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Japanischer Hersteller synthetischer Präzisionsschleifmittel, CMP-Slurries und thermischer Spritzpulver.
FUJIMI INCORPORATED
Kiyosu, Aichi (Japan) · Inazawa, Aichi (Japan) · Kakamigahara, Gifu (Japan) · Tualatin, Oregon (USA) · Kulim, Kedah (Malaysia) · Ingelfingen (Deutschland)Neu auf Amplifa
Über Fujimi
FUJIMI INCORPORATED wurde 1950 gegründet und ist ein japanischer Hersteller synthetischer Präzisionsschleifmittel mit Sitz in Kiyosu, Präfektur Aichi. Das Unternehmen produziert Lapping- und Poliermaterialien, CMP-Slurries für die Halbleiterfertigung, Poliermittel für Festplatten und optische Linsen sowie Cermets und Oxidkeramik-Pulver für das thermische Spritzen. Die Verfahren beruhen auf drei Kernkompetenzen: Filtration/Klassierung/Purifizierung, Pulvertechnologie und Chemietechnologie. Verarbeitet werden unter anderem Aluminiumoxide, Siliziumcarbid, Wolframcarbid-Cermets, Ceriumoxid und kolloidale Kieselerde für Substrate aus Silizium, Saphir, GaAs, GaN, SiC, LiNbO3 und LiTaO3. Abnehmer finden sich in der Halbleiterindustrie, bei Festplatten, LED/Lichttechnik, Optik, Automobil- und Luftfahrtindustrie sowie in der Stahl- und Energiewirtschaft. Mit Produktionswerken in Japan, den USA und Malaysia sowie Vertriebsgesellschaften in Europa, China, Korea und Taiwan beliefert Fujimi Kunden weltweit, darunter Intel, AMD und TSMC.
- Standort
- 452-8502 Kiyosu, Aichi
- Verfahren
- Lapping (abrasive products FO, A, WA, PWA, GC, C), Polishing (COMPOL, POLIPLA, FM, FAL, FZ, INSEC, GLANZOX, MIRAFLEX), CMP (Chemical Mechanical Planarization, PLANERLITE Slurries), Slicing/Cutting (GC Abrasives für Wire Saws), Grinding/Schleifen (Diamond-Produkte FDP, FDW, FDC, DIATEC), Blast/Strahlen (A, WA, GC), Thermal Spraying (Thermisches Spritzen mit Cermet- und Keramik-Pulvern), HVOF thermal spray system (ultrafine-grain, Weltneuheit 2002)
- Werkstoffe
- Silizium (Einkristall-Ingot, Wafer), Siliziumcarbid (α-Typ, grün), Aluminiumoxid (White fused alumina), Calciniertes Plättchen-Aluminiumoxid, Cubisches Aluminiumoxid, Titanphosphat, Zinkoxid (rod-shaped, Al-dotiert elektrisch leitfähig), Wolframcarbid-Hartmetallpulver
- Zertifikate
- ISO 9002, ISO 9001, ISO 14001, JIS Q 9100, JIS Q 9100 (Luft-/Raumfahrt)
- Gegründet
- 1950
- Mitarbeiter
- 1305
- 01
Rohpulversynthese und Pulverdesign
- 02
Filtration, Klassierung, Purifizierung
- 03
Chemische Formulierung (Slurries, Polierkompositionen)
- 04
Qualitätskontrolle und Partikelcharakterisierung
- 05
Technische Entwicklung ab Prototypenstufe mit Kunden
- 06
Vertrieb über globales Netzwerk
Werkstoffe & Verfahren
White Fused Alumina (>96,0 % Al2O3)
Korund-Schleifkorn für Lapping, Polieren, Strahlen und Schleifscheiben.
Platelet Calcined Alumina (>99,0 % Al2O3)
Plättchenförmiges Poliermittel in breiter Korngrößenverteilung von 3,1 bis 35 µm.
Grünes Siliziumcarbid (α-Typ)
Sehr hartes, chemisch stabiles Schleifkorn für Slicing, Lapping und als Sinterrohstoff.
Ceriumoxid (FR-Serie)
Poliermittel für optisches und Flachglas seit 1960.
WC/17 % Co (AMS7881A)
Hartmetall-Spritzpulver mit hoher Zähigkeit und Verschleißbeständigkeit, u. a. für Luftfahrt.
WC/10 % Co/4 % Cr (AMS7882A)
Spritzpulver mit hoher Härte sowie Korrosions- und Kavitationserosionsbeständigkeit.
WC/20 % CrC/7 % Ni
Cermetspritzpulver für Verschleiß-, Korrosions- und Oxidationsschutz.
Aluminiumoxid-Titanoxid
Oxidkeramik-Spritzpulver u. a. für elektrostatische Halter und Kammerwände.
Molybdänborid
Borid-Cermetspritzpulver für Walzen im Stahltransport.
Kolloidale Kieselerde / Silizium-Polierchemie
Basis der GLANZOX- und CMP-Slurry-Produkte für Siliziumwafer.
Stabförmiges Zinkoxid
Wärmeleitfähiger Füllstoff für thermische Grenzschichtmaterialien, auch Al-dotiert elektrisch leitfähig.
Diamant-Abrasivprodukte
Für stabiles, präzises Schleifen von Optik, Hartmetall, Ferrit und Bariumtitanat.
Produkte & Anwendungen
Einblicke in die Fertigung
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Lapping (abrasive products FO, A, WA, PWA, GC, C)Oberfläche | – | – | – | – | Silizium-Wafer, Glas, Saphir, GaN, GaAs, GaP, InP, SiC, LiNbO3, LiTaO3, Ferrit, Bariumtitanat, Alumina, PZT, Metalle, Kunststoff |
| Polishing (COMPOL, POLIPLA, FM, FAL, FZ, INSEC, GLANZOX, MIRAFLEX)Oberfläche | Spiegelfinish (mirror finish) | – | – | – | Silizium-Wafer, Glas, Saphir, GaN, SiC, GaAs, GaP, InP, LiNbO3, LiTaO3, Ferrit, Bariumtitanat, Alumina, PZT, Metalle, Kunststofflinsen, Automobil-Klarlack |
| CMP (Chemical Mechanical Planarization, PLANERLITE Slurries)Oberfläche | – | – | – | – | Silizium, Cu (Kupfer-CMP), Halbleiter-Substrate |
| Slicing/Cutting (GC Abrasives für Wire Saws)Zerspanung | – | – | – | – | Single-Crystal-Silizium-Ingot |
| Grinding/Schleifen (Diamond-Produkte FDP, FDW, FDC, DIATEC)Zerspanung | – | – | – | – | optische Linsen, Metalle, Hartmetall (Cemented Carbides), Glas, Ferrit, Bariumtitanat, Alumina |
| Blast/Strahlen (A, WA, GC)Oberfläche | – | – | – | – | – |
| Thermal Spraying (Thermisches Spritzen mit Cermet- und Keramik-Pulvern)Oberfläche | low surface roughness (WC/Fe) | – | – | small quantities für Prototypen | WC/Co, WC/Co/Cr, WC/NiCr, WC/Hastelloy, WC/Fe, CrC/NiCr, Borid-Cermet (MoB), Al2O3, Al2O3-TiO2, Oxidkeramiken |
| HVOF thermal spray system (ultrafine-grain, Weltneuheit 2002)Oberfläche | – | – | – | – | WC-Cermet |
| Low temperature spray process (500 °C, WC-Pulver)Oberfläche | – | – | – | – | Wolframcarbid-Pulver, WC/Fe |
2 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Thermisches Spritzsystem (HVOF, ultrafeinkörnig) | – | – | – | 2002 | Kakamihigashimachi / Thermal Spray Materials Dept., Kakamigahara, Gifu |
| CMP-Polier- und Messeinrichtungen (identisch mit Kundenausstattung) | – | – | – | – | Entwicklungszentren Japan, USA, Taiwan |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Qualität & Zertifizierungen
Alle japanischen Produktionswerke sind nach ISO 9001 und ISO 14001 zertifiziert; für thermische Spritzmaterialien besteht eine Zertifizierung nach JIS Q 9100 (Luft- und Raumfahrt). Kunden wie Intel, AMD und TSMC haben Fujimi mehrfach mit Lieferantenqualitätsauszeichnungen versehen.
| Nachweis | Kiyosu (Biwajima Plant) | Inazawa Plant | Kakamigahara Plant | Kakamihigashimachi Plant | Tualatin (USA) | Kulim (Malaysia) |
|---|---|---|---|---|---|---|
| ISO 9001 | ||||||
| ISO 14001 | ||||||
| JIS Q 9100 (Luft-/Raumfahrt) |