Zum Inhalt
NEU: KI-AUSSCHREIBUNG IN 2 MINUTEN – JETZT KOSTENLOS TESTEN
Zurück zur Suche

Ist das Ihr Unternehmen? Profil übernehmen

Allresist – Fertigung

Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die optische und Elektronenstrahl-Lithographie samt Prozesschemikalien

Allresist Logo

Allresist GmbH

Am Biotop 14, 15344 StrausbergNeu auf Amplifa

1992Gegründet
StrausbergStandort Hauptsitz und Produktion

Über Allresist

Die Allresist GmbH entwickelt, produziert und vertreibt Resists für die optische und die Elektronenstrahl-Lithographie sowie die dazugehörigen Prozesschemikalien für die Herstellung elektronischer Bauteile. Das Alleinstellungsmerkmal ist die Resistentwicklung nach Kundenwunsch: Mit eigenem Forschungs- und Entwicklungsbereich entstehen kostengünstige, technologieangepasste Resists in kurzer Zeit. Das Portfolio umfasst unter anderem PMMA-E-Beamresists, den E-Beam Resist AR-N 7520, den Lack AR-P 3110, das Medusa 84 SiH System, HSQ sowie PPA für Zweilagen- und Lift-off-Anwendungen. 2026 führte das Unternehmen mit AR 300-41 und AR 300-42 TMAH-freie, Cholin-Hydroxid-basierte Entwickler ein. Die Produkte werden vor allem in der Mikroelektronik, Halbleiter- und Sensorikbranche sowie an Forschungs- und Akademieeinrichtungen eingesetzt. Das Unternehmen sitzt seit der Gründung 1992 in Strausberg (Brandenburg) und hat im September 2026 das Dichtfest eines neuen Logistikzentrums gefeiert, das als rund 3-Millionen-Euro-Investition umgesetzt wird.

Standort
Strausberg
Verfahren
Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische Lithographie, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie, Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler), Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen), Resistentwicklung nach Kundenwunsch, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für Optische und Elektronenstrahl-Lithographie, Prozesschemikalien, Forschung und Entwicklung
Werkstoffe
Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 (45 %), Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-42 (4,3 %), PMMA-E-Beamresist, E-Beam Resist AR-N 7520, Lack AR-P 3110, Medusa 84 SiH System, HSQ (Hydrogensilsesquioxan), PPA (Polyphthalaldehyd) für Zweilagenanwendungen
Gegründet
1992
Branchen
Mikroelektronik, Halbleiter, Sensorik, Optische Lithographie, Elektronenstrahl-Lithographie, Forschung/Akademie
  1. 01

    Resistentwicklung nach Kundenwunsch

  2. 02

    Forschung und Entwicklung

  3. 03

    Produktion

  4. 04

    Vertrieb

  5. 05

    Logistik

Resists und Prozesschemikalien

AR 300-41

Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 (45 %)

TMAH-freier Entwickler für verschiedene Photoresist- und HSQ-Prozesse.

AR 300-42

Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-42 (4,3 %)

Verdünnte Variante des TMAH-freien Cholin-Entwicklers.

PMMA

PMMA-E-Beamresists

E-Beamresists für die Elektronenstrahl-Lithographie.

AR-N 7520

E-Beam Resist AR-N 7520

Flexibler E-Beam Resist für Forschungsanwendungen.

AR-P 3110

Lack AR-P 3110

Lack für Lithographieanwendungen, u. a. an Hochschulen im Einsatz.

Medusa 84

Medusa 84 SiH System

Nachhaltiges System, Finalist beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027.

HSQ

Hydrogensilsesquioxan (HSQ)

Resist für Lithographieprozesse, u. a. mit TMAH-freiem Cholin-Entwickler kombinierbar.

PPA

PPA (Polyphthalaldehyd)

Für Zweilagenanwendungen bzw. Lift-off zur Erzeugung unterschnittener Strukturen.

Standorte

Standort Strausberg

Strausberg

DE

Hauptsitz und Produktion; neues Logistikzentrum in Bau

Werkstoffe
Resists, Prozesschemikalien

Produkte

Medusa 84 SiH System mit Cholin-Hydroxid-Entwickler (Kontrastkurve)
Medusa 84 SiH System mit Cholin-Hydroxid-Entwickler (Kontrastkurve)Resistentwicklung · Mikroelektronik

Einblicke in die Fertigung

Team Allresist
Team Allresist
Messestand auf der MNE 2026 in Interlaken (Schweiz)
Messestand auf der MNE 2026 in Interlaken (Schweiz)

Branchen

MikroelektronikHalbleiterSensorikOptische LithographieElektronenstrahl-LithographieForschung/AkademieElektronische Bauteile

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Optische LithographieEngineering––––Photoresiste
Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für die Elektronenstrahl-LithographieEngineering––––PMMA-E-Beamresists, AR-N 7520
Herstellung von Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen (Entwickler)Engineering––––AR 300-41 (Cholin-Hydroxid-Entwickler, 45 %), AR 300-42 (Cholin-Hydroxid-Entwickler, 4,3 %), TMAH-freie Entwickler
Resistentwicklung nach Kundenwunsch (kundenspezifische Lösungen)Engineering––––HSQ, PPA (Zweilagenanwendungen/Lift-off), Medusa 84 SiH, AR-P 3110

Zusatzleistungen

Resistentwicklung nach KundenwunschEntwicklung, Produktion und Vertrieb von Resists für Optische und Elektronenstrahl-LithographieProzesschemikalienForschung und EntwicklungLogistikzentrum (Neubau)

Referenzkunden

Centrum für intelligente Sensorik GmbHPaul-Drude-InstitutUnited Monolithic Semiconductors GmbHWestsächsische HochschuleDresdner Chipakademie

Historie

  1. 1992

    Gründung der Allresist GmbH; Beginn des Geschäftsmodells mit hoher Produktqualität bei moderaten Preisen.

  2. 2026

    Markteinführung der TMAH-freien Cholin-Hydroxid-Entwickler AR 300-41 und AR 300-42.

  3. 2026

    Dichtfest des neuen Logistikzentrums in Strausberg (rund 3 Mio. € Investition); Finalist beim Deutschen Nachhaltigkeitspreis für Produkte 2027 mit dem Medusa 84 SiH System.

Personalisierte Demo

Bereit, den Amplifa Marketplace in Aktion zu sehen?

Vom strukturierten Request bis zum passenden Fertigungspartner: KI-gestütztes Matching, verifizierte Anbieter und transparente Kennzahlen – an einem Ort, für den industriellen Mittelstand im DACH-Raum.

Demo anfragen