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Distributor und Systemintegrator für Laser, Spektroskopie, Photonik, Mikropositionierung und Femtosekunden-Laserbearbeitung
GMP SA
CH-1020 Renens · CH-8117 Fällanden (Zürich)Neu auf Amplifa
Über GMP SA
GMP SA ist seit 1977 in den Bereichen Laser, Spektroskopie, Photonik und Mikropositionierung tätig. Das Schweizer Unternehmen mit Sitz in Renens (VD) und einem Büro in Fällanden bei Zürich vertreibt Hightech-Photonik-Produkte wissenschaftlicher und industrieller Hersteller und entwickelt durch seine eigene Engineering-Abteilung schlüsselfertige Lösungen für die Systemintegration. Im Bereich Industrial Lasers & Machines offeriert GMP Femtosekunden-Laser-Workstations für Mikrobearbeitung, darunter Through-Glass-Vias (TGV) in Borosilikat- und alkali-freiem Glas, direktes Laserschreiben von Fiber Bragg Gratings in optischen Fasern sowie Multiphoton-Polymerisation und Selective Laser Etching. Weitere Schwerpunkte sind Laserstrahl-Diagnostik, Raman-Spektroskopie für Materialcharakterisierung sowie aktive Schwingungsisolationssysteme für Halbleiter- und Nanotechnologie-Fabriken. Das Vertriebs- und Service-Team besteht aus Physikern und spezialisierten Ingenieuren; Garantieabwicklung erfolgt in der Schweiz durch das Schweizer Unternehmen.
- Standort
- CH-1020 Renens
- Verfahren
- Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung (Through Glass Vias / TGV, kombiniert mit Nassätzen), Femtosecond Direct Laser Writing für Fiber Bragg Gratings (Point-by-Point, Line-by-Line), Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung nach Kundenspezifikation (melt-less micromachining), Multiphoton-Polymerization (MPP) - additive Fertigung polymerer Strukturen mit submikrometer, Selective Laser Etching (SLE) - subtraktive Lasertechnologie, Engineering / schlüsselfertige Systemintegration (Turnkey Solutions), Raman-Spektroskopie als QC/Werkstoffcharakterisierung (z.B. Monitoring von UV-Aushärteprozessen,, Vertrieb von Hightech-Photonik-Produkten (Laser, Spektroskopie, Mikropositionierung)
- Werkstoffe
- Borosilikatglas (Borosilicate), Alkali-freies Glas, Photoresist (Polymer für Multiphoton-Polymerization), Optische Fasern (Single-mode, Multicore, Dual-cladding), Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung (Through Glass Vias), Fiber Bragg Grating Writing, Femtosecond-Laser-Workstation, Multiphoton-Polymerisation
- Gegründet
- 1977
- Branchen
- Wissenschaftliche Forschung / Laboratorien, Industrielaser / Laserbearbeitung, Halbleiter- und Nanotechnologie, Life Sciences / Biotech / Mikroskopie, Telekommunikation, Medizintechnik / Ophthalmologie
- 01
Beratung und Vertrieb von Photonik-Komponenten
- 02
Engineering und Systemauslegung
- 03
Turnkey-Systemintegration
- 04
Inbetriebnahme und Service in der Schweiz
Werkstoffe und Verfahren
Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung (Through Glass Vias)
Bearbeitung von Borosilikat- und alkali-freiem Glas (BF33, D263t, EXG, SG 7.8, SG 3.4, EN-1A, OA-11) bis 600×600 mm Panels mit ±1 µm Toleranz und Rz <1 µm.
Fiber Bragg Grating Writing
Point-by-Point- und Line-by-Line-Schreiben in Single-mode-, Multicore- und Dual-cladding-Fasern mit kleinster Teilung ca. 1 µm.
Femtosecond-Laser-Workstation
Aufkundenbearbeitung mit melt-less micromachining, Reitweg 25×25 bis 300×300 mm bei ±250 nm Positioniergenauigkeit.
Multiphoton-Polymerisation
Additive Fertigung polymerer Strukturen aus Photoresist mit submikrometer Auflösung.
Selective Laser Etching
Subtraktive Lasertechnologie zur Fertigung von Strukturen in Glas.
Raman-Spektroskopie (785 nm)
Werkstoffcharakterisierung und QC, z. B. Monitoring von UV-Aushärteprozessen ophthalmischer Materialien.
Standorte
Renens
CHHauptsitz: Vertrieb, Engineering, Turnkey-Integration, Service
Fällanden (Zürich)
CHBüro Zürich: Vertrieb und Support (deutsch/englisch)
Systeme und Bauteile
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung (Through Glass Vias / TGV, kombiniert mit Nassätzen)Zerspanung | ±1 µm · Rz <1 µm | 600×600 mm Panel × 600 mm | – | – | Glas (Borosilicate, alkali-frei: BF33, D263t, EXG, SG 7.8, |
| Femtosecond Direct Laser Writing für Fiber Bragg Gratings (Point-by-Point, Line-by-Line)Additiv | Smallest pitch ~1 µm | max. 300×300 mm working range (Custom) × 300 mm × 60 mm | – | – | Optische Fasern (Single-mode, Multicore, Dual-cladding) |
| Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitung nach Kundenspezifikation (melt-less micromachining)Zerspanung | ± 250 nm | 300×300 mm (Travel range) × 300 mm | – | – | – |
| Multiphoton-Polymerization (MPP) - additive Fertigung polymerer Strukturen mit submikrometerAdditiv | submicrometric resolution | – | – | – | Photoresist (Polymer) |
| Selective Laser Etching (SLE) - subtraktive LasertechnologieZerspanung | – | – | – | – | – |
| Engineering / schlüsselfertige Systemintegration (Turnkey Solutions)Engineering | – | – | – | – | – |
| Raman-Spektroskopie als QC/Werkstoffcharakterisierung (z.B. Monitoring von UV-Aushärteprozessen,Prüfung | – | – | – | – | Ophthalmische Materialien / Polymere (Monomere, |
| Vertrieb von Hightech-Photonik-Produkten (Laser, Spektroskopie, Mikropositionierung)Montage | – | – | – | – | – |
8 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Femtosecond-Laser-Mikrobearbeitungs-Workstation (TGV) | WOP - Workshop Of Photonics FemtoTGV | – | Lab: 300×300 mm; Industriell: 600×600 mm; Positioniergenauigkeit ±0.5 µm | – | Renens / Fällanden (Vertrieb) |
| Laser-Workstation für Fiber Bragg Gratings Writing | WOP - Workshop Of Photonics FemtoFBG | – | Standard 160×160×60 mm; Custom bis 300×300 mm | – | – |
| Femtosecond-Laser-Workstation (Turnkey) | WOP - Workshop Of Photonics FemtoFAB | – | Travel range 25×25 mm bis 300×300 mm; Positioniergenauigkeit ±250 nm | – | – |
| Multiphoton-Polymerization-Anlage | Femtika | – | – | – | – |
| Selective Laser Etching (SLE) Anlage | Femtika | – | – | – | – |
| Aktives Schwingungsisolationssystem | TMC STACIS Quiet Island | – | – | – | – |
| Aktives Schwingungsisolationssystem (Compact) | TMC STACIS Compact Quiet Island | – | für Instrumente >1134 kg | – | – |
| Automatisches M2-Laserstrahlqualitäts-Messsystem | Gentec E-O Beamage-M2 | – | Sensor 11.3×11.3 mm; Translation 200 mm | – | – |
Zusatzleistungen
Historie
- 1977
GMP nimmt seine Tätigkeit in den Bereichen Laser, Spektroskopie, Photonik und Mikropositionierung auf.
- 1987
Website-Hinweis: Copyright-Hinweis ab 1987 (© 1987 - 2026 GMP SA).
- 2017
Nachfolge geregelt: Fabio Manzini übernimmt die Firmenleitung vom Gründer Jean-Jacques Goy, der Präsident bleibt.