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Optische Metrologie- und Inspektionssysteme sowie Services für die Halbleiterindustrie

EUMETRYS GmbH
Neu auf Amplifa
Über EUMETRYS
EUMETRYS ist ein auf optische Metrologie und Inspektion spezialisiertes Unternehmen für die Halbleiterindustrie. Das Portfolio umfasst IVS-Systeme für CD- und Overlay-Messung, Systeme zur Oberflächenkontaminationsanalyse (YGK), Photoluminescence-Mapping (ETAMAX PLATO), Klassifizierung von Kristalldefekten und Stacking Faults in SiC (MiPLATO SiC), Micro-LED-Review-Systeme sowie das All-in-one-Messsystem MICROSCAN für VIS- und NIR-Anwendungen. Neue und remanufacturierte Anlagen werden an Halbleiterhersteller und Labore vertrieben. Ergänzend bietet EUMETRYS präventive und kurative Wartung, mehrstufige Schulungen, Prozess- und Datenanalyse sowie Roboter-Services in Europa, Asien und Nordamerika an. Zielbranchen sind Standard- und Compound-Halbleiter (III-V), MEMS, LED, Substrate, Telekommunikation, VCSEL und Power Devices. Seit November 2022 besteht mit der EUMETRYS GmbH eine Tochtergesellschaft in Deutschland.
- Verfahren
- Optical Metrology (IVS, CD- und Overlay-Messung), Particles inspection / Oberflächenkontaminationsanalyse, Schichtdickenmessung (Layer thickness measurement), Photoluminescence (PL) Mapping / Mikro- und Makro-PL für VIS und NIR, Kristalldefekte- und Stacking-Fault-Klassifizierung, Micro LED Review, Prozessanalyse und Qualifizierung von Steppern, Präventive und kurative Wartung, Schulungen
- Werkstoffe
- SiC (Siliziumkarbid), III-V-Halbleiter, MEMS/LED-Substrate, Silizium-Halbleiterwafer, Inspectrology IVS (CD & Overlay), Oberflächenkontaminationsanalyse, PL-Mapping (ETAMAX), Kristalldefekt-Klassifizierung
- Branchen
- Halbleiterindustrie, Compound-Halbleiter (III-V), MEMS, LED / Micro-LED, Substrate, Telekommunikation / Waveguides
- 01
Beratung und Prozessanalyse
- 02
Vertrieb neuer und remanufacturierter Metrologiesysteme
- 03
Inbetriebnahme und Qualifizierung
- 04
Präventive und kurative Wartung
- 05
Schulungen und Datenanalyse
Messsysteme & Verfahren
Inspectrology IVS (CD & Overlay)
Optisches Metrologiesystem für CD- und Overlay-Messung an Halbleiterwafern.
Oberflächenkontaminationsanalyse
Partikelinspektion an opaken und transparenten Substraten.
PL-Mapping (ETAMAX)
Mikro- und Makro-Photoluminescence-Mapping für VIS- und NIR-Anwendungen.
Kristalldefekt-Klassifizierung
Klassifizierung von Kristalldefekten und Stacking Faults in SiC.
Micro LED Review
Review-System für Micro-LED-Substrate.
All-in-one VIS/NIR-Messsystem
Kombiniertes Messsystem für VIS- und NIR-Anwendungen.
Systeme & Produkte


Einblicke in die Fertigung




Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Optical Metrology (IVS, CD- und Overlay-Messung)Prüfung | – | – | – | – | Halbleiter Wafer, III-V-Halbleiter, SiC |
| Particles inspection / OberflächenkontaminationsanalysePrüfung | – | – | – | – | Undurchsichtige und transparente Substrate |
| Schichtdickenmessung (Layer thickness measurement)Prüfung | – | – | – | – | Halbleiter Wafer |
| Photoluminescence (PL) Mapping / Mikro- und Makro-PL für VIS und NIRPrüfung | – | – | – | – | SiC, III-V-Halbleiter |
| Kristalldefekte- und Stacking-Fault-KlassifizierungPrüfung | – | – | – | – | SiC |
| Micro LED ReviewPrüfung | – | – | – | – | Micro LED Substrate |
| Prozessanalyse und Qualifizierung von SteppernEngineering | – | – | – | – | – |
| Präventive und kurative Wartung, SchulungenEngineering | – | – | – | – | – |
6 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Optisches Metrologie- und Inspektionssystem (CD & Overlay) | Eumetrys / Inspectrology IVS | – | – | – | – |
| Oberflächenkontaminationsanalyse-System | YGK | – | – | – | – |
| Photoluminescence-Mapping-System | ETAMAX PLATO | – | – | – | – |
| Kristalldefekt-/Stacking-Fault-Klassifizierungssystem | ETAMAX MiPLATO SiC | – | – | – | – |
| Micro LED Review-System | Eumetrys / ETAMAX MICRO LED | – | – | – | – |
| All-in-one VIS/NIR Messsystem | Eumetrys / ETAMAX MICROSCAN | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Historie
- 2020
Präsentation der Produkte über 3D-Virtual-Reality-Technologie auf der Website (Dezember 2020).
- 2022
CEO Yannick Bedin im Interview bei BFM Business TV, Sendung 'Décodage' (September 2022).
- 2022
Gründung der Tochtergesellschaft EUMETRYS GmbH in Deutschland (November 2022).