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Entwickelt und fertigt Lasersysteme für hochpräzise maskenlose Lithographie und Nanofabrication.
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Deutschland · Schweiz · ChinaNeu auf Amplifa
Über Heidelberg Instruments
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH ist ein Hersteller von hochpräzisen Laserlithographie-Systemen, Maskless Alignern und Nanofabrication-Werkzeugen. Das Portfolio reicht von kompakten Tischgeräten für Prototyping und Forschung bis zu High-End-Anlagen für Photomaskenfertigung und hochvolumige industrielle Produktion. Die Systeme ermöglichen 2D-Strukturierung sowie komplexe 2.5D-Strukturen mittels Graustufen-Lithographie, ergänzt durch Thermal Scanning Probe Lithography (NanoFrazor) mit In-situ-Inspektion und Metrologie. Seit rund 40 Jahren sind über 1.500 Systeme weltweit installiert; Kunden sind führende Unternehmen, Universitäten und Forschungsinstitute. In den Process and Application Labs (PAL) in Deutschland, der Schweiz und China arbeiten Ingenieure eng mit Kunden zusammen und bieten Schulung und Support. Einsatzfelder umfassen Mikrooptik und Photonik, Halbleiter und Advanced Packaging, MEMS, Quantengeräte, Mikrofluidik, Biotechnologie, Displays, Nanoimprint-Templates und Photomasken.
- Standort
- Deutschland
- Verfahren
- Maskless Laser Lithography, Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL), Grayscale Lithography, Direct Laser Sublimation, In-situ Inspection & Metrology (Closed-Loop Lithography), Accurate Pattern Placement (Alignment/Overlay), Photomask Manufacturing, Maskless Aligner Exposure (MLA)
- Werkstoffe
- PPA (Polyphthalaldehyde thermal resist), i-line resist, Glas (Glass substrates), Chrom, Zerodur (sample chuck material), Silicon, Graphene, Mica (Glimmer)
- Zertifikate
- ISO 9001, In-situ-Inspektion & Metrologie
- Branchen
- Halbleiter, Advanced Packaging, Displays, Mikrooptik und Photonik, MEMS, Quantengeräte
- 01
Anlagenentwicklung und Konstruktion
- 02
Systemfertigung (Laserlithographie, Maskless Aligner, NanoFrazor)
- 03
In-situ-Inspektion und Metrologie
- 04
Prozessentwicklung in den Application Labs
- 05
Schulung, Training und weltweiter Service
Standorte
Deutschland
DEProzess- und Anwendungslabor (PAL)
- Schulung und Prozessentwicklung für Lithographie-Systeme
Schweiz
CHProzess- und Anwendungslabor (PAL)
China
CNProzess- und Anwendungslabor (PAL)
Systeme und Anwendungen
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Maskless Laser LithographyAdditiv | – | – | – | – | i-line resist, thermally sensitive resist |
| Thermal Scanning Probe Lithography (t-SPL)Additiv | – | – | – | – | PPA resist, thermally sensitive resist |
| Grayscale LithographyAdditiv | – | – | – | – | – |
| Direct Laser SublimationAdditiv | – | – | – | – | PPA resist |
| In-situ Inspection & Metrology (Closed-Loop Lithography)Prüfung | – | – | – | – | PPA resist |
| Accurate Pattern Placement (Alignment/Overlay)Additiv | – | – | – | – | negative resist |
| Photomask ManufacturingAdditiv | – | – | – | – | Glas, Chrom |
| Maskless Aligner Exposure (MLA)Additiv | 1 µm minimum feature size (MLA 300, Advanced Packaging) | – | – | – | i-line resist |
14 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Maskless Aligner | Heidelberg Instruments µMLA Maskless Aligner | – | – | – | – |
| Maskless Aligner | Heidelberg Instruments MLA 150 | – | – | – | – |
| Maskless Aligner | Heidelberg Instruments MLA 300 | – | – | – | – |
| Direct Write Laser Lithography System | Heidelberg Instruments DWL 66 + | – | – | – | – |
| Direct Write Laser Lithography System | Heidelberg Instruments DWL 2000 GS | – | – | – | – |
| Direct Write Laser Lithography System | Heidelberg Instruments DWL 4000 GS | – | – | – | – |
| Volume Pattern Generator | Heidelberg Instruments VPG + 200 | – | – | – | – |
| Volume Pattern Generator | Heidelberg Instruments VPG + 400 | – | – | – | – |
| Volume Pattern Generator | Heidelberg Instruments VPG + 800 | – | – | – | – |
| Volume Pattern Generator | Heidelberg Instruments VPG + 1400 FPD | – | – | – | – |
| Volume Pattern Generator | Heidelberg Instruments VPG + 1850 FPD | – | – | – | – |
| Maskless Stepper | Heidelberg Instruments VPG 300 DI | – | – | – | – |
| Semiconductor Mask Writer | Heidelberg Instruments ULTRA | – | – | – | – |
| Thermal Scanning Probe Lithography System | Heidelberg Instruments NanoFrazor | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
In-situ-Inspektion und Präzision
Die Systeme nutzen differenzielle Laserinterferometer, optische Front- und Backside-Alignment sowie In-situ-Inspektion und Metrologie für präzise Positionierung und Overlay. Beim NanoFrazor ermöglicht die patentierte Closed-Loop-Lithographie sofortige Prüfung der geschriebenen Strukturen ohne nasse Entwicklung.
| Nachweis | Deutschland | Schweiz | China |
|---|---|---|---|
| ISO 9001 | |||
| In-situ-Inspektion & Metrologie |
Historie
- 1980er
Ursprünge der Thermal Scanning Probe Lithographie im Millipede-Projekt bei IBM Research – Zurich
Über 40 Jahre aktiv in der Mikro- und Nanofabrikation mit über 1.500 installierten Systemen weltweit
Kommerzialisierung der t-SPL-Technologie über die NanoFrazor-Plattform