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Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die optische und Elektronenstrahl-Lithographie samt Prozesschemikalien

Allresist GmbH
Am Biotop 14, 15344 StrausbergNeu auf Amplifa
Über Allresist
Die Allresist GmbH entwickelt, produziert und vertreibt Resists für die optische und die Elektronenstrahl-Lithographie sowie die dazugehörigen Prozesschemikalien für die Herstellung elektronischer Bauteile. Das Alleinstellungsmerkmal ist die Resistentwicklung nach Kundenwunsch: Mit eigenem Forschungs- und Entwicklungsbereich entstehen kostengünstige, technologieangepasste Resists in kurzer Zeit. Das Portfolio umfasst unter anderem PMMA-E-Beamresists, den E-Beam Resist AR-N 7520, den Lack AR-P 3110, das Medusa 84 SiH System, HSQ sowie PPA für Zweilagen- und Lift-off-Anwendungen. 2026 führte das Unternehmen mit AR 300-41 und AR 300-42 TMAH-freie, Cholin-Hydroxid-basierte Entwickler ein. Die Produkte werden vor allem in der Mikroelektronik, Halbleiter- und Sensorikbranche sowie an Forschungs- und Akademieeinrichtungen eingesetzt. Das Unternehmen sitzt seit der Gründung 1992 in Strausberg (Brandenburg) und hat im September 2026 das Dichtfest eines neuen Logistikzentrums gefeiert, das als rund 3-Millionen-Euro-Investition umgesetzt wird.
- Standort
- Strausberg
- Verfahren
- Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische Lithographie, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie, Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler), Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen), Resistentwicklung nach Kundenwunsch, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für Optische und Elektronenstrahl-Lithographie, Prozesschemikalien, Forschung und Entwicklung
- Werkstoffe
- Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 (45 %), Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-42 (4,3 %), PMMA-E-Beamresist, E-Beam Resist AR-N 7520, Lack AR-P 3110, Medusa 84 SiH System, HSQ (Hydrogensilsesquioxan), PPA (Polyphthalaldehyd) für Zweilagenanwendungen
- Gegründet
- 1992
- Branchen
- Mikroelektronik, Halbleiter, Sensorik, Optische Lithographie, Elektronenstrahl-Lithographie, Forschung/Akademie
- 01
Resistentwicklung nach Kundenwunsch
- 02
Forschung und Entwicklung
- 03
Produktion
- 04
Vertrieb
- 05
Logistik
Resists und Prozesschemikalien
Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 (45 %)
TMAH-freier Entwickler für verschiedene Photoresist- und HSQ-Prozesse.
Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-42 (4,3 %)
Verdünnte Variante des TMAH-freien Cholin-Entwicklers.
PMMA-E-Beamresists
E-Beamresists für die Elektronenstrahl-Lithographie.
E-Beam Resist AR-N 7520
Flexibler E-Beam Resist für Forschungsanwendungen.
Lack AR-P 3110
Lack für Lithographieanwendungen, u. a. an Hochschulen im Einsatz.
Medusa 84 SiH System
Nachhaltiges System, Finalist beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027.
Hydrogensilsesquioxan (HSQ)
Resist für Lithographieprozesse, u. a. mit TMAH-freiem Cholin-Entwickler kombinierbar.
PPA (Polyphthalaldehyd)
Für Zweilagenanwendungen bzw. Lift-off zur Erzeugung unterschnittener Strukturen.
Standorte

Strausberg
DEHauptsitz und Produktion; neues Logistikzentrum in Bau
- Werkstoffe
- Resists, Prozesschemikalien
Produkte

Einblicke in die Fertigung


Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische LithographieEngineering | – | – | – | – | Photoresiste |
| Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-LithographieEngineering | – | – | – | – | PMMA-E-Beamresists, AR-N 7520 |
| Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler)Engineering | – | – | – | – | AR 300-41 (Cholin-Hydroxid-Entwickler, 45 %), AR 300-42 (Cholin-Hydroxid-Entwickler, 4,3 %), TMAH-freie Entwickler |
| Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen)Engineering | – | – | – | – | HSQ, PPA (Zweilagenanwendungen/Lift-off), Medusa 84 SiH, AR-P 3110 |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Historie
- 1992
Gründung der Allresist GmbH; Beginn des Geschäftsmodells mit hoher Produktqualität bei moderaten Preisen.
- 2026
Markteinführung der TMAH-freien Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 und AR 300-42.
- 2026
Dichtfest des neuen Logistikzentrums in Strausberg (rund 3 Mio. € Investition); Finalist beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027 mit dem Medusa 84 SiH System.