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Entwickelt individuelle Plasmaanlagen für Reinigung, Beschichtung und Ätzen sowie Hochfrequenzkomponenten.
AURION Anlagentechnik GmbH
SeligenstadtNeu auf Amplifa
Über AURION
AURION Anlagentechnik GmbH mit Sitz in Seligenstadt entwickelt und fertigt spezifische Plasmaanlagen und plasmatechnische Komponenten. Das Portfolio umfasst Atmosphärendruck-Plasmaquellen (KIVOS-Konzept), Anlagen für atmosphärisches Sputtern, Reaktives Ionenätzen (RIE), Mikrowellen-Downstream-Plasma, PVD-Sputteranlagen sowie PECVD-Anlagen, einschließlich Cluster- und Inline-Lösungen. Daneben bietet das Unternehmen hochfrequenztechnische Komponenten wie automatische Impedanz-Anpassungsnetzwerke (Matchboxen), Schalter, Filter, Power Splitter und Phasenschieber sowie HF-Systeme für Teilchenbeschleuniger an. Jede Anlage wird im Rahmen eines kundenspezifischen Projektzyklus entwickelt und eng mit dem Kunden abgestimmt. Ergänzend bietet AURION Beratungsdienstleistungen und Schulungen auf den Gebieten Plasma- und Hochfrequenztechnik. Kunden stammen unter anderem aus der Forschung (Big Science, Teilchenbeschleuniger) sowie aus Oberflächen- und Vakuumtechnik.
- Standort
- Seligenstadt
- Verfahren
- Plasmareinigung, Plasmabeschichtung, Atmosphärendruck-Plasmaquellen, Atmosphärendruck-Sputtern, RIE (Reaktives Ionenätzen), PECVD, Mikrowellen-Downstream-Plasma, PVD (Sputtern)
- Werkstoffe
- Atmosphärendruck-Plasma (KIVOS), Reaktives Ionenätzen, Mikrowellen-Downstream-Plasma, PVD-Sputtern, PECVD, Hochfrequenzkomponenten
- Branchen
- Big Science / Forschung (Teilchenbeschleuniger), Oberflächentechnik / Vakuumtechnik
- 01
Beratung und Anforderungsanalyse
- 02
Entwicklung der kundenspezifischen Anlage
- 03
Fertigung und Aufbau der Plasma- und HF-Komponenten
- 04
Inbetriebnahme
- 05
Service und Schulung
Verfahren und Technologien
Atmosphärendruck-Plasma (KIVOS)
Atmosphärendruck-Plasmaquellen und -sputtern für Oberflächenvorbehandlung ohne Vakuumkammer.
Reaktives Ionenätzen
RIE-Anlagen für gezieltes Ätzen und Feinreinigung von Oberflächen.
Mikrowellen-Downstream-Plasma
Downstream-Plasmaanlagen für schonende Behandlung auch empfindlicher Oberflächen.
PVD-Sputtern
Sputteranlagen zum Aufbringen dünner Schichten im Vakuum.
PECVD
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung für funktionale Schichten.
Hochfrequenzkomponenten
Impedanz-Anpassungsnetzwerke, Schalter, Filter, Power Splitter und Phasenschieber für Plasma- und Beschleunigeranwendungen.
Standorte
Seligenstadt
DEHauptsitz: Entwicklung, Fertigung und Vertrieb
- Atmosphärendruck-Plasmaanlage KIVOS
- RIE-Anlage
- Mikrowellen-Downstream-Plasmaanlage
- PVD-Sputteranlage
- PECVD-Anlage
- Cluster- und Inline-Anlagen
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| PlasmareinigungOberfläche | – | – | – | – | – |
| PlasmabeschichtungOberfläche | – | – | – | – | – |
| Atmosphärendruck-PlasmaquellenOberfläche | – | – | – | – | – |
| Atmosphärendruck-SputternOberfläche | – | – | – | – | – |
| RIE (Reaktives Ionenätzen)Oberfläche | – | – | – | – | – |
| PECVDOberfläche | – | – | – | – | – |
| Mikrowellen-Downstream-PlasmaOberfläche | – | – | – | – | – |
| PVD (Sputtern)Oberfläche | – | – | – | – | – |
| NiederdruckplasmaOberfläche | – | – | – | – | – |
6 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | AURION KIVOS | – | – | – | Seligenstadt |
| RIE-Anlage | AURION | – | – | – | Seligenstadt |
| Mikrowellen-Downstream-Plasmaanlage | AURION | – | – | – | Seligenstadt |
| PVD-Sputteranlage | AURION | – | – | – | Seligenstadt |
| PECVD-Anlage | AURION | – | – | – | Seligenstadt |
| Cluster- und Inline-Anlagen (Plasma) | AURION | – | – | – | Seligenstadt |
Zusatzleistungen