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HPPI – Fertigung

Entwicklung und Vertrieb von TLP-, VF-TLP-, HBM-, HMM- und CC-TLP-Testsystemen für die Halbleiterindustrie

HPPI Logo

High Power Pulse Instruments GmbH

Haar (Stadlerstrasse 6A, 85540)Neu auf Amplifa

2012 (erste belegte Publikation)Belegte Aktivität seit
GmbHRechtsform
320 mm × 320 mmProbing-Bereich ATS-8300G
bis 160 A / 43 kV HMMMaximale Pulsleistung

Über High Power Pulse Instruments

High Power Pulse Instruments (HPPI) GmbH mit Sitz in Haar bei München entwickelt und vertreibt Mess- und Testsysteme für die elektrostatische Charakterisierung von Halbleiterbauelementen. Das Produktportfolio umfasst Transmission-Line-Pulse-Systeme (TLP) bis 160 A und 43 kV HMM, VF-TLP-Systeme, HBM-Testsysteme nach ANSI/ESDA/JEDEC JS-001, CC-TLP-Lösungen zur CDM-Untersuchung auf Basis einer Methode des Fraunhofer EMFT sowie das vollautomatische Probing-System ATS-8300G für Package- und Wafer-Level. Ergänzt wird das Angebot durch Sonden, Probearm-Kits, Bias Tees, Lastwiderstände, Pulsmodule, Stromsensoren, Kalibriersubstrate, Software und ESD-Fachberatung. Die Systeme dienen unter anderem der Aufnahme von Hochstrom-I-V-Kennlinien, Turn-on/off-Transienten, Breakdown-Untersuchungen und SOA-Charakterisierung von RF-LDMOS-, DMOS-, CMOS- und BJT-Bauelementen. Kunden stammen aus der Halbleiter-Device-Entwicklung, dem ESD-Schutz sowie aus RF- und Microwave-Anwendungen.

Standort
Haar
Verfahren
TLP (Transmission Line Pulse) Charakterisierung, VF-TLP Charakterisierung, HBM-Testing (ANSI/ESDA/JEDEC JS-001), HMM-Testing (Human-Metal-Model, bis 15 kV / 43 kV), CC-TLP (CDM-Untersuchung nach Fraunhofer EMFT), Wafer-Level-Kalibrierung (TLP/VF-TLP/HMM/HBM), On-Wafer Messungen mit Hochleistungs-TLP-Sonden, Temperaturmessungen (Thermo-Chuck, bis 300 mm Probe Stations)
Werkstoffe
Transmission Line Pulse (TLP), Very Fast TLP, Human Body Model (ANSI/ESDA/JEDEC JS-001), Human Metal Model (IEC 61000-4-2 Systemlevel), Contactless CDM (Fraunhofer EMFT)
Zertifikate
ANSI/ESDA/JEDEC JS-001 (HBM)
Branchen
Halbleiterindustrie, Halbleiter-Device-Entwicklung, ESD-Schutz, RF & Microwave, ESD-Schutz-Solutions, RF & Microwave (ARMMS)
  1. 01

    Entwicklung der Testsysteme

  2. 02

    Fertigung der Hardware (Pulsgeneratoren, Probing-Systeme, Zubehör)

  3. 03

    Software-Entwicklung

  4. 04

    Kalibrierung (Wafer-Level)

  5. 05

    Vertrieb und Support

  6. 06

    ESD-Beratung

Produkte und Messverfahren

TLP

Transmission Line Pulse (TLP)

Hochstrom-I-V-Charakterisierung im gepulsten Betrieb mit Pulsbreiten von 1 ns bis 1,6 µs.

VF-TLP

Very Fast TLP

Untersuchung schneller ESD-Ereignisse mit Anstiegszeiten ab 30 ps.

HBM

Human Body Model (ANSI/ESDA/JEDEC JS-001)

Normgerechtes ESD-Testing von 30 V bis 10 kV, einzeln oder als 30-Pin-Matrix.

HMM

Human Metal Model (IEC 61000-4-2 Systemlevel)

Systemlevel-ESD-Tests bis 43 kV.

CC-TLP

Contactless CDM (Fraunhofer EMFT)

Kontaktlose Untersuchung von Charged-Device-Model-Ereignissen mit DC-Testoption.

Standorte

Haar

DE

Hauptsitz, Entwicklung und Vertrieb

  • ATS-8300G (320 mm × 320 mm)
  • HBM-TS10-A
  • TLP-8010C Advanced
  • TLP-3010C
  • TLP-16010C
  • PS-5026B
  • CCTLP-DC
  • 30-Pin HBM Matrix Tester

Testsysteme und Zubehör

ATS-8300G Automated Test System
ATS-8300G Automated Test SystemVollautomatisches Probing · Halbleiter-/ESD-Testing
HBM-TS10-A
HBM-TS10-A10 kV HBM-Testsystem · ESD-Schutz
TLP-8010C Advanced
TLP-8010C Advanced80 A VF-TLP/TLP, 15 kV HMM · Halbleitercharakterisierung
TLP-3010C
TLP-3010C30 A TLP/VF-TLP/HMM-Testsystem · Halbleitercharakterisierung
TLP-16010C
TLP-16010C160 A Hochspannungs-Pulsgenerator, bis 43 kV HMM · Halbleitercharakterisierung
CC-TLP-50-A1
CC-TLP-50-A1CC-TLP-Sonde · CDM-Untersuchung
HP-T26A TLP-Sonden
HP-T26A TLP-SondenOn-Wafer-Messung · VF-TLP/TLP
30-Pin HBM Matrix Tester
30-Pin HBM Matrix TesterANSI/ESDA/JEDEC JS-001 · ESD-Testing

Einblicke in die Fertigung

ATS-8300G Automated Test System
ATS-8300G Automated Test System
PS-5026B Portable Wafer Probe Station
PS-5026B Portable Wafer Probe Station
CCTLP-DC Probing System
CCTLP-DC Probing System
Accurate Calibration – Wafer-Level-Kalibriersubstrat
Accurate Calibration – Wafer-Level-Kalibriersubstrat
Bias Tee BT-101000B (1 kV, 10 A, 4 GHz)
Bias Tee BT-101000B (1 kV, 10 A, 4 GHz)
15 kV 50 Ω Koaxiallastwiderstand
15 kV 50 Ω Koaxiallastwiderstand
30 ps Integrated Pulse Module
30 ps Integrated Pulse Module
Flexible Pitch GND Fixture GF-A
Flexible Pitch GND Fixture GF-A

Branchen

HalbleiterindustrieHalbleiter-Device-EntwicklungESD-SchutzRF & MicrowaveESD-Schutz-SolutionsRF & Microwave (ARMMS)

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
TLP (Transmission Line Pulse) CharakterisierungPrüfung–320 mm × 320 mm–––
VF-TLP CharakterisierungPrüfung–––––
HBM-Testing (ANSI/ESDA/JEDEC JS-001)Prüfung–––––
HMM-Testing (Human-Metal-Model, bis 15 kV / 43 kV)Prüfung–––––
CC-TLP (CDM-Untersuchung nach Fraunhofer EMFT)Prüfung–––––
Wafer-Level-Kalibrierung (TLP/VF-TLP/HMM/HBM)Prüfung–24 mm × 24 mm–––
On-Wafer Messungen mit Hochleistungs-TLP-SondenPrüfung–––––
Temperaturmessungen (Thermo-Chuck, bis 300 mm Probe Stations)Prüfung–300 mm–––
DC-getestete CC-TLP Probing-MessungenPrüfung–––––
Charakterisierung von Halbleiterbauelementen im gepulsten Betrieb (I-V-Kennlinien, SOA, Breakdown)Prüfung–––––

21 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
Automatisiertes Test-/Probing-System (TLP, VF-TLP, HBM, HMM, CC-TLP)HPPI ATS-8300G1320 mm x 320 mm––
HBM Test System (10 kV, ANSI/ESDA/JEDEC)HPPI HBM-TS10-A1–––
VF-TLP/TLP-System (80 A) mit 15 kV HMM, optional 6 kV HBMHPPI TLP-8010C Advanced1–––
TLP/VF-TLP/HMM-Testsystem (30 A)HPPI TLP-3010C1–––
High Voltage 50 Ω Pulse Generator (160 A, bis 43 kV HMM)HPPI TLP-16010C1–––
Portables Wafer Probe Station für TLP/VF-TLP/HMM/HBMHPPI PS-5026B1–––
30-Pin HBM Matrix Tester (30 V bis 10 kV)HPPI1–––
Solid-State 2-Pin HBM Pulser (±30 V bis ±10 kV)HPPI1–––
CC-TLP Probing System mit DC-TestHPPI CCTLP-DC1–––
CC-TLP ProbeHPPI CC-TLP-50-A11–––
TLP-Sonden (High Performance VF-TLP/TLP on-wafer)HPPI HP-T26A1–––
Probearm-Kit (TLP/VF-TLP/HMM Picoprobe)HPPI PHD-4001A1–––
Pulse Force/Sense Probe (GGB Picoprobe Model 10) mit Touchdown-KraftsensorenHPPI PHD-3001A-FS1–––
Pulse-Stromsensor (160 A in 150 ps, 3 GHz Bandbreite)HPPI CS-0V5-A1–––
Kalibrierungs-Substrat (Wafer-Level)HPPI CAL-04A124 mm x 24 mm, Pitch 50 µm bis 3 mm––
Wafer-Level-KalibrierungssubstratHPPI1–––
Flex-Pitch GND Fixture (GND Clamps)HPPI GF-A1–––
Bias Tee (1 kV, 10 A, 4 GHz) für DC-biasierte TLP/VF-TLP/HMM/RF-MessungenHPPI BT-101000B1–––
15 kV 50 Ω Koaxiallastwiderstand (100 W, DC bis 3,5 GHz)HPPI1–––
30 ps Rise-Time Pulsmodul mit Pick-Off und DUT-SwitchHPPI1–––
Pulsbreiten-ExtenderHPPI TLP-3011C / TLP-8012A5––––

Zusatzleistungen

Entwicklung und Vertrieb von TLP/VF-TLP/HBM/HMM/CC-TLP Testsystemen und MesstechnikWafer-level und Package-level Probing (automatisiert, ATS-8300G)Wafer-level Kalibrierung (Kalibriersubstrate CAL-04A, Accurate Calibration)Software für TestsystemeESD-Know-how/BeratungZubehör für VF-TLP/TLP/HMM/HBM (Probes, Probearm-Kits, Bias Tees, Lastwiderstände, Pulsmodule,CDM-Untersuchung via CC-TLP (auf Basis Fraunhofer EMFT)

Referenzkunden

Fraunhofer EMFT (Quelle der CC-TLP-Methode; nicht explizit als Kunde genannt)GGB Picoprobe (Komponentenlieferant, nicht als Kunde belegt)

Qualität und Standards

Die Systeme entsprechen anerkannten Standards wie ANSI/ESDA/JEDEC JS-001 (HBM) und IEC 61000-4-2 (Systemlevel-ESD); Wafer-Level-Kalibriersubstrate wie CAL-04A unterstützen die Messgenauigkeit. Belegte ISO-Zertifikate liegen nicht vor.

NachweisHaar
ANSI/ESDA/JEDEC JS-001 (HBM)

Historie

  1. 2012

    Publikation 'High Current TLP Characterisation' auf der ARMMS-Konferenz (19.–20. November 2012, Wyboston Lakes, UK)

  2. 2013

    Erste Produkte (TLP-3010C, PS-5026B, Accessories) auf der Website veröffentlicht

  3. 2014

    Veröffentlichung der Software- und Kalibrierprodukte 'Accurate Sub-ns Timing' und 'Accurate Calibration'

  4. 2026

    Launch von ATS-8300G, CC-TLP-50-A1, TLP-16010C, CCTLP-DC und weiteren neuen Produkten

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