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D.I.S Germany – Fertigung

Center of Excellence für Elektronen- und Ionenstrahltechnologie und Ultra-High Precision Manufacturing.

D.I.S Germany Logo

D.I.S Germany GmbH

PirnaNeu auf Amplifa

Pirna, SachsenHauptsitz
4.500 m² (davon 500 m² temperiert)Produktionsfläche

Über D.I.S Germany GmbH

D.I.S Germany GmbH mit Sitz in Pirna ist ein Center of Excellence für Elektronen- und Ionenstrahltechnologie in Verbindung mit Ultra-High Precision Manufacturing (UHP-Fertigung). Das Unternehmen fertigt komplexe, hochpräzise Bauteile und Geräte sowie kundenspezifische Vakuum- und Strahlsysteme für die Medizintechnik, die Halbleiterindustrie, die analytische Forschung und die Ionenimplantation. Das Leistungsspektrum umfasst Forschung und Entwicklung, Prototyping, kundenspezifische Systeme sowie Job-Shop-Dienstleistungen in der Auftragsfertigung. Die UHP-Fertigung erfolgt in einer 4.500 m² umfassenden Einrichtung, davon 500 m² temperaturstabilisierte Fertigungsfläche für maximale Präzision, Stabilität und Qualität. Mit der Kombination aus Strahltechnologie, Vakuumtechnik und hochpräziser Fertigung liefert D.I.S maßgeschneiderte Lösungen von der ersten Konzeption bis zur fortgeschrittenen Produktion.

Standort
Pirna
Verfahren
Ultra-High Precision Manufacturing (UHP-Fertigung), Ionenstrahl-Technologie, Elektronenstrahl-Technologie, Ionenimplantation, Vakuumtechnik / Bau kundenspezifischer Vakuumsysteme, Forschung & Entwicklung / Prototyping, Forschung & Entwicklung, Prototyping
Werkstoffe
Ultra-High Precision Manufacturing, Elektronenstrahl-Technologie, Ionenstrahl-Technologie, Ionenimplantation, Vakuumtechnik
Branchen
Medizintechnik, Halbleiterindustrie, Analytik/Forschung, Ionenimplantation
  1. 01

    Forschung & Entwicklung

  2. 02

    Prototyping

  3. 03

    Elektronen- und Ionenstrahltechnologie

  4. 04

    UHP-Fertigung

  5. 05

    Vakuumtechnik / Systemmontage

Werkstoffe & Verfahren

UHP

Ultra-High Precision Manufacturing

Auftragsfertigung hochpräziser Komponenten in temperaturstabilisierter Umgebung.

E-Strahl

Elektronenstrahl-Technologie

Elektronenstrahlbasierte Verfahren für Anwendungen in Medizin, Halbleitern und Forschung.

I-Strahl

Ionenstrahl-Technologie

Ionenstrahlverfahren u. a. für Oberflächenbearbeitung und analytische Anwendungen.

Impl

Ionenimplantation

Ionenimplantation als Einsatzgebiet der Strahltechnologie, u. a. für die Halbleiterindustrie.

Vak

Vakuumtechnik

Bau kundenspezifischer Vakuumsysteme für Forschung und Industrie.

Standorte

Standort Pirna

Pirna

DE

Hauptsitz / Fertigung

Werkstoffe
UHP-Fertigung, Elektronen- und Ionenstrahltechnologie, Vakuumtechnik
  • 500 m² temperaturstabilisierte UHP-Fertigungsfläche (in 4.500 m² Facility)

Bauteile & Systeme

Kundenspezifische Systeme
Kundenspezifische SystemeVakuum- und Strahltechnik · Halbleiter/Medizin
Ionization Energy Calculator
Ionization Energy CalculatorAnalyse-Tool · Analytische Forschung

Einblicke in die Fertigung

D.I.S – Ionenstrahltechnologie
D.I.S – Ionenstrahltechnologie
D.I.S – Spezialisten für Strahltechnologie
D.I.S – Spezialisten für Strahltechnologie

Branchen

MedizintechnikHalbleiterindustrieAnalytik/ForschungIonenimplantation

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Ultra-High Precision Manufacturing (UHP-Fertigung)Zerspanung–––––
Ionenstrahl-TechnologieOberfläche–––––
Elektronenstrahl-TechnologieOberfläche–––––
IonenimplantationOberfläche–––––
Vakuumtechnik / Bau kundenspezifischer VakuumsystemeMontage–––––
Forschung & Entwicklung / PrototypingEngineering–––––

1 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
UHP-Fertigungsfläche (temperaturstabilisiert)–1500 m² temperiert in 4.500 m² Facility–Pirna, Deutschland

Zusatzleistungen

Forschung & EntwicklungPrototypingUltra-High Precision Manufacturing (Auftragsfertigung)Kundenspezifische SystemeJob-Shop-Dienstleistungen
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