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Ultradünne, PFAS-freie funktionale Polymerbeschichtungen per CVD für Elektronik, Sensorik und Medizintechnik.
conformally GmbH
Kiel · HauptsitzNeu auf Amplifa
Über conformally
Die conformally GmbH ist ein 2025 gegründetes Deep-Tech-Unternehmen und Spin-off der Arbeitsgruppe von Prof. Franz Faupel an der Christian-Albrechts-Universität zu Kiel. Das Unternehmen entwickelt und verreibt ultradünne, funktionale Polymerdünnfilme auf Basis eigener Varianten der chemischen Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition, CVD), einschließlich Initiated CVD (iCVD). Die Verfahren ermöglichen konforme Beschichtungen auf Pulvern, Flüssigkeiten, festen, hochporösen und temperatur-empfindlichen Objekten, wobei funktionelle Gruppen erhalten bleiben – anders als bei konventionellen Verfahren wie PECVD. Die PFAS-freien Beschichtungen dienen als Alternativen zu fluorierten Verbindungen und werden unter anderem als dielektrische Schichten in der Mikroelektronik, als Schutz- und Elektretschichten für Sensorkomponenten sowie als hydrophobe, antivirale oder zellvertragliche Oberflächen in Medizintechnik und Biotechnologie eingesetzt. Neben der Beschichtungsentwicklung bietet conformally modulare CVD-Reaktorsysteme zur Integration in Produktionslinien sowie Prozessanpassung und -optimierung an. Der Sitz befindet sich im Zentrum für vernetzte Sensorsysteme in Kiel.
- Standort
- Kiel
- Verfahren
- Chemical Vapor Deposition (CVD) – ultradünne, funktionale, topografisch konforme Polymerdünnfilme, Initiated Chemical Vapor Deposition (iCVD) – Abscheidung von Polymerfilmen mit einstellbarer, Beschichtungsentwicklung / maßgeschneiderte Beschichtungslösungen, Prozessanpassung und -optimierung (Scale-up, Feintuning, Integration in bestehende Linien), Dielektrische Schichten für Mikroelektronik (low-k/high-k, flexible Elektronik, Advanced Packaging), Schutzbeschichtung von Sensor-Komponenten (Schutz vor Umwelteinflüssen, Säuren, korrosiven Stoffen), Elektretschichten-Abscheidung (stabile Ladungsspeicherung), Funktionale Oberflächen für Med-Tech/Biotechnologie (Hydrophobisierung, antivirale Eigenschaften,
- Werkstoffe
- Polymere (organische Dünnschichten), PFAS-freie Beschichtungswerkstoffe (Alternativen zu fluorierten Verbindungen), Chemical Vapor Deposition, Initiated Chemical Vapor Deposition, Polymere Dünnschichten, PFAS-freie Beschichtungswerkstoffe
- Zertifikate
- ISO 9001
- Gegründet
- 2025
- Branchen
- Mikroelektronik, Halbleitertechnologie, Medizintechnik / Med-Tech, Biotechnologie, Sensorik, Advanced Manufacturing
- 01
Anfrage & Beratung
- 02
Coating-Entwicklung
- 03
CVD-Beschichtung (Prototyp/Serie)
- 04
Prozessoptimierung & Scale-up
- 05
Systemintegration / Lieferung modularer CVD-Reaktoren
Werkstoffe & Verfahren
Chemical Vapor Deposition
Gasphasenabscheidung ultradünner, topografisch konformer Polymerschichten auch auf Pulvern, Flüssigkeiten, porösen und temperatur-empfindlichen Objekten.
Initiated Chemical Vapor Deposition
Abscheidung von Polymerfilmen mit einstellbarer Polarität und Stärke des Oberflächenpotentials, u. a. für Elektretschichten.
Polymere Dünnschichten
Organische Funktionsschichten mit erhaltenen funktionellen Gruppen für Elektronik, Sensorik und Medizintechnik.
PFAS-freie Beschichtungswerkstoffe
Alternativen zu fluorierten Verbindungen mit vergleichbarer Funktionalität ohne regulatorische Bedenken.
Standorte
Kiel
DEHauptsitz, Entwicklung und Beschichtungsdienstleistungen
- Losgröße
- Prototyp bis Serie
- Werkstoffe
- Polymere Dünnschichten, PFAS-freie Beschichtungswerkstoffe
- Modulare CVD-Beschichtungsreaktoren (Standard-Modulreaktoren zur Integration in Produktionslinien)
Beschichtungen & Anwendungen
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Chemical Vapor Deposition (CVD) – ultradünne, funktionale, topografisch konforme PolymerdünnfilmeOberfläche | – | – | – | – | Polymere (organische Dünnschichten), temperatur-empfindliche Materialien, Pulver, Flüssigkeiten, feste Objekte, hochporöse Objekte |
| Initiated Chemical Vapor Deposition (iCVD) – Abscheidung von Polymerfilmen mit einstellbarerOberfläche | – | – | – | – | Polymere |
| Beschichtungsentwicklung / maßgeschneiderte BeschichtungslösungenEngineering | – | – | – | – | – |
| Prozessanpassung und -optimierung (Scale-up, Feintuning, Integration in bestehende Linien)Engineering | – | – | – | – | – |
| Dielektrische Schichten für Mikroelektronik (low-k/high-k, flexible Elektronik, Advanced Packaging)Oberfläche | – | – | – | – | Polymere |
| Schutzbeschichtung von Sensor-Komponenten (Schutz vor Umwelteinflüssen, Säuren, korrosiven Stoffen)Oberfläche | – | – | – | – | Polymere |
| Elektretschichten-Abscheidung (stabile Ladungsspeicherung)Oberfläche | – | – | – | – | Polymere |
| Funktionale Oberflächen für Med-Tech/Biotechnologie (Hydrophobisierung, antivirale Eigenschaften,Oberfläche | – | – | – | – | Polymere |
1 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Modulare CVD-Beschichtungsreaktoren (Standard-Modulreaktoren zur Integration in Produktionslinien) | conformally | – | – | – | Kiel |
Zusatzleistungen
Qualität
Die Schichten zeichnen sich durch hohe chemische und morphologische Qualität sowie präzise Oberflächenbedeckung aus und sind für hochempfindliche Anwendungen in Mikroelektronik, Halbleiter- und Medizintechnik geeignet.
| Nachweis | Kiel |
|---|---|
| ISO 9001 |
Historie
- 2025
Gründung als Deep-Tech-Spin-off der Arbeitsgruppe von Prof. Franz Faupel (Uni Kiel) mit Unterstützung des EXIST-Forschungstransfer-Programms; Gesellschaftsvertrag vom 20.03.2025, Handelsregister-Eintragung am 08.05.2025 (HRB 28121 KI).
- 2025
Aufnahme auf die Deep Tech Momentum (DTM) Watchlist / DTM100; Pitch bei Deep Tech Momentum und Shark-Tank-Session der International Semiconductor Industry Group.