)
Firmengelände am Technologie-Campus Chemnitz
Firmengelände am Technologie-Campus Chemnitz

Branchen

HalbleiterindustriePhotovoltaikGlas- und DisplaytechnikMikrodiagnostik und Failure AnalysisElektronikfertigungMedizintechnikOphthalmische Optik

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Laser-Mikrobearbeitung (Laser Micromachining) mit Ultrakurzpuls-Lasern (fs/ps) undZerspanung––––Halbleiter-Wafer, Glas, Metalle
Excimer-Laser-MikrobearbeitungZerspanung–––––
Wafer-Dicing mittels TLS-Dicing (Thermal Laser Separation)Zerspanung––––Siliziumkarbid (SiC), Halbleiter-Wafer
Laser-Annealing für die ohmsche Kontaktformierung (OCF) auf SiC-Wafer-RückseitenWärmebehandlung––––Siliziumkarbid (SiC), metallisierte Wafer-Rückseiten
Selektives Laser-Annealing für monolithische magnetische Sensoren (GMR/TMR)Wärmebehandlung–––––
Laser-Trimming / Link Cutting auf Halbleiter-Chips (Programmierung digitaler Logikschaltungen,Zerspanung–––––
Laserbasierte Probenpräparation für SEM, TEM und Mikromechanik (Cross-Sections, TEM Lift-Out,Prüfung–––––
Laser-Micro-Drilling (Mikrobohren, z. B. Düsenherstellung per Excimer-Laser)Zerspanung–––––
Laser-Markierung (z. B. Markierung von ophthalmischen Linsen)Oberfläche–––––
Laser-Vertragsfertigung (Contract Manufacturing) von Komponenten für Klein- und GroßserienZerspanung–––Kleinserien – Großserien–
Applikations- und Prozessentwicklung (Feasibility, Prototypen, Funktionale Prototypen, Kleinserien)Engineering–––––
Laser-Kontaktöffnung (Laser Contact Opening) für Photovoltaik-ProduktionssystemeOberfläche––––Silizium (Solarzellen)

9 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
Laser-Mikrobearbeitungssystem für Probenpräparation (Femtosekunden-Laser)3D-Micromac microPREP PRO FEMTO–––Chemnitz
Laser-Probenpräparationssystem für Whole-Wafer- und System-Level-Failure-Analysis3D-Micromac microPREP L––––
Wafer-Dicing-System mit TLS-Dicing (Thermal Laser Separation)3D-Micromac microDICE––––
Laser-Annealing-System für OCF (UV-DPSS-Laser, ns-Pulse, Spot-Scanning)3D-Micromac microPRO XS OCF––––
Selektives Laser-Annealing-System für magnetische Sensoren (GMR/TMR)3D-Micromac microVEGA xMR––––
Laser-Mikroprozessierungssystem (High-Throughput, Trimming/Link Cutting)3D-Micromac microVEGA FC––––
Laser-System für Photovoltaik (Laser Contact Opening)3D-Micromac microCELL TLS––––
Laser-System für Photovoltaik (On-The-Fly)3D-Micromac microCELL OTF––––
Laser-System für flexible Elektronik / Roll-to-Roll3D-Micromac microFLEX––––

Zusatzleistungen

Laser-Auftragsfertigung (Contract Manufacturing)Prozess- und Technologieentwicklung im ApplikationslaborInbetriebnahme, Installation und Service (weltweit, 24/7-Hotline)KundenschulungenWartungs- und Servicelevel-VerträgeErsatzteilmanagementProduktkonfigurator für Lasersysteme

Qualität

Seit 2003 ist das Unternehmen nach DIN EN ISO 9001:2015 zertifiziert (TÜV SÜD, Zertifikat Nr. 12 100 44518 TMS), umfassend Entwicklung, Produktion, Vertrieb und Service der Lasersysteme. Seit 2019 ist 3D-Micromac Mitglied der Deutschen Gesellschaft für Qualität (DGQ).

NachweisChemnitz
ISO 9001:2015

Historie

  1. 2002

    Gründung der 3D-Micromac AG in Chemnitz mit sechs Mitarbeitern

  2. 2003

    Markteinführung des weltweit ersten kommerziellen Lasersystems mit Ultrakurzpuls-Laser

  3. 2004

    Entwicklung eines industrietauglichen Excimer-Lasersystems zur Markierung von Brillengläsern

  4. 2007

    Gewinner des Sächsischen Innovationspreises

  5. 2009

    Eröffnung des Firmenhauptsitzes am Technologie-Campus Chemnitz

  6. 2010

    Markteinführung von Produktionssystemen für Düsenherstellung mittels Excimer-Laser

  7. 2011

    Gewinner des SPIE Green Photonics Award und Taiwan Laser Application Excellence Award

  8. 2013

    Strategische Neuausrichtung auf industrielle Wachstumsmärkte

  9. 2014

    Gründung der 3D-Micromac America, LLC; Technologieübernahme Thermal Laser Separation (TLS-Dicing®); Markteinführung von Produktionssystemen für Laser Contact Opening

  10. 2015

    Solar Industry Award in der Kategorie 'PV Tool'

  11. 2017

    Neuer Firmenhauptsitz

  12. 2018

    Gewinner des TÜV SÜD Innovationspreises

  13. 2022

    microVEGA® XMR Laser-Annealing-System mit Laser Focus World Innovators Award ausgezeichnet

  14. 2024

    microPREP® PRO FEMTO mit Laser Focus World Innovators Award ausgezeichnet

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