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Hersteller von hochreinem Quarzglas, synthetischem Fused Silica, Keramiken und Spezialglasfasern für Halbleiter, Photonik und Telekommunikation.
Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG (Heraeus Covantics)
Hanau · Kleinostheim · Bitterfeld-Wolfen · Buford, GA · Chandler, AZ · Wilmington, NC · Anseong · Shenyang · Shanghai · Wallsend · Brøndby · Singapore · Tokyo sowie Joint Ventures (JP/TW/KR/SG)Neu auf Amplifa
Über Heraeus Covantics
Heraeus Covantics ist die seit dem 1. Januar 2025 operativ gebündelte Quarzglas-Sparte des Heraeus-Konzerns, in der die Expertise von Heraeus Conamic und Heraeus Comvance zusammengeführt wurde. Das Unternehmen stellt hochreines Quarzglas (Fused Silica), synthetisches Quarzglas, dotierte Materialien sowie Keramiken und Verbundwerkstoffe her und fertigt daraus Halbfabrikate (Ingots, Platten, Preforms, Stäbe, Rohre), komplexe Systemkomponenten und kundenspezifische Lösungen. Verfahren umfassen elektrisches Ziehen von Quarzglasrohren, Plasma Outside Deposition (POD) für fluoridierte Claddings, Seltenerd- und Fluor-Dotierung sowie Formgebung und Bearbeitung von Quarzglas. Abnehmerbranchen sind Halbleiterfertigung, Photonik und Optik, Telekommunikation, medizinische Lasersysteme, Materialverarbeitung sowie Luft- und Raumfahrt. Die Produktion verteilt sich auf Werke in Deutschland (Hanau, Kleinostheim, Bitterfeld-Wolfen), USA, China, Korea und Joint Ventures in Japan, Taiwan, Singapur und Korea; der Vertrieb erfolgt weltweit.
- Standort
- Hanau
- Verfahren
- Custom Quartz Glass Manufacturing, Plasma Outside Deposition (POD) – fluorine-doped cladding, Cladding Service for Specialty Fibers, Metrology and Analytical Services (optische Homogenität, Spannungsdoppelbrechung, Transmission,, Quartz Surface Treatments, Refurbishment and Repair Services für Quartzware (CVD-Tubes, Liner, Wafer Carrier, Pedestals, Gas, Quality Control (Materialanalyse, Maßhaltigkeit), Design and Technical Support
- Werkstoffe
- Quarzglas / Fused Silica (SiO2), Synthetisches Quarzglas, Halbleiter-Quarzglas-Materialien, Telekom-Glasfaser-Materialien, Yb-dotiertes Quarzglas (Yb2O3 bis 0,25 mol%+), Fluor-dotiertes Quarzglas (F-Gehalt 0–7%, bis 70,000 ppm), HLQ200 Quarzglas (elektrisch geschmolzen aus natürlichem Quarzsand), Keramiken und Verbundwerkstoffe (ceramics and composites)
- Zertifikate
- ISO 9001:2015
- Branchen
- Halbleiterfertigung, Photonik / Optische Industrie, Telekommunikation, Technische Lampen, Medizinische Lasersysteme, Luft- und Raumfahrt, Astronomie
- 01
Rohstoffaufbereitung (Quarzsand / synthetische Rohstoffe)
- 02
Schmelzen bzw. synthetische Abscheidung von Quarzglas
- 03
Ziehen von Rohren und Stäben / Formgebung
- 04
Dotierung (Yb, Fluor) und Cladding (POD)
- 05
Bearbeitung und Oberflächenbehandlung
- 06
Qualitätskontrolle und messtechnische Analyse
- 07
Montage / Refurbishment und Reparatur
Werkstoffe und Verfahren
Quarzglas / Fused Silica (SiO2)
Hochreines Naturquarz-basiertes Quarzglas als Grundmaterial für Rohre, Stäbe, Ingots und Bauteile.
Synthetisches Quarzglas (Suprasil, Infrasil, Purasil V, Heralux, Fluosil u. a.)
Synthetisch hergestelltes Quarzglas mit hoher UV-Transparenz und Reinheit für Optik, Photonik und Raumfahrt.
Halbleiter-Quarzglas (Black Quartz HBQ, HSQ, Neonyx, Opaque Quartz OM)
Spezielle Materialgrade für Komponenten der Halbleiterfertigung.
HLQ200 Quarzglas (elektrisch geschmolzen aus Naturquarzsand)
Rohrmaterial für technische Lampen mit Toleranzen von OD ±0,3 bis ±0,5 mm.
Yb-dotiertes Quarzglas (Yb2O3 bis 0,25 mol%+)
Aktive Kernmaterialien bis 15 mm Durchmesser und 150 mm Länge für Faserlaser.
Fluor-dotiertes Quarzglas (F-Gehalt 0–7 %)
Fluoridierte Schichten und Materialien mit niedrigem Brechungsindex für Spezialfasern.
Keramiken und Verbundwerkstoffe
Ergänzende Hochleistungsmaterialien neben Quarzglas.
Plasma Outside Deposition (POD)
Plasma-basierte Außenabscheidung fluor-dotierter Claddings, auch auf nicht-runden Substraten.
V-ZUG Single-Step-Prozess
Elektrisches Schmelzverfahren für Quarzglasrohre aus natürlichem Quarzsand.
ZANDOSIL® amorphes Siliziumdioxid
Pyrogenes Kieselsäure-Pulver für weitere Anwendungen.
Standorte
Hanau
DEHauptsitz
Kleinostheim
DEProduktion und Vertrieb Optik, Lampen, Spezialfasern
- Werkstoffe
- Quarzglas, synthetisches Quarzglas
- Quarzglas-Ziehofen
- POD-Anlage (Plasma Outside Deposition)
Bitterfeld-Wolfen
DEProduktion synthetisches Quarzglas, Telecom Fiber
- Werkstoffe
- Synthetisches Quarzglas
- Großproduktionsanlage synthetisches Quarzglas
- Quarzglas-Ziehofen
Shenyang
CNProduktionswerk Quarzglas (2024/2025 eröffnet)
- Werkstoffe
- Quarzglas
- Fertigungsanlage Quarzglas
Buford, GA
USProduktion und Vertrieb Optik, Spezialfasern, Lampen
- Werkstoffe
- Quarzglas
- POD-Anlage (Plasma Outside Deposition)
Chandler, AZ
USQuarz-Grundmaterialien
Wilmington, NC
USTelecom Fiber
Anseong
KRFabrik Quarz-Grundmaterialien
Shanghai / Wallsend / Brøndby
DEVertriebsstandorte (CN, GB, DK)
Joint Ventures (JP, TW, KR, SG)
JPProduktions-JVs mit Shin-Etsu Quartz, Topco und Young Shin Quartz
- Werkstoffe
- Quarzglas
Bauteile und Produkte
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Custom Quartz Glass ManufacturingEngineering | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica), Synthetisches Quarzglas |
| Plasma Outside Deposition (POD) – fluorine-doped claddingOberfläche | – | substratdurchmesserabhängig | – | – | Quarzglas (fused silica), Fluor-dotiertes Quarzglas |
| Cladding Service for Specialty FibersFügen | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Metrology and Analytical Services (optische Homogenität, Spannungsdoppelbrechung, Transmission,Prüfung | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Quartz Surface TreatmentsOberfläche | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Refurbishment and Repair Services für Quartzware (CVD-Tubes, Liner, Wafer Carrier, Pedestals, GasOberfläche | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Quality Control (Materialanalyse, Maßhaltigkeit)Prüfung | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Design and Technical SupportEngineering | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Doping von Quarzglas (Seltenerddotierung, Yb2O3 bis 0,25 mol% und mehr; Aktivkern-Materialien bisEngineering | – | 150 mm | – | – | Yb-dotiertes Quarzglas, Fluor-dotiertes Quarzglas |
| Herstellung von Glasfaser-Preforms (Herstellung von Lichtleitfasern)Guss | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica), Seltenerddotiertes Quarzglas |
| Shaping and Forming of Fused SilicaUmformung | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
| Herstellung von Fused Silica Produkten nach Form (Ingots, Plates, Preforms, Rods, Tubes)Guss | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica), Synthetisches Quarzglas, Naturquarz-basiertes Quarzglas |
| Quarzglas-Rohre (V-ZUG Single-Step-Prozess, elektrisch geschmolzen, z. B. HLQ200; Toleranzen ODGuss | OD ±0,3–±0,5 mm | – | – | – | Quarzglas aus natürlichem Quarzsand (HLQ200) |
| Fabricated Fused Silica Components (Fertigung von Bauteilen aus Quarzglas)Engineering | – | – | – | – | Quarzglas (fused silica) |
5 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Quarzglas-Ziehofen (electric drawing furnace für Quarzglasrohre) | Heraeus Covantics | – | – | – | Kleinostheim/Bitterfeld-Wolfen, Deutschland |
| Plasma Outside Deposition (POD) Anlage für fluorinierte Beschichtung | Heraeus Covantics | – | Substrat min. Durchmesser 10 mm; CCDR ohne Obergrenze | – | Buford, GA, USA; Hanau, Deutschland |
| Fertigungsanlage Quarzglas (neues Werk) | Heraeus Covantics | 1 | – | 2024 | Shenyang, China (No. 110, 26th Road, Shenyang Economic and Technological |
| Anlage für synthetisches Quarzglas (Großproduktion) | Heraeus Covantics | – | – | 1993 | Bitterfeld-Wolfen, Deutschland |
| Produktionsstandorte Quarzglas | Heraeus Covantics | – | – | – | Buford GA & Chandler AZ (USA), Anseong (Korea), Fukui/Koriyama/Kyushu/Sasebo/Tak |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Qualität
Umfassende Qualitätskontrolle mit Materialanalyse und Maßhaltigkeitsprüfung in allen Produktionsstufen; messtechnische Dienstleistungen umfassen optische Homogenität, Spannungsdoppelbrechung, Transmission, Blaseninspektion und chemische Analyse. KI-gestützte Defekterkennung unterstützt die Sicherung hoher Materialreinheit.
| Nachweis | Kleinostheim |
|---|---|
| ISO 9001:2015 |
Historie
- 1899
Richard Küch entwickelt das Verfahren zum Schmelzen blasenfreien Quarzglases im Knallgasgebläse – Geburtsstunde des industriellen Quarzglases.
- 1912
Gründung der Heraeus Quarzglas GmbH und Beginn der industriellen Quarzglasproduktion.
- 1949
Erstmals Quarzglasrohre aus elektrischem Ziehofen.
- 1955
Beginn der Herstellung von synthetischem Quarzglas.
- 1969
Apollo-11-Mission: Laserreflektor aus Heraeus-Quarzglas auf dem Mond.
- 1981
Beginn der Massenproduktion von Quarzglasrohren; neue Standorte Buford (USA) und Kleinostheim (1981–1987).
- 1993
Großproduktionsanlage für synthetisches Quarzglas in Bitterfeld.
- 2004
Beitrag zur Gaia-Mission der ESA und zur Bestätigung der Relativitätstheorie (2004–2009).
- 2022
Laserfusion (NIF) erstmals mit Netto-Energiegewinn – mit Quarzglas von Heraeus.
- 2025
Fusion von Heraeus Conamic und Heraeus Comvance zur Operativgesellschaft Heraeus Covantics; Eröffnung des neuen Werks in Shenyang, China.