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Entwickelt und fertigt SU-8-Funktionalpolymere, Photoresiste und Mikrostrukturen für MEMS, LIGA und Mikroelektronik.

Gersteltec Engineering Solutions

Pully (CH)Neu auf Amplifa

2004Gegründet als EPFL Spin-off

Pully, SchweizStandort

MEMS, LIGA, Photonik, MikrofluidikGeschäftsfelder

Über Gersteltec

Gersteltec Engineering Solutions ist ein 2004 als Spin-off der EPFL gegründetes Schweizer Unternehmen mit Sitz in Pully. Das Unternehmen entwickelt, fertigt und vertreibt Epoxyd-Photoresiste, Photo-Dielektrika und zugehörige Produkte auf Basis von SU-8-Technologie für die Herstellung von Mikrostrukturen wie MEMS, MOMES, BioMEMS und LIGA-Mikroteilen. Die Produkte lassen sich mit Nanopartikeln funktionalisieren, um spezifische elektrische, thermische, physikalische oder optische Eigenschaften zu erreichen; es gibt außerdem bioverträgliche, toxizitätsfreie SU-8-Photoresiste für Mikrofluidik und neurale Anwendungen. Das Leistungsspektrum reicht von maßgeschneiderten Resist-Formulierungen, Masken- und Funktionsdesign, Prozessentwicklung und Machbarkeitsstudien bis zu Prototyping, Foundry-Dienstleistung in Semi-Volumenproduktion, Assembly und Packaging. Abnehmer sind Unternehmen, Universitäten, Biotechs, Pharmakonzerne und Start-ups in Branchen wie Photonik, Mikrofluidik/MedTech, Uhrenindustrie, Inkjet- und Displaytechnik sowie Automotive-Sensoren.

Standort: Pully
Verfahren: Herstellung von SU-8 Photoepoxy-Mikrostrukturen (MEMS, MOMES, BioMEMS, LIGA), UV-LIGA Mikrofabrikation, Microstereolithography (3D-Mikro-Stereolithografie), Electroforming / Galvanik für LIGA-Microparts (Gears, Federn, Greifer, Metallteile), Micro-Mold Fabrication (SU8 Master, SU8 Cap, Cavities), Nanoimprint-Lithografie, Beschichtung mit Nanopartikeln (Coating Nanoparticles, Pips coating), e-Beam Lithografie (E-Beam Resist)
Werkstoffe: SU-8 Photoresist (negativer Epoxid-Photolack), Bio-kompatibler SU-8 Photoresist (toxizitätsfrei), Nanocomposite SU-8 Epoxy (elektrisch/thermisch/optisch funktionalisiert), Photo-Dielectric, E-Beam Resist, Polyimid, Keramik-Composite / Aluminiumoxid (Alumina, gesintert), Dielektrische und leitfähige Nano-Inks
Gegründet: 2004

01
Maßgeschneiderte SU-8-Formulierung
02
Masken- & Funktionsdesign
03
Prozessentwicklung & Skalierung
04
Prototyping / Foundry Service (Semi-Volumenproduktion)
05
Assembly & Packaging

Materialien & Verfahren

SU-8

SU-8 Photoresist (negativer Epoxid-Photolack)

Basiswerkstoff für MEMS-, MOMES- und LIGA-Mikrostrukturen in Dickschichttechnik.

SU-8 bio

Bioverträglicher SU-8 Photoresist (toxizitätsfrei)

Für Mikrofluidik-Chips für Diagnostik und neurale Anwendungen.

SU-8 NC

Nanocomposite SU-8 Epoxy

Mit Nanopartikeln funktionalisiert für elektrische, thermische oder optische Eigenschaften.

Photo-Dielectric

Dielektrische Schichten u. a. für Display- und Elektronikanwendungen.

EBR

E-Beam Resist

Resiste für die Elektronenstrahl-Lithografie.

Al2O3

Keramik-Composite / Aluminiumoxid (gesintert)

Via Mikrostereolithographie hergestellte dreidimensionale reine Alumina-Mikrokomponenten.

Ink

Dielektrische und leitfähige Nano-Inks

Für Inkjet- und Displayanwendungen.

Standorte

Pully

Hauptsitz, Entwicklung und Produktion

Werkstoffe: SU-8, Nanocomposite Epoxy, Keramik-Composites

Bauteile & Anwendungen

**Waveguide-Struktur**SU-8 Photolithografie · Photonik und Optik

**LIGA-Mikrozahnräder**UV-LIGA / Electroforming · Uhrenindustrie

**MEMS-Komponente**SU-8 Prozessentwicklung · MEMS

**SU-8 Replik**Micro-Mold Fabrication · Mikrosystemtechnik

**Inkjet-Black SU-8 Struktur**SU-8 Photolithografie · Inkjet-Technologie

**Mikrofluidik-Bauteil**SU-8 / Opfermaterialtechnik · Mikrofluidik und MedTech

**Nanopartikel-Beschichtung**Coating · Oberflächentechnik

Einblicke in die Fertigung

Verfahren & technische Grenzen

Verfahren	Toleranz	Max. Bauteil	Gewicht	Losgröße	Werkstoffe
Herstellung von SU-8 Photoepoxy-Mikrostrukturen (MEMS, MOMES, BioMEMS, LIGA)Kunststoff	–	–	–	–	SU-8, Nanocomposite Epoxy, Bio-kompatible SU-8 Photoresists
UV-LIGA MikrofabrikationKunststoff	–	–	–	–	SU-8, Composite Photoresists
Microstereolithography (3D-Mikro-Stereolithografie)Additiv	–	–	–	–	Photopolymer, Ceramic composites, Alumina (gesintert)
Electroforming / Galvanik für LIGA-Microparts (Gears, Federn, Greifer, Metallteile)Umformung	–	–	–	–	Metall
Micro-Mold Fabrication (SU8 Master, SU8 Cap, Cavities)Kunststoff	–	–	–	–	SU-8
Nanoimprint-LithografieKunststoff	–	–	–	–	SU-8
Beschichtung mit Nanopartikeln (Coating Nanoparticles, Pips coating)Oberfläche	–	–	–	–	Nanopartikel-EPoxy, SU-8
e-Beam Lithografie (E-Beam Resist)Kunststoff	–	–	–	–	E-Beam Resist
MEMS/MOMES/LIGA Prozessentwicklung, Prototyping, Foundry Service (semi volume production)Engineering	–	–	–	–	SU-8
Packaging and Assembly (WLP, CSP, Bonding, Microfluidic Assembly)Montage	–	–	–	–	SU-8
Mask Design / Functional Design / Feasibility Studies / Reliability TestingEngineering	–	–	–	–	–

Zusatzleistungen

PrototypingDevelopment & ConsultingTechnical servicesTailor-made photoresist formulationMask designFunctional designProcess development, optimization and scale upFeasibility studiesReliability testingAssemblyPackaging designTrainingFoundry service / semi volume production

Referenzkunden

Unternehmen, Universitäten, kleine Firmen, Biotechs, Pharmas und Start-ups

Historie

2003
Wissenschaftliche Publikationen zu Photopolymer-Mikrostrukturen, UV-LIGA und Mikrostereolithographie (EPFL-Forschung)
2004
Gründung als Spin-off der EPFL in der Schweiz