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Selba – Fertigung

Fertigung von Glas- und Film-Photomasken, optischen Encoderscheiben, Linearskalen, Kalibrierplatten sowie Feinglasbearbeitung in Versoix.

Selba Logo

Selba S.A.

Versoix (Genf), SchweizNeu auf Amplifa

1948Gegründet
ca. 15Mitarbeitende
Versoix (Genf), SchweizStandort
+250'000 Glasprodukte/JahrJahresmenge
4'650Aktive Referenzen

Über Selba

Selba S.A. ist ein 1948 in Genf gegründetes Schweizer Unternehmen für Präzisionsphotolithographie und Feinglasbearbeitung. Am Standort Versoix (Route des Fayards) werden Glas- und Film-Photomasken, optische Encoder-Scheiben (inkrementell und absolut), optische Linearskalen, Kalibrierplatten und Targets sowie Mikroskop-Retikel hergestellt. Die Fertigung umfasst hochauflösendes Laser-Photoplotting bis 50'800 dpi, Chrom- und antireflektierende Beschichtungen sowie 2D-Feinglasbearbeitung (Schneiden, Dicing, Bohren, Fasen) an Substraten bis 0,1 mm Dicke mit werkseigen entwickelten Maschinen; zusätzlich werden Glas, Keramik und Polymere verklebt. Werkstoffe sind Sodalime-Glas, Quarz (Fused Silica), D263, Schwarzglas, optisches Filterglas, Film und Aluminium. Rund 15 Mitarbeitende produzieren über 250'000 Glasprodukte und über 35'000 Filmprodukte pro Jahr für Halbleiter, Elektronik/PCB, Medizintechnik, Luft- und Raumfahrt, Automation, Optik & Photonik, Uhrenindustrie, Mikrofluidik und New Space; Kunden stehen in 21 Ländern.

Standort
Versoix
Verfahren
Glas-Photomasken (Chrom auf Glas, Laserphotoplotting), Optische Encoder-Scheiben (inkrementell & absolut, Photolithografie), Optische Linearskalen (Photolithografie bis 50.800 dpi), Film-Photomasken (Laserphotoplotting), Kalibrierplatten & -targets (Präzisions-Graduierungen), Feinglasbearbeitung (2D, Schneiden, Profilschneiden, Bohren, Dicing, Fasen), Chrom- und Antireflex-Beschichtung, Hochauflösendes Laser-Photoplotting bis 50.800 dpi
Werkstoffe
Sodalime (Soda-Lime-Glas), Quartz (fused silica), D263, Black glass (Dunkelglas / B270 tinted), Optical filter glass, Borosilicate glass (inkl. Sodalime-Varianten), Film, Aluminium
Zertifikate
100%-Inspektion vor Versand, R&D-File-Review vor jeder Produktion, ISO 9001 (belegt)
Gegründet
1948
Mitarbeiter
ca. 15
Branchen
Halbleiter & Mikroelektronik, Elektronik/PCB, Medizintechnik, Luft- & Raumfahrt, Industrial Automation & Robotik, Optik & Photonik
  1. 01

    R&D-File-Review & Konstruktionsunterstützung

  2. 02

    Artwork-Generierung

  3. 03

    Laser-Photoplotting / Direct-Write

  4. 04

    Chrom- & Antireflex-Beschichtung

  5. 05

    Feinglasbearbeitung (Schneiden, Bohren, Dicing, Fasen)

  6. 06

    Verkleben von Glas, Keramik, Polymeren

  7. 07

    100%-Endkontrolle vor Versand

Werkstoffe & Verfahren

SL

Sodalime-Glas

Standardsubstrat für UV-Lithographie mit guter Dimensionsstabilität (≈9 ppm/°C).

QZ

Quarz (Fused Silica)

Für Deep-UV-Anwendungen bis 193 nm mit sehr niedriger Wärmeausdehnung (≈0,55 ppm/°C).

D263

SCHOTT D263

Spezialglas für Encoder-Scheiben, Skalen und Kalibrierplatten.

B270

Schwarzglas (B270 getönt)

Dunkles Substrat mit hoher optischer Dichte für Encoder-Skalen.

FILM

Film (teilw. Aluminium-beschichtet)

Kostengünstige, flexible Substratvariante für Photomasken und Encoder mit 24h-Versand.

Al

Aluminium

Substrate ab 0,2 mm Dicke für leichte Encoder-Scheiben und Linearskalen.

Cr

Chrom (reflektierend/antireflektierend)

Absorber- und Kontrastschicht auf Glas- und Filmsubstraten.

CER/POL

Keramik & Polymere

Werkstoffe für Feinbearbeitung und Verklebung.

Standort

Standort Versoix

Versoix

CH

Hauptsitz & Produktion (Reinräume, Photolithographie, Feinglasbearbeitung)

Stückgewicht / Größe
Glas- und Filmsubstrate, Encoder-Ø bis 290 mm, Linearskalen
Losgröße
Prototyp bis Großserie
Werkstoffe
Sodalime, Quarz, D263, Schwarzglas, Filterglas, Film, Aluminium, Chrom, Keramik, Polymere
  • Werkseigen entwickelte Feinglasbearbeitungsmaschinen
  • Laser-Photoplotter bis 50'800 dpi
  • Direct-Write-Anlage für Photomasken
  • Reinräume

Bauteile

Glas-Photomaske
Glas-PhotomaskePhotolithographie · Halbleiter & Elektronik
Optische Encoder-Scheibe
Optische Encoder-ScheibePhotolithographie · Automation & Robotik
Optische Linearskala
Optische LinearskalaPhotolithographie · Messtechnik
Film-Photomaske
Film-PhotomaskeLaser-Photoplotting · PCB & Prototyping
Feinbearbeitete Glaskomponente
Feinbearbeitete GlaskomponenteFeinglasbearbeitung · Uhrenindustrie & Medizintechnik
Optische Spiegel (Medizintechnik)
Optische Spiegel (Medizintechnik)Feinbearbeitung & Verklebung · Medizintechnik

Einblicke in die Fertigung

Präzisionsphotolithographie & Feinglasbearbeitung bei Selba in Versoix
Präzisionsphotolithographie & Feinglasbearbeitung bei Selba in Versoix
Glas-Photomaske in der Fertigung
Glas-Photomaske in der Fertigung
Aluminium-Substrate für Encoder-Skalen
Aluminium-Substrate für Encoder-Skalen
Film-Photomasken für schnelle Iteration
Film-Photomasken für schnelle Iteration
Optische Encoder-Scheiben für europäische Kleinwasserkraft
Optische Encoder-Scheiben für europäische Kleinwasserkraft
Optische Komponenten für Raumfahrtanwendungen
Optische Komponenten für Raumfahrtanwendungen

Branchen

Halbleiter & MikroelektronikElektronik/PCBMedizintechnikLuft- & RaumfahrtIndustrial Automation & RobotikOptik & PhotonikUhrenindustrieMikrofluidikMikromechanikMetrologieNew SpaceKleinwasserkraft

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Glas-Photomasken (Chrom auf Glas, Laserphotoplotting)Oberfläche–28x32 inches × 28x32 inches––Sodalime, Quartz (fused silica), Chrom (Beschichtung), antireflective chromium
Optische Encoder-Scheiben (inkrementell & absolut, Photolithografie)OberflächeAngular accuracy 2 arcsec; line width deviation ±5%Ø 200 mm (bis 290 mm auf Anfrage)––Sodalime, Quartz, D263, Black glass, Film, Aluminium, Chrom (Beschichtung)
Optische Linearskalen (Photolithografie bis 50.800 dpi)Oberfläche±0.1 mm; global length accuracy down to ±1 µm900 mm––Sodalime, Quartz, D263, Black glass, Film, Aluminium, Chrom (Beschichtung)
Film-Photomasken (Laserphotoplotting)Oberfläche–28×32 inches × 28×32 inches––Film, Aluminium (beschichtete Film-Varianten)
Kalibrierplatten & -targets (Präzisions-Graduierungen)Prüfung±0.1 mm on cut dimensions; feature accuracy up to 0.6 µm–––Sodalime, Quartz, D263, optical filter glass, Chrom (reflective/antireflective)
Feinglasbearbeitung (2D, Schneiden, Profilschneiden, Bohren, Dicing, Fasen)Zerspanungdown to 0.1 mm thickness> 200 mm × > 200 mm––Glas, Keramik, Polymere
Chrom- und Antireflex-BeschichtungOberfläche––––Chrom, antireflectives Chrom
Hochauflösendes Laser-Photoplotting bis 50.800 dpiOberfläche––––Glas, Film
Verkleben/Fügen von Glas, Keramik und PolymerenFügen––––Glas, Keramik, Polymere

3 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
In-house designed Feinglasbearbeitungs-MaschinenSelba–komplexe Profile > 200 mm; Substrate ab 0.1 mm Dicke–Versoix (Genf), Schweiz
Hochauflösender Laser-Photoplotter––bis 50.800 dpi; Film-Formate bis 28×32 inches–Versoix (Genf), Schweiz
Direct-Write-Anlage (Photomasken)––Mikron-Feature-Definition in Chrom–Versoix (Genf), Schweiz

Zusatzleistungen

Laser-Photoplotting bis 50'800 dpiGlasphotomaskenFilm-PhotomaskenOptische Encoder-Scheiben (inkrementell/absolut)Optische LinearskalenKalibrierplatten & TargetsFeinglasbearbeitung bis 0,1 mmChrom- & antireflektierende BeschichtungKonstruktionsunterstützung / R&D-Datei-Review24h-Versand bei Film-Photomasken100%-Inspektion vor VersandVerklebung von Glas, Keramik und Polymeren

Referenzkunden

Swiss Watchmaking Maisons (namentlich nicht genannt)

Qualität

Jedes Produkt durchläuft eine 100%-Inspektion vor Versand mit voller Rückverfolgbarkeit vom Artwork-Eingang bis zur Auslieferung; Toleranzen liegen im Mikronbereich (z. B. Feature-Genauigkeit bis 0,6 µm, Winkelgenauigkeit 2 Bogensekunden).

NachweisVersoix
100%-Inspektion vor Versand
R&D-File-Review vor jeder Produktion
ISO 9001 (belegt)

Historie

  1. 1948

    Ferdinand Mettaz gründet das Atelier 'Selbaresim' in Genf (Name rückwärts von 'les Misérables'), später gekürzt zu Selba.

  2. 1960

    Michel Burkhalter tritt ein und entwickelt eine Maschinenflotte speziell für Glasbearbeitung.

  3. 1980

    Umwandlung zur Société Anonyme; Michel Burkhalter wird Partner neben Daniel Mettaz.

  4. 2006

    Daniel Mettaz wird Alleinaktionär; Fokus auf Photolithographie und Glaskomponenten.

  5. 2015

    Umszug an die Route des Fayards in Versoix mit Reinräumen und Sondermaschinen.

  6. 2026

    Übernahme durch eine Investorengruppe; Bastien Musy wird Aktionär und CEO, Daniel Mettaz bleibt Verwaltungsrat und Aktionär.

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