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DGS – Dicing-Grinding Service – Fertigung

Dicing-Grinding-Service für Wafer: Hochpräzises Dicing, Grinding, Polishing, Laserprozesse und Metrologie für Halbleiter, MEMS und LEDs.

DGS – Dicing-Grinding Service Logo

DISCO HI-TEC EUROPE GmbH

Kirchheim b. MünchenNeu auf Amplifa

2006Start des Dicing-Grinding-Service (DGS)
über 12.000 Wafer/MonatKapazität seit 2016
1.330 m²Verarbeitungsfläche inkl. 800 m² Reinraum-Erweiterung (seit
2 Schichten, 7 Tage/WocheBetriebsmodus

Waferverarbeitung als Lieferkettenpartner

Die DGS – Dicing-Grinding-Service der DISCO HI-TEC EUROPE GmbH übernimmt als Lieferkettenpartner präzise Zerspanungsaufgaben in der Halbleiterproduktion: Dicing (Kiru), Grinding (Kezuru), Polishing (Migaku), Laserprozesse, Advanced Processes sowie Metrologie und Inspektion. Das Leistungsspektrum reicht von Application Support, Verbesserung bestehender Prozesse und Prototypenentwicklung bis zur Massenfertigung – mit über 12.000 prozessierten Wafern pro Monat (seit 2016). Verarbeitet werden Silizium und andere Halbleiter, Sapphire, Quarz, Glas, Verbund- und Bonded Materials, GaAs, SiC, Keramik, QFN/Leadframe, FR4 sowie weitere Materialien auf Anfrage. Verfahren umfassen unter anderem Single/Step/Bevel Cut, Pattern Grooving, Ultrasonic Dicing, Stealth Dicing (auch für SiC), DBG/SDBG, TAIKO, Poligrind, Dry Polishing, Plasma Etching und Stress-Relief-Prozesse. Die Fertigung erfolgt im Reinraum in Kirchheim bei München im 2-Schicht-Betrieb an 7 Tagen pro Woche; seit 2019 besteht eine Partnerschaft mit der Evatec AG für den Sputtering-Post-Prozess.

Standort
Kirchheim b. München
Verfahren
Dicing, Grinding, Polishing, Laser, Advanced Processes, Metrology, Single wafer grinding, Partial wafer grinding
Werkstoffe
Silizium, Sapphire, Quartz, Glass, Bonded Materials, GaAs, SiC, Ceramics
Zertifikate
DIN EN ISO 9001, DIN EN ISO 14001
Gegründet
2006 (Star
Branchen
Halbleiter, Mikrosystemtechnik (MEMS), LED
  1. 01

    Anfragen/Application Support

  2. 02

    Prototypenentwicklung

  3. 03

    Dicing

  4. 04

    Grinding

  5. 05

    Polishing

  6. 06

    Laserprozesse

  7. 07

    Advanced Processes

  8. 08

    Metrology & Inspection

  9. 09

    Massenfertigung

Materialien und Verfahren

Si

Silizium und andere Halbleiter

Hauptmaterial für Dicing, Grinding, Polishing und Laserprozesse.

SiC

SiC

Verarbeitbar unter anderem mit Stealth Dicing.

GaAs

GaAs

Halbleitermaterial für Dicing-Anwendungen.

Sap

Sapphire

Hartes Substratmaterial, u. a. im LED-Bereich.

Quarz

Quarz

Substratmaterial für Dicing und Grinding.

Glas

Glas

Für Dicing, Grinding und Polishing.

Ker

Keramik

Sprödes Material für präzise Bearbeitung.

Bond

Bonded Materials

Verbundsubstrate für mehrschichtige Prozesse.

QFN

QFN / Lead frame

Gehäuse- und Leiterrahmenmaterialien für Singulation.

FR4

FR4

Leiterplattenmaterial für Dicing und Step Cut.

Verbund

Compound materials

Mehrschichtige Verbundwerkstoffe, u. a. für Step Cut und Ultrasonic Dicing.

Standort

Kirchheim b. München

DE

Dicing-Grinding-Service mit Reinraumfertigung, Application Support und Prototypenentwicklung

Losgröße
Prototypen bis Massenfertigung
Werkstoffe
Silizium, Sapphire, Quarz, Glas, GaAs, SiC, Keramik, Verbundwerkstoffe, FR4, QFN/Leadframe
  • Reinraum (1.330 m² inkl. 800 m² Erweiterung)
  • DISCO Präzisionsmaschinen für Dicing und Grinding
  • 3D-Oberflächenmesstechnik
  • Atomic Force Microscope (AFM)
  • Automated Optical Inspection (AOI)

Bauteile

Dicing
DicingDicing · Halbleiter
Grinding
GrindingGrinding · Halbleiter
Polishing
PolishingPolishing · Halbleiter
Laserprozesse
LaserprozesseLaser · Halbleiter
Advanced Processes
Advanced ProcessesAdvanced Processes · Halbleiter
Metrology
MetrologyMetrologie · Halbleiter

Einblicke in die Fertigung

Partnerschaft mit Evatec AG (Sputtering Post-Prozess, 2019)
Partnerschaft mit Evatec AG (Sputtering Post-Prozess, 2019)

Branchen

HalbleiterMikrosystemtechnik (MEMS)LED

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
DicingZerspanung––––Silizium, Sapphire, Quarz, Glas, GaAs, SiC, Keramik, Verbundwerkstoffe
GrindingZerspanung––––Silizium, SiC, Glas, Keramik
PolishingOberfläche––––Silizium, Glas, Sapphire
LaserZerspanung––––Silizium, SiC
Advanced ProcessesSonstiges–––––
MetrologyPrüfung–––––
Single wafer grindingZerspanung––––Silizium
Partial wafer grindingZerspanung––––Silizium
Individual (die) chip grindingZerspanung––––Silizium
Edge trimming (by grinding)Zerspanung––––Silizium
Poligrind/UltrapoligrindZerspanung––––Silizium
TAIKOZerspanung––––Silizium
Single Cut (Dicing)Zerspanung––––Silizium, SiC, GaAs, Glas
Step CutZerspanung––––Verbundwerkstoffe
Bevel CutZerspanung––––Silizium
Pattern GroovingZerspanung––––Silizium
Chopper CutZerspanung––––Silizium
Circle CutZerspanung––––Silizium
Ultrasonic DicingZerspanung––––Verbundwerkstoffe
Stealth dicing (SD)Zerspanung––––Silizium
Stealth dicing of SiCZerspanung––––SiC
Laser ablationZerspanung––––Silizium
Laser groovingZerspanung––––Silizium
Die attach film (DAF) cutZerspanung––––Verbundwerkstoffe
Dicing before grinding (DBG)Zerspanung––––Silizium
Stealth dicing before grinding (SDBG)Zerspanung––––Silizium
Plasma etchingOberfläche––––Silizium
Dry polishingOberfläche––––Silizium
Chemical-mechanical polishingOberfläche––––Silizium
Stress relief process (higher die strength, warpage reduction)Oberfläche––––Silizium
Surface planarizationOberfläche––––Silizium
3D surface metrology systemPrüfung–––––
Atomic Force Microscopy (AFM)Prüfung–––––
Automated Optical Inspection (AOI)Prüfung–––––
Sputtering post process (Partnerschaft Evatec AG)Oberfläche–––––

3 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
3D surface metrology system––––Kirchheim b. München
Atomic Force Microscope (AFM)––––Kirchheim b. München
Automated Optical Inspection (AOI)––––Kirchheim b. München

Zusatzleistungen

Dicing (Kiru)Grinding (Kezuru)Polishing (Migaku)Laser ProcessesAdvanced ProcessesMetrology & InspectionStealth Dicing (auch SiC)DBG/SDBGTAIKOSingle/Step/Bevel CutPattern GroovingUltrasonic DicingLaser Grooving/AblationSingle Wafer/Partial/Die GrindingEdge TrimmingPoligrind/UltrapoligrindDry PolishingChemical-Mechanical PolishingStress ReliefPlasma EtchingSurface Planarization3D Surface MetrologyAFMAOIApplication SupportPrototypenentwicklungMassenfertigung

Referenzkunden

Evatec AG (Partnerschaft, Sputtering Post-Prozess)

Qualität

Das Qualitätsmanagementsystem ist nach DIN EN ISO 9001 und DIN EN ISO 14001 zertifiziert; alle Prozesse unterliegen strengen Kontrollen. Zur Prüfung stehen 3D-Oberflächenmesstechnik, AFM und AOI zur Verfügung.

NachweisKirchheim b. München
DIN EN ISO 9001
DIN EN ISO 14001

Historie

  1. 2006

    Start des Dicing-Grinding-Service (DGS) bei DISCO HI-TEC EUROPE in München

  2. 2009

    Reinraum-Erweiterung aufgrund steigender Anforderungen und Kapazitätsgrenzen

  3. 2013

    Weitere Reinraum-Erweiterung

  4. 2016

    Mehr als 12.000 prozessierte Wafer pro Monat

  5. 2018

    Reinraum-Erweiterung um 800 m², Gesamtverarbeitungsfläche 1.330 m²; 2-Schicht-Betrieb 7 Tage pro Woche

  6. 2019

    Partnerschaft mit der Evatec AG für den Sputtering-Post-Prozess

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