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Entwicklung und Fertigung piezoelektrisch angesteuerter Hochpräzisionsventile sowie Kryo- und Vakuumkomponenten für Ultrahochvakuum.

Duetting Technologies UG (haftungsbeschränkt)

Korbmacherweg 26, 48268 GrevenNeu auf Amplifa

2020Gegründet

UG (haftungsbeschränkt)Rechtsform

Greven (Westfalen)Standort

0,5 barÜberdruck-Nenndruck PRV

6 DekadenDynamikbereich Gasfluss PRV

Über Duetting Technologies

Duetting Technologies UG wurde 2020 von Andreas Dütting in Greven gegründet und ist auf piezoelektrisch angesteuerte Hochpräzisionsventile für die Ultrahochvakuumtechnik spezialisiert. Das Kernprodukt PRV (Piezoelectrically Actuated High-Precision Valve) ist ein Feindosierventil mit Saphir-Saphir-Dichtfläche, DN40CF-Flansch und integrierter Onboard-Elektronik, das sich vollständig über das 0-10V-Steuersignal selbst versorgt und per BNC-Schnittstelle an DAQ-Systeme angebunden wird. Das Unternehmen deckt mechanisches Design, Produktion und Integration von Kryo- und Vakuumkomponenten ab, u. a. für SNSPD (supraleitende Nanodraht-Einzelphotonen-Detektoren). Grundlage ist die über 21-jährige Erfahrung des Gründers bei IONTOF Technologies in Piezoantrieben und Kryotechnik mit flüssigem Stickstoff. Der Vertrieb erfolgt weltweit über den Distributionspartner AMT.

Standort: Greven
Verfahren: PRV: Piezoelectrically Actuated High-Precision Valve (piezo-actuated Feindosierventil), Herstellung und Integration von kryogenen und Vakuum-Komponenten für SNSPDs, Cold-Gas-Generator auf Basis von flüssigem Stickstoff (LN2, stabil -165 °C), LN2-Umlaufkühlsystem für 5-Achs-Manipulatoren in UHV (flexible Schlauchführung für LN2 und, Slip-Stick-Piezoaktuator mit Kugelführung (High-Positioniergenauigkeit), Synchronmotor für In-Vakuum-Anwendungen (< 0,25 W), Entwicklung und Fertigung piezoelektrisch angesteuerter Hochpräzisions-Ventile (PRV) für, Kryo- und Vakuumkomponenten (mechanisches Design, Produktion, Integration)
Werkstoffe: Saphir (Saphir-Saphir-Dichtfläche), Bismut (Flüssigmetall-Ionenemitter), Flüssiger Stickstoff (LN2), Piezoelektrisch angesteuertes Feindosierventil, Saphir-Saphir-Dichtfläche, Flüssiger Stickstoff, LN2-Umlaufkühlsystem, Wismut (Flüssigmetall-Ionenemitter)
Gegründet: 2020
Branchen: Vakuumtechnik, Oberflächenphysik, Massenspektrometrie, Halbleiterforschung, Kryotechnik, Quantentechnologie (SNSPD)

01
Engineering / mechanisches Design
02
Produktion und Integration
03
Onboard-Elektronik / Ansteuerung
04
Vertrieb über Distributionspartner AMT

Werkstoffe und Verfahren

PRV

Piezoelektrisch angesteuertes Feindosierventil

Hochpräzise Dosierung ultrakleiner Gasvolumina in Oberflächenphysik, Massenspektrometrie und Halbleiterforschung.

Saphir-Saphir-Dichtfläche

Chemisch und mechanisch belastbare Abdichtung des Ventils im Ultrahochvakuum.

LN2

Flüssiger Stickstoff

Grundlage des Cold-Gas-Generators mit stabilen -165 °C bei geringem Verbrauch.

LN2-K

LN2-Umlaufkühlsystem

Flexible Schlauchführung für LN2 und kryogenes Stickstoffgas zur Kühlung von 5-Achs-Manipulatoren in UHV.

Wismut (Flüssigmetall-Ionenemitter)

Patentierter Ionenemitter (EP07021097, WO2009056236A1), an dem der Gründer mitwirkte.

Standort

Greven

Firmensitz, Engineering und Fertigung

Losgröße: Prototypen und Kleinserien
Werkstoffe: Saphir, Piezomaterialien, Kryokomponenten (LN2)

Bauteile und Produkte

**PRV Piezo-Ventil DN40CF**Piezoantrieb, Saphir-Dichtung · Vakuumtechnik

**PRV mit BNC-Schnittstelle**Onboard-Elektronik, 0-10V · Mess- und Analysentechnik

Einblicke in die Fertigung

Duetting Technologies – Produkte und Entwicklungen

Branchen

VakuumtechnikOberflächenphysikMassenspektrometrieHalbleiterforschungKryotechnikQuantentechnologie (SNSPD)SNSPD / Quantentechnologie

Verfahren & technische Grenzen

Verfahren	Toleranz	Max. Bauteil	Gewicht	Losgröße	Werkstoffe
PRV: Piezoelectrically Actuated High-Precision Valve (piezo-actuated Feindosierventil)Engineering	–	–	–	–	Saphir
Herstellung und Integration von kryogenen und Vakuum-Komponenten für SNSPDsEngineering	–	–	–	–	Saphir
Cold-Gas-Generator auf Basis von flüssigem Stickstoff (LN2, stabil -165 °C)Engineering	–	–	–	–	flüssiger Stickstoff
LN2-Umlaufkühlsystem für 5-Achs-Manipulatoren in UHV (flexible Schlauchführung für LN2 undEngineering	–	–	–	–	flüssiger Stickstoff
Slip-Stick-Piezoaktuator mit Kugelführung (High-Positioniergenauigkeit)Engineering	–	–	–	–	–
Synchronmotor für In-Vakuum-Anwendungen (< 0,25 W)Engineering	–	–	–	–	–

Zusatzleistungen

Entwicklung und Fertigung piezoelektrisch angesteuerter Hochpräzisions-Ventile (PRV) fürKryo- und Vakuumkomponenten (mechanisches Design, Produktion, Integration)Onboard-Elektronik / selbstversorgende Ansteuerung über 0-10V-SignalVertrieb über Distributionspartner (weltweit über AMT)

Historie

2002
Ausbildung zum Physiklaboranten am Institut für Physik, Universität Münster; anschließend über 21 Jahre bei IONTOF Technologies GmbH (Piezoantriebe, Kryotechnik mit flüssigem Stickstoff).
2005–2008
Technische Fachhochschulreife, Studien in Elektrotechnik (FernUni Hagen, FH Südwestfalen) und Physikalischer Technik (FH Münster, Steinfurt).
2009
Patente als Miterfinder eines Flüssigmetall-Ionenemitters mit Wismut (EP07021097, WO2009056236A1).
2020
Gründung der Duetting Technologies UG (haftungsbeschränkt) in Greven.
heute
Gründer ist zusätzlich als Product Development Engineer bei Pixel Photonics GmbH, Münster, für Kryo-/Vakuumkomponenten für SNSPDs verantwortlich.