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Entwicklung, Produktion und Service von UHV-Oberflächen-Elektronenmikroskopen (LEEM/PEEM) und Zubehör
ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH
Clausthal-Zellerfeld, DeutschlandNeu auf Amplifa
Über ELMITEC
Die ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH entwickelt, produziert und serviced Ultra-Hochvakuum-Kathodenlinsen-Oberflächen-Elektronenmikroskope (LEEM und PEEM) sowie Zubehör für diese und andere Oberflächenwissenschafts-Instrumente. Das 1995 gegründete Unternehmen ging aus der Arbeitsgruppe von Prof. Ernst Bauer, dem Erfinder des Low Energy Electron Microscope (LEEM), hervor; die meisten Mitarbeitenden stammen aus dieser Gruppe und verfügen über langjährige Erfahrung in der UHV-Oberflächenelektronenmikroskopie und der Instrumentierung der Oberflächenwissenschaft. Seit über 15 Jahren ist ELMITEC Hauptlieferant von LEEM- und PEEM-Systemen weltweit. Zum Produktportfolio gehören neben den Mikroskopen ein Aberrationskorrektor als Upgrade oder als komplettes AC-LEEM (laterale Auflösung 1,9 nm im Werksabnahmetest) sowie ein Imaging Energy Analyzer mit einer kinetischen Energieauflösung von rund 115 meV im spektroskopischen Modus. Ersatzteile wie Sample Cartridges und ein intensiver Kundensupport ergänzen das Angebot. Als kleiner, spezialisierter Betrieb passt ELMITEC seine Instrumente an Kundenanforderungen an. Der Firmensitz befindet sich in Clausthal-Zellerfeld.
- Standort
- Clausthal-Zellerfeld
- Verfahren
- Entwicklung, Produktion und Service von UHV-Elektronenmikroskopen (LEEM, PEEM) und Zubehör, Entwicklung, Produktion und Service von UHV-Kathodenlinsen-Oberflächen-Elektronenmikroskopen, Zubehör und Ersatzteile (z. B. Sample Cartridges), Aberrationskorrektor als Upgrade oder AC-LEEM, Imaging Energy Analyzer, Kundensupport
- Werkstoffe
- Ultra-Hochvakuum-Instrumentierung, Aberrationskorrektor, Imaging Energy Analyzer
- Gegründet
- 1995
- Branchen
- Oberflächenwissenschaft, Wissenschaftliche Instrumentierung, Forschung/UHV-Elektronenmikroskopie
- 01
Entwicklung
- 02
Fertigung und Montage
- 03
Werksabnahmetest
- 04
Auslieferung
- 05
Service und Ersatzteile
Technik & Komponenten
Ultra-Hochvakuum-Instrumentierung
Komponenten werden auf UHV-Kompatibilität für Oberflächenwissenschafts-Instrumente ausgelegt.
Aberrationskorrektor
Verbessert die laterale Auflösung auf 1,9 nm, verfügbar als Upgrade oder komplettes System.
Imaging Energy Analyzer
Energieanalyse mit kinetischer Auflösung von ca. 115 meV im spektroskopischen Modus.
Standort
Clausthal-Zellerfeld
DEEntwicklung, Produktion, Service (Hauptsitz)
- Werkstoffe
- UHV-Komponenten
- LEEM (Low Energy Electron Microscope)
- PEEM (Photoemission Electron Microscope)
- Aberrationskorrektor / AC-LEEM
- Imaging Energy Analyzer
- Sample Cartridges / Ersatzteile
Instrumente & Komponenten
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Entwicklung, Produktion und Service von UHV-Elektronenmikroskopen (LEEM, PEEM) und ZubehörEngineering | – | – | – | – | – |
5 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| LEEM (Low Energy Electron Microscope) | ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH | – | – | seit 1995 | Clausthal-Zellerfeld, Deutschland |
| PEEM (Photoemission Electron Microscope) | ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH | – | – | – | Clausthal-Zellerfeld, Deutschland |
| Aberrationskorrektor / AC-LEEM | ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH | – | laterale Auflösung 1,9 nm (Werksabnahmetest) | – | Clausthal-Zellerfeld, Deutschland |
| Imaging Energy Analyzer (Spektroskopie) | ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH | – | kinetische Energieauflösung ~115 meV im spektroskopischen Modus | – | Clausthal-Zellerfeld, Deutschland |
| Sample Cartridges / Ersatzteile | ELMITEC Elektronenmikroskopie GmbH | – | – | – | Clausthal-Zellerfeld, Deutschland |
Zusatzleistungen
Unternehmenshistorie
- 1995
Gründung; hervorgegangen aus der Arbeitsgruppe von Prof. Ernst Bauer, dem Erfinder des LEEM
Seit über 15 Jahren Hauptlieferant von LEEMs und PEEMs weltweit; Vorstellung des Aberrationskorrektors (Auflösung 1,9 nm) und des Imaging Energy Analyzers (ca. 115 meV)