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Entwicklung und Fertigung von Ultraschall- und Megasonic-Reinigungssystemen im Frequenzbereich 400 kHz bis 9 MHz
Sonosys GmbH
Neuenbürg, DeutschlandNeu auf Amplifa
Über Sonosys
Die Sonosys GmbH mit Sitz in Neuenbürg (Baden-Württemberg) entwickelt, produziert und vertreibt Ultraschall- und Megasonic-Reinigungssysteme für die Reinigung von Mikro- und Nanostrukturen. Das Unternehmen beherrscht die Herstellung von Hochfrequenz-Ultraschallsystemen im Bereich von 400 kHz bis 9 MHz und bietet Megasonic-Generatoren, -Wandler sowie Düsen-Systeme in Single-, Dual- und Triple-Ausführung an. Die Lösungen entfernen kleinste Partikel und Kontaminationen bis in den Nanometerbereich von Wafern, Photomasken und Substraten und werden als Single- und Batch-Anwendungen in Wet-Cleaning-Anlagen integriert. Hauptmärkte sind die Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik/MEMS, Optik, Solar/PV sowie die Ligationstechnik und Lebensmittelindustrie. Neben Standardprodukten entwickelt SONOSYS kundenspezifische Lösungen hinsichtlich Frequenz, Modulation, Abmessungen und Leistung; Demo-Systeme können für Tests beim Kunden gemietet werden. 2022 wurde das Unternehmen von Semiconductorreview.com als eines der Top-5-Halbleiterunternehmen Deutschlands ausgezeichnet.
- Standort
- Neuenbürg
- Verfahren
- Megasonic cleaning (Reinigung von Mikro- und Nanostrukturen), Ultrasonic cleaning, Demo-Systeme zur Vermietung für Tests beim Kunden, Entwicklung kundenspezifischer Lösungen (Frequenz, Modulation, Abmessungen, Leistung), Anbindung/Integration in Wet-Cleaning-Anlagen
- Werkstoffe
- Megasonic-Reinigung, Ultraschall-Reinigung, Megasonic-Düsen (Single/Dual/Triple)
- Gegründet
- 1995
- Branchen
- Halbleiter (Wafer-/Photomaskenreinigung), Mikrosystemtechnik/MEMS, Optik, Solar/PV, Ligationstechnik, Lebensmittelindustrie
- 01
Entwicklung kundenspezifischer Reinigungslösungen
- 02
Fertigung von Megasonic-Generatoren und -Wandlern
- 03
Integration in Wet-Cleaning-Anlagen
- 04
Tests durch vermietbare Demo-Systeme beim Kunden
- 05
Weltweiter Vertrieb und Support
Technologien & Verfahren
Megasonic-Reinigung
Reinigung von Mikro- und Nanostrukturen auf Wafern, Photomasken und Substraten bis in den Nanometerbereich.
Ultraschall-Reinigung
Hochfrequente Reinigung von Wafern und Substraten im Frequenzbereich 400 kHz bis 5 MHz.
Megasonic-Düsen (Single/Dual/Triple)
Düsen-Systeme zur Partikelentfernung in verschiedenen Größenbereichen mit minimalem Pattern Damage.
Standort
Neuenbürg
DEHauptsitz, Entwicklung und Produktion
- Werkstoffe
- Wafer, Photomasken, Substrate
- Megasonic-Generatoren und -Wandler (400 kHz bis 9 MHz)
- Ultraschall- und Megasonic-Reinigungssysteme (400 kHz bis 5 MHz)
- Megasonic-Düsen-Systeme (Single, Dual, Triple)
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Megasonic cleaning (Reinigung von Mikro- und Nanostrukturen)Oberfläche | – | – | – | – | Wafer, Photomasks, Substrate |
| Ultrasonic cleaningOberfläche | – | – | – | – | Wafer, Substrate |
3 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Megasonic generators and transducers | SONOSYS | – | Frequenzbereich 400 kHz bis 9 MHz | – | Neuenbürg, Deutschland |
| Megasonic nozzle systems (single, dual, triple) | SONOSYS | – | – | – | – |
| Ultrasonic and megasonic cleaning systems | SONOSYS | – | Frequenzbereich 400 kHz bis 5 MHz | – | Neuenbürg, Deutschland |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Historie
- 1995
Gründung der Sonosys GmbH
- 2022
Auszeichnung als eine der 'Top 5 Semiconductor Companies' Deutschlands durch Semiconductorreview.com