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Prozess- und Anlagenentwicklung für Vakuum-Dünnschichtbeschichtung (PVD/PECVD) mit Schwerpunkt Diamantschichten.
W&L-Coating Systems GmbH
Reichelsheim (Hauptsitz)Neu auf Amplifa
Über W&L-Coating Systems
W&L-Coating Systems GmbH ist ein spezialisiertes Unternehmen mit Sitz in Reichelsheim (Wetterau) und Tochtergesellschaft von Schneider Optical Machines. Das Unternehmen entwickelt Prozesse und Produktionsanlagen für vakuumgestützte funktionale Beschichtungen – metallische, keramische und organische Schichten – auf Kundensubstraten, mit besonderem Fokus auf Kohlenstoff-Modifikationen wie polykristallinem Diamant. Kernverfahren sind das physikalische Gasphasenabscheiden (PVD/Magnetronsputtern) für extrem dünne Metall- und Keramikschichten auf großen Flächen sowie das plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheiden (PECVD) mit Mikrowellenanregung über lineare, koaxiale Plasmaquellen-Arrays, die homogene Entladungen von 1.000 mm und mehr und Flächen bis in den Quadratmeterbereich ermöglichen. Ein zentraler Baustein ist das Upscaling von Laborprozessen zu produktionsreifen Anlagen, ergänzt durch Systemauslegung, Cost-of-Ownership-Beratung sowie Charakterisierung mittels XPS und FT-IR. Eigene Anwendungen sind borondotierte Diamantelektroden für die Abwasserbehandlung und Ozonerzeugung sowie biokompatible Diamantschichten für Implantatoberflächen.
- Standort
- Reichelsheim
- Verfahren
- Physical Vapour Deposition (PVD), Magnetronsputtern, Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) mit Mikrowellenanregung, Dünnschicht-Beschichtung großer Flächen (lineare Plasmaquellen, Arrays), Diamantbeschichtung (polykristallin, borondotiert, PECVD), Quarzbeschichtung aus HMDSO/TEOS (Raten bis 1 Mikrometer pro Sekunde), Edelmetall-Dünnschichtbeschichtung auf kostengünstigen Substraten (PVD), Beschichtung von Implantatoberflächen mit Diamantschichten, Boron-doped-Diamond-Elektroden- und Zelltechnologie für Abwasserbehandlung/Ozonerzeugung
- Werkstoffe
- Diamant (polykristallin, kariert, borondotiert), Quarz (SiO2), Organisch modifizierte Keramik (SiOC), HMDSO (Hexamethyldisiloxan, Precursor), TEOS (Tetraethoxysilan, Precursor), Edelmetalle (Dünnschicht), Metallische Funktionsbeschichtungen, Keramische Funktionsbeschichtungen
- Branchen
- Abwasser-/Umwelttechnik, Medizintechnik (Implantate), Optik-/Maschinenbau, Oberflächentechnik, Medizintechnik/Implantate, Optik-/Maschinenbau (Mutterkonzern Schneider Optical Machines)
- 01
Prozessentwicklung (PVD/PECVD)
- 02
Anlagen-Layout und Systemdesign
- 03
Upscaling von Labor- zu Produktionsanlagen
- 04
Beschichtung von Kundensubstraten
- 05
Schichtcharakterisierung (XPS, FT-IR)
Schichtwerkstoffe und Verfahren
PVD / Magnetronsputtern
Abscheidung extrem dünner, dichter metallischer und keramischer Schichten auf großen Flächen durch Plasmaerosion von Targetmaterial.
PECVD (Mikrowellen-Plasma)
Abscheidung organischer, keramischer und kristalliner Schichten aus flüssigen oder gasförmigen Precursoren im Vakuumplasma.
Polykristalliner Diamant
Per PECVD abgeschiedene Diamantschichten in steuerbarer Morphologie, u. a. für biokompatible Implantatoberflächen.
Borondotierter Diamant
Elektrisch leitfähige Diamantschichten für Elektroden zur Abwasserbehandlung und Ozonerzeugung in wässriger Umgebung.
Quarz (SiO2)
Aus HMDSO oder TEOS abgeschiedene harte, kratzfeste Quarzschichten mit Raten bis zu 1 µm pro Sekunde.
Organisch modifizierte Keramik (SiOC)
Flexible, kratzfeste Quarzschichten mit geringem Kohlenstoffgehalt bei Sauerstoffmangel im Plasma.
Hexamethyldisiloxan (Precursor)
Flüssiger Precursor, der im Sauerstoffplasma zu Quarzschichten oxidierend abgeschieden wird.
Tetraethoxysilan (Precursor)
Alternativer Silizium-Precursor für die Abscheidung von Quarz- und Keramikschichten.
Edelmetall-Dünnschichten
Per PVD auf kostengünstige Substrate abgeschiedene Edelmetallschichten für Edelmetall-Oberflächeneigenschaften ohne Vollmaterialkosten.
Metallische und keramische Funktionsbeschichtungen
Funktionale Schichten auf Kundensubstraten nach standardisierten oder maßgeschneiderten Prozessen.
Standorte
Reichelsheim
DEHauptsitz: Prozessentwicklung, Anlagenbau, Beschichtung, BDD-Elektroden- und Zelltechnologie
- Losgröße
- Prototyp bis Produktion (Upscaling)
- Werkstoffe
- Diamant, borondotierter Diamant, Quarz (SiO2), SiOC, Edelmetalle, metallische und keramische Funktionsschichten
- NCS – Nano Crystalline System (Großflächen-PECVD-Plattform)
- Lineare Mikrowellen-Plasmaquellen (koaxiale Plasmalinien-Arrays)
- Vakuumbeschichtungssysteme mit Load-Locks, Ventilen und Vakuumpumpen
- XPS-Tiefenprofilanalyse
- FT-IR-Spektroskopie
Produkte und Systeme
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Physical Vapour Deposition (PVD), MagnetronsputternOberfläche | – | – | – | – | Metalle, Keramik |
| Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) mit MikrowellenanregungOberfläche | – | – | – | – | Organisch, Keramik, kristalline Schichten (Diamant), organisch modifizierte Keramik |
| Dünnschicht-Beschichtung großer Flächen (lineare Plasmaquellen, Arrays)Oberfläche | – | linearer Plasmastrahl 1.000 mm und mehr | – | – | Nano-kristalliner Diamant, Quarz (SiO2), organisch modifizierte Keramik |
| Diamantbeschichtung (polykristallin, borondotiert, PECVD)Oberfläche | – | – | – | – | Diamant, borondotierter Diamant |
| Quarzbeschichtung aus HMDSO/TEOS (Raten bis 1 Mikrometer pro Sekunde)Oberfläche | – | – | – | – | Quarz (SiO2), organisch modifizierte Keramik |
| Edelmetall-Dünnschichtbeschichtung auf kostengünstigen Substraten (PVD)Oberfläche | – | – | – | – | Edelmetalle |
| Beschichtung von Implantatoberflächen mit DiamantschichtenOberfläche | – | – | – | – | Diamant |
| Boron-doped-Diamond-Elektroden- und Zelltechnologie für Abwasserbehandlung/OzonerzeugungOberfläche | – | – | – | – | borondotierter Diamant |
| Auslegung/Design von Vakuumsystemen (Vakuumbeschichtungssysteme, Engineering)Engineering | – | – | – | – | – |
| Prozessentwicklung und Up-Scaling von Laborsystemen zu Produktionsanlagen (PVD/PECVD)Engineering | – | – | – | – | – |
| Cost-of-Ownership-Beratung für VakuumbeschichtungssystemeEngineering | – | – | – | – | – |
| XPS-Tiefenprofilanalyse (Charakterisierung)Prüfung | – | – | – | – | – |
| FT-IR-Spektroskopie (Schichtcharakterisierung)Prüfung | – | – | – | – | – |
3 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| NCS – Nano Crystalline System (Großflächen-PECVD-Plattform) | W&L Coating Systems NCS | – | Aluminiumrahmen und -flansche mit Wasserkühlung, Prozessgaszuführung, Plasmaquellenarray | – | Reichelsheim |
| Lineare Mikrowellen-Plasmaquellen (koaxiale Plasmalinien-Arrays) | W&L Coating Systems (Entwicklung Univ. Stuttgart) | – | lineare Entladungen 1.000 mm und mehr, Flächen bis in den Quadratmeterbereich | – | Reichelsheim |
| Vakuumbeschichtungssysteme mit Load-Locks, Ventilen, Vakuum-Pumpen aller Art | – | – | – | – | – |
Zusatzleistungen