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Entwicklung und Bau von Plasma-, Parylene- und Vakuumanlagen sowie Lohnbehandlung von Oberflächen
Diener electronic GmbH & Co. KG
Ebhausen (Hauptsitz) · Ebhausen (Lohnbehandlung, Reinraum) · Jettingen (Geschäftsleitung) · Shanghai (Labor)Neu auf Amplifa
Über Diener electronic
Diener electronic GmbH & Co. KG mit Hauptsitz in Ebhausen (Baden-Württemberg) entwickelt und fertigt seit 1993 Anlagen für die Plasma-Oberflächenbehandlung. Das Portfolio umfasst Niederdruck-Plasmaanlagen von Laborgröße (ca. 1 Liter) bis zu Produktionsanlagen mit über 12.000 Litern Kammervolumen, Atmosphärendruck-Plasmasysteme der PlasmaBeam-Baureihe, Parylene-Beschichtungsanlagen sowie Vakuumsysteme und Aluminium-Vakuumkammern. Eigens entwickelte HF-Generatoren (40 kHz, 13,56 MHz, 2,45 GHz) und eine eigene Konstruktionsabteilung für Sonderanlagen ergänzen den Anlagenbau. Im Technikum stehen rund 30 Anlagen für die Prozessentwicklung bereit. Als Dienstleister bietet das Unternehmen Lohnbehandlung inklusive Plasmabehandlung im Reinraum nach ISO 14644-1, Parylene-Lohnbeschichtung, Silanisierung (CVD) sowie Vakuumprozesse wie Entgasung, Trocknung und Verguss an. Pro Jahr werden ca. 700 Plasmasysteme gebaut; rund 13.000 Systeme wurden weltweit verkauft. Das Unternehmen beschäftigt über 110 Mitarbeitende, bildet seit 2002 aus und beliefert Branchen von Medizintechnik und Elektronik bis Automotive, Optik und Luft- und Raumfahrt.
- Standort
- Ebhausen
- Verfahren
- Plasma Reinigung, Plasma Aktivierung, Ätzen mit Plasma (isotropes/anisotropes Ätzen, RIE), Beschichten mit Plasma, Parylene-Beschichtung (N, C, D, F-VT4), Silanisierung (CVD), Vakuumentgasung, Vakuumtrocknung
- Werkstoffe
- Parylene N, Parylene C, Parylene D, Parylene F-VT4, Kunststoff, Gummi, Keramik, Glas
- Zertifikate
- Reinraum ISO 14644-1
- Gegründet
- 1993
- Mitarbeiter
- über 110
- Branchen
- Automobiltechnik/Automobilzulieferer, Medizintechnik, Elektronik und Elektrotechnik, Halbleitertechnik, Optik, Feinwerktechnik
- 01
Prozessentwicklung im eigenen Technikum (ca. 30 Anlagen)
- 02
Konstruktion von Sonderanlagen in eigener Konstruktionsabteilung
- 03
Anlagenbau (Niederdruck, Atmosphärendruck, Parylene, Vakuum)
- 04
Eigenentwicklung von HF-Generatoren
- 05
Lohnbehandlung inkl. Reinraumbehandlung
- 06
Service, Wartung und Modernisierung weltweit
Werkstoffe und Verfahren
Poly(p-Xylylen) N
Grundform mit guter Spaltgängigkeit und dielektrischen Eigenschaften, bevorzugt für elektronische Bauteile und Katheter.
Parylene C
Meistverwendeter Typ mit ausgezeichneter Barrierewirkung und hohem Feuchtigkeitsschutz.
Parylene D
Parylene-Typ für Anwendungen mit erhöhten thermischen und chemischen Anforderungen.
Parylene F-VT4
Fluorierter Parylene-Typ mit hoher Temperaturbeständigkeit.
Aluminium
Werkstoff der flexiblen Vakuumkammern aus Strangpressprofilen, gut beheizbar.
Edelstahl
Kammermaterial vieler Niederdruck-Plasmaanlagen und Paryleneanlagen.
Silizium
Substrat für Wafer-Reinigung, Wasserstoffplasma-Aktivierung und Silanisierung in der Halbleitertechnik.
Keramik
Mit Atmosphärendruckplasma reinig- und aktivierbarer Werkstoff.
Glas
Behandelbares Material u. a. bei Plasmaaktivierung und Silanisierung; Borosilikatglas als Kammermaterial der Zepto-Anlagen.
Gummi/Elastomere
Typisches Schüttgut für Plasmabehandlung in rotierenden Trommelkammern, z. B. O-Ringe.
Kupfer
Metallischer Werkstoff, der per Plasma gereinigt werden kann.
Standorte
Ebhausen
DEHauptsitz: Anlagenbau, Verwaltung, Prozessentwicklung, Technikum
- Losgröße
- Einzelanlagen bis Serienanlagen
- Werkstoffe
- Aluminium, Edelstahl
- Niederdruck-Plasmaanlagen Zepto bis Tetra 12600
- Atmosphärendruck-Systeme PlasmaBeam
- Parylene-Beschichtungsanlagen P6 bis P300
- Aluminium-Vakuumkammern
- HF-Generatoren 40 kHz, 13,56 MHz, 2,45 GHz
- CVD-/Silanisierungsanlagen
Ebhausen (Carl-Schickhardt-Str. 40)
DELohnbehandlung (Diener Plasma GmbH & Co. KG), seit 2025 mit Reinraum nach ISO 14644-1
- Losgröße
- Prototyp bis Serie
- Werkstoffe
- Kunststoff, Metall, Keramik, Glas
- Plasmanlagen für Lohnbehandlung
- Reinraum ISO 14644-1
- Parylene-Lohnbeschichtung
Jettingen
DESitz der Geschäftsleitung
Shanghai
CNLabor/Standort mit Distributor Shanghai Verde Instrument Technology
Anlagen und Behandlungslösungen
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Plasma ReinigungOberfläche | – | – | – | – | Polymere, Metalle, Keramik, Glas, Hybridmaterialien, Kunststoff |
| Plasma AktivierungOberfläche | – | – | – | – | Kunststoff, Metalle, Keramik, Glas, Elastomere |
| Ätzen mit Plasma (isotropes/anisotropes Ätzen, RIE)Oberfläche | – | – | – | – | PTFE, Silizium, Kunststoff |
| Beschichten mit PlasmaOberfläche | – | – | – | – | Kunststoff, diverse Substrate |
| Parylene-Beschichtung (N, C, D, F-VT4)Oberfläche | – | – | – | – | Parylene |
| Silanisierung (CVD)Oberfläche | – | – | – | – | Kunststoff, Glas, Silizium |
| VakuumentgasungOberfläche | – | – | – | – | – |
| VakuumtrocknungOberfläche | – | – | – | – | – |
| Manueller VakuumvergussOberfläche | – | – | – | – | – |
| Höhensimulation / DrucktestPrüfung | – | – | – | – | – |
| DichtigkeitsprüfungPrüfung | – | – | – | – | – |
| Sensor-KalibrierungPrüfung | – | – | – | – | – |
| Pulver- und Schüttgutbehandlung mit PlasmaOberfläche | – | – | – | – | Gummi, Kunststoff, Pulver, Granulat |
| Lohnbehandlung Oberflächenmodifizierung im Reinraum nach ISO 14644-1Oberfläche | – | – | – | – | – |
| ProzessentwicklungEngineering | – | – | – | – | – |
| Wafer-Reinigung mit PlasmaOberfläche | – | – | – | – | Silizium |
| Aktivieren mit Wasserstoffplasma / WasserdampfOberfläche | – | – | – | – | Silizium |
63 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Zepto ONE | – | ca. 2 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Zepto | – | ca. 1-3 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Atto | – | ca. 10 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Femto | – | ca. 2-4 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Pico | – | ca. 4-8 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Nano | – | ca. 18-24 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 30 | – | ca. 28-57 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 45 | – | ca. 46 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 100 | – | ca. 100 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 150 | – | ca. 150 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 270 | – | ca. 270 Liter, Kammer B 600 x H 600 x T 750 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 320R | – | ca. 322 Liter, ⌀ 640 mm x T 1000 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 360 | – | ca. 360 Liter, Kammer B 600 x H 600 x T 1000 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 640 | – | ca. 640 Liter, Kammer B 800 x H 800 x T 1000 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 1000 | – | ca. 1000 Liter, Kammer B 1000 x H 1000 x T 1000 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 1440 | – | ca. 1440 Liter, Kammer B 1200 x H 1200 x T 1000 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 2800 | – | ca. 2827 Liter, ⌀ 1200 mm x T 2500 mm | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage (Sonderanlagen) | Diener electronic Tetra 140 RAPID | – | – | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 2880 | – | – | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 3600 | – | – | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage | Diener electronic Tetra 12600 | – | ca. 12.600 Liter | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage (Pulver/Schüttgut) | Diener electronic Tetra 120 | – | – | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage (Pulver) | Diener electronic Tetra 300 | – | – | – | Ebhausen |
| Niederdruck-Plasmaanlage (Schüttgut, rotierend) | Diener electronic Tetra 1400 | – | ca. 1400 Liter | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage (PlasmaBeam) | Diener electronic PlasmaBeam STANDARD | – | Behandlungsbreite ca. 8-12 mm | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | Diener electronic PlasmaBeam 19" | – | Behandlungsbreite ca. 8-12 mm | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | Diener electronic PlasmaBeam DUO | – | 2 Düsen, Behandlungsbreite ca. 8-12 mm | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | Diener electronic PlasmaBeam PC | – | – | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | Diener electronic PlasmaBeam Mini | – | Behandlungsbreite 3-5 mm | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage | Diener electronic PlasmaBeam Quattro | – | Behandlungsbreite ca. 32 mm | – | Ebhausen |
| Atmosphärendruck-Plasmaanlage (rotierend) | Diener electronic PlasmaBeam RT | – | Behandlungsbreite ca. 120 mm | – | Ebhausen |
| DBD-Plasmasystem | Diener electronic DBD B4.2 | – | 4,25 Liter Glaskammer | – | Ebhausen |
| DBD-Quarzglasröhre | Diener electronic DBD 565 | – | – | – | Ebhausen |
| DBD-Quarzglasreaktor | Diener electronic DBD 228 | – | ⌀ 27 mm x H 400 mm (ca. 228 cm³) | – | Ebhausen |
| DBD Plasma Beam | Diener electronic DBD Plasma Beam Mini Helium | – | Behandlungsbreite ca. 5-10 mm | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P6 | – | ⌀ 200 mm x H 200 mm, ca. 6 Liter | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P17 | – | ⌀ 300 mm x H 295 mm, ca. 21 Liter | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P35 | – | ⌀ 250 mm x H 450 mm, ca. 35 Liter | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P1200D | – | – | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P260 | – | – | – | Ebhausen |
| Parylene-Beschichtungsanlage | Diener electronic Parylene P300 | – | – | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P110x120 | – | ca. 4-8 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P150x160 | – | ca. 8-14 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P240x240 | – | ca. 24 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P305x300 | – | ca. 34-58 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P572x125 | – | ca. 21-46 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P400x400 | – | ca. 95 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P400x400 HV | – | ca. 100 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P400x600 / VC P600x400 | – | ca. 151 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC P700D | – | ca. 322-450 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC M600² | – | ca. 360 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC M800² | – | ca. 640 Liter | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC M1000² | – | ca. 1000 Liter, 1000 x 1000 x 1000 mm | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC M1200² | – | ca. 1440 Liter, 1200 x 1200 x 1000 mm | – | Ebhausen |
| Vakuumkammer (Aluminium) | Diener electronic VC M1600x1800 | – | ca. 4320 Liter, 1600 x 1800 x 1500 mm | – | Ebhausen |
| RF-Generator 13,56 MHz | Diener electronic 13,56 MHz 100 W | – | – | – | Ebhausen |
| RF-Generator 13,56 MHz | Diener electronic 13,56 MHz 300 W | – | – | – | Ebhausen |
| LFG-Generator | Diener electronic LFG 500W | – | – | – | Ebhausen |
| LFG-Generator | Diener electronic LFG 1000W | – | – | – | Ebhausen |
| LFG-Generator | Diener electronic LFG 3000W | – | – | – | Ebhausen |
| LFG-Generator | Diener electronic LFG 5000W | – | – | – | Ebhausen |
| Mikrowellen-Generator | Diener electronic 2,45 GHz 1000 W | – | – | – | Ebhausen |
| CVD-/Silanisierungsanlage | Diener electronic | – | – | – | Ebhausen |
Zusatzleistungen
Qualität
Prozesse werden mit PC-Steuerungen überwacht, die alle relevanten Prozessparameter kontinuierlich erfassen und dokumentieren (Druck-, Temperatur- und Zeitverläufe). Für die Lohnbehandlung steht ein Reinraum nach ISO 14644-1 zur Verfügung; Service umfasst Kalibrierung von Messgeräten und VDE-Messung.
| Nachweis | Ebhausen |
|---|---|
| Reinraum ISO 14644-1 |
Historie
- 1993
Gründung durch Christof Diener am Standort Jettingen mit Fokus auf Plasma-Anlagen und Hochfrequenzgeneratoren.
- 1997
Wachstum auf fünf Mitarbeiter, Umzug nach Nagold.
- 2000
Offizielle Gründung der GmbH.
- 2002
Einstellung des ersten Auszubildenden; seitdem kontinuierlicher Ausbildungsbetrieb mit ca. 10 Auszubildenden.
- 2004
Verkauf der ersten eigens entwickelten Atmosphärendruck-Anlage.
- 2010
Verlegung des Hauptsitzes nach Ebhausen, Nagolder Str. 61.
- 2011
Verkauf der ersten eigenen Parylene-Anlage.
- 2015
Erweiterung des Produktportfolios um Vakuumkammern.
- 2018
Einführung eigener Vakuumsysteme; Eröffnung eines eigenen Labors in Shanghai mit dem Distributor Shanghai Verde Instrument Technology.
- 2023
Berufung von Felix Diener zum Geschäftsführer, Beginn des Generationenwechsels.
- 2025
Expansion in das renovierte Gebäude Carl-Schickhardt-Straße in Ebhausen; Lohnbehandlung zieht in neue Räumlichkeiten inklusive Reinraum.