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HTP – Fertigung

Entwicklung und Fertigung flüssiger Fotoresists und Photopolymer-Beschichtungen für Ätz-, Galvanoform- und PCB-Anwendungen.

HTP Logo

HTP HiTech Photopolymere AG

Basel (CH)Neu auf Amplifa

1997Gegründet
Basel, SchweizStandort
AG (Schweiz)Rechtsform
Lab- bis ProduktionschargenChargengrößen
WeltweitLieferläufer/Kunden

Über HTP HiTech Photopolymere AG

HTP HiTech Photopolymere AG ist ein auf Photopolymere spezialisierter Hersteller aus Basel. Das 1997 von drei ehemaligen CIBA-Geigy-Experten gegründete Unternehmen entwickelt und fertigt kundenspezifische Photopolymer-Beschichtungen und flüssige Fotoresists für Ätz- und Galvanoformanwendungen. Der Ursprung liegt in Fotoresists für Innenlagen von Multilayer-Leiterplatten (PCB); über die Jahre erweiterte HTP sein Portfolio um Gravurtechnologien, Photochemical Machining (PCM), Sicherheitsmerkmale und Spezialbeschichtungen. Die Fotoresists werden überwiegend per Tauchbeschichtung aufgebracht, je nach Kundenanlage sind auch Sprüh- und Walzenbeschichtung möglich. Neben der Produktlieferung bietet HTP technische Beratung, Prozessoptimierung und Troubleshooting für Fotoresists, Beschichtungstechnologien und Nasschemie sowie Contract Research & Development von der Laborformulierung bis zur Produktionscharge. Ergänzend stellt das Unternehmen Verarbeitungschmikalien für fotochemische Prozesse bereit und übernimmt Lohnfertigung, Lagerhaltung und Logistik für Kunden weltweit.

Standort
Basel
Verfahren
Herstellung von flüssigen Photopolymer-Beschichtungen und Liquid Photoresists für Ätz- und, Photoresist-Auftrag per Tauchbeschichtung (dip-coating), Photoresist-Auftrag per Sprühbeschichtung (spray-coating), Photoresist-Auftrag per Walzenbeschichtung (roller-coating), Photochemical Machining (PCM) – Prozessentwicklung und Produktlieferung für Fotoätzen, Produkte und Prozessknow-how für Leiterplattenfertigung (PCB/PWB, Photoresists für Innenschichten, Spezialbeschichtungen & Sicherheitsanwendungen (Specialty Coatings & Security Applications), Verarbeitungchemikalien (Processing Chemicals) für fotochemische Prozesse
Werkstoffe
Metalle (breites Spektrum, nicht spezifiziert), Flüssige Fotoresists (Liquid Photoresists), Tauchbeschichtung (Dip-Coating), Sprühbeschichtung (Spray-Coating), Walzenbeschichtung (Roller-Coating), Spezialbeschichtungen (Specialty Coatings), Verarbeitungchemikalien (Processing Chemicals)
Gegründet
1997
Branchen
Photochemical Machining (PCM), Leiterplattenfertigung (PCB), Specialty Coatings, Security, Printed Circuit Boards (PCB)/Leiterplatten, Security Applications
  1. 01

    R&D und kundenspezifische Resist-Formulierung

  2. 02

    Herstellung der flüssigen Photopolymere/Fotoresists

  3. 03

    Auftrag per Tauch-, Sprüh- oder Walzenbeschichtung

  4. 04

    Prozessintegration, Beratung und Troubleshooting beim Kunden

  5. 05

    Lagerhaltung und Logistik

Produkte, Werkstoffe & Verfahren

LPR

Flüssige Fotoresists (Liquid Photoresists)

Für Ätz- und Galvanoformanwendungen zur hochpräzisen Metallmikrostrukturierung, primär für PCB-Innenlagen und PCM.

DIP

Tauchbeschichtung (Dip-Coating)

Hauptauftragsverfahren der HTP-Fotoresists auf Metallsubstraten.

SPR

Sprühbeschichtung (Spray-Coating)

Optionale Auftragsmethode je nach Anlagen-Setup des Kunden.

ROL

Walzenbeschichtung (Roller-Coating)

Optionale Auftragsmethode für industrielle Beschichtungsanlagen.

SC

Spezialbeschichtungen (Specialty Coatings)

Auf Dauerhaftigkeit, Haftung und funktionale Performance ausgelegte photopolymerische Beschichtungen.

CHEM

Verarbeitungchemikalien (Processing Chemicals)

Nasschemische Produkte für fotochemische Prozesse in PCM und PCB.

Standorte

Standort Basel

Basel

CH

Hauptsitz, Entwicklung und Produktion

Losgröße
Lab- bis Produktionschargen
Werkstoffe
Flüssige Fotoresists, Spezialbeschichtungen, Verarbeitungschmikalien

Anwendungen & Bauteile

Präzisionsmetallteile via Fotoätzen (PCM)
Präzisionsmetallteile via Fotoätzen (PCM)Photoresist & PCM · Elektronik/Feinblech
Innenlagen für Multilayer-Leiterplatten
Innenlagen für Multilayer-LeiterplattenLiquid Photoresist · PCB-Fertigung
Verarbeitungchemikalien
VerarbeitungchemikalienNasschemie · Fotochemische Prozesse

Einblicke in die Fertigung

Einblick in Fertigung und Labor in Basel
Einblick in Fertigung und Labor in Basel
Beschichtungs- und Prozesstechnik
Beschichtungs- und Prozesstechnik
Fotochemische Prozessentwicklung
Fotochemische Prozessentwicklung
Labor und Anwendungstechnik
Labor und Anwendungstechnik

Branchen

Photochemical Machining (PCM)Leiterplattenfertigung (PCB)Specialty CoatingsSecurityPrinted Circuit Boards (PCB)/LeiterplattenSecurity Applications

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Herstellung von flüssigen Photopolymer-Beschichtungen und Liquid Photoresists für Ätz- undOberfläche–––Production from pilot to full scaleMetalle (weitere Range nicht spezifiziert)
Photoresist-Auftrag per Tauchbeschichtung (dip-coating)Oberfläche––––Metalle
Photoresist-Auftrag per Sprühbeschichtung (spray-coating)Oberfläche––––Metalle
Photoresist-Auftrag per Walzenbeschichtung (roller-coating)Oberfläche––––Metalle
Photochemical Machining (PCM) – Prozessentwicklung und Produktlieferung für FotoätzenOberfläche––––Metalle
Produkte und Prozessknow-how für Leiterplattenfertigung (PCB/PWB, Photoresists für InnenschichtenOberfläche–––––
Spezialbeschichtungen & Sicherheitsanwendungen (Specialty Coatings & Security Applications)Oberfläche–––––
Verarbeitungchemikalien (Processing Chemicals) für fotochemische ProzesseOberfläche–––––
Lohnfertigung/Beschichtung als Dienstleistung (Contract Manufacturing / Contract Coating)Oberfläche–––––
Technische Beratung, Prozessoptimierung und Troubleshooting für Photoresists,Engineering–––––
Contract Research & Development: kundenspezifische Resist-Formulierung, Labortests, Produktion vomEngineering–––lab-scale – full scale batch sizes–
Gravur-/Belichtungstechnologien (engraving technologies)Oberfläche–––––

Zusatzleistungen

Technische BeratungTroubleshooting/ProzessoptimierungContract Research & DevelopmentAuftragsfertigung (Contract Manufacturing)Lagerhaltung & LogistikKundenspezifische Fotoresist-Formulierung

Historie

  1. 1997

    Gründung durch drei ehemalige CIBA-Geigy-Experten (Dr. Kurt Meier, Charles Gantner, Diethard Kapp-Schwoerer); Beginn mit Fotoresists für Innenlagen von Multilayer-Leiterplatten.

  2. 2025

    Neuerliches Kapitel unter einem erneuerten Managementteam unter CEO Dr. David Schwärzle; Gründer Kurt Meier und Diethard Kapp-Schwoerer bleiben Eigentümer und strategische Berater.

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