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Entwicklung von Optikinstrumenten für lasergetriebene EUV-Quellen aus VUV bis Soft-X-Ray.
Indigo Optical Systems GmbH
Neu auf Amplifa
Über Indigo Optical Systems
Indigo Optical Systems GmbH entwickelt leistungsfähige optische Instrumente für lasergetriebene EUV-Quellen und bedient damit sowohl die wissenschaftliche Forschung als auch die Halbleiterindustrie. Das Portfolio umfasst kundenspezifische Optiklösungen vom Vakuum-Ultraviolett (VUV, ca. 200 nm) bis zum extremen Ultraviolett (EUV) und weichen Röntgenlicht (SXR, ca. 2 nm) für Spektroskopie, Imaging und Diagnostik. Darüber hinaus bietet das Unternehmen zerstörungsfreie EUV-Inspektion mittels digitaler Mikroskopie für Optiken, Masken, Logikbauelemente, Wafer und integrierte Schaltungen sowie Beamline-Design und Spektrometrie mit hochauflösenden Spektrometern, Monochromatoren, Reflektometern und Interferometern. Weitere Schwerpunkte liegen auf Lösungen für Attosekunden- und zeitaufgelöste Pump-Probe-Experimente sowie Anwendungen wie ARPES, NEXAFS, coherent diffraction imaging, Reflektometrie und Scatterometrie. Unterstützte Lichtquellen sind High-Harmonic Generation, plasmabasierte Quellen, Synchrotrons und Freie-Elektronen-Laser.
- Verfahren
- Custom Optical Solutions – Instruments für VUV (~200 nm) bis EUV und Soft X-Ray (SXR, ~2 nm), Non-Destructive EUV Inspection – digitale Mikroskopie zur zerstörungsfreien Inspektion von Optiken,, Beamline Design & Spectrometry – hochauflösende Spektrometer, Monochromatoren, Reflektometer und, Attosecond & Time-Resolved Experiments – Pump-Probe-Experimente mit Attosekunden-Auflösung, Angle-resolved photoelectron spectroscopy (ARPES), Near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS), Coherent diffraction imaging (CDI), Reflectometry & Scatterometry
- Werkstoffe
- EUV- und SXR-Optiken, High-Harmonic Generation, Plasmabasierte Quellen, Synchrotron-Strahlung, Freie-Elektronen-Laser
- Branchen
- Wissenschaftliche Forschung, Halbleiterindustrie, Ultrafast Science
- 01
Anforderungsanalyse und Beratung
- 02
Optischer Entwurf und Engineering
- 03
Instrumentenentwicklung
- 04
Inspektion und Messtechnik
- 05
Anwendungssupport
Werkstoffe und Verfahren
EUV- und SXR-Optiken
Optische Instrumente für Wellenlängenbereiche von ca. 200 nm (VUV) bis ca. 2 nm (Soft-X-Ray) für Spektroskopie und Imaging.
High-Harmonic Generation
Einsatz als Quelle für ultrafast EUV- und Röntgenexperimente.
Plasmabasierte Quellen
Kompakte, energiehaltige Photonengenerierung für verschiedene Anwendungen.
Synchrotron-Strahlung
Hochbrillante Röntgenquellen für anspruchsvolle Spektroskopie und Imaging.
Freie-Elektronen-Laser
Intensive, kohärente Strahlung für Forschungsanwendungen.
Instrumente und Anwendungen
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Custom Optical Solutions – Instruments für VUV (~200 nm) bis EUV und Soft X-Ray (SXR, ~2 nm)Engineering | – | – | – | – | – |
| Non-Destructive EUV Inspection – digitale Mikroskopie zur zerstörungsfreien Inspektion von Optiken,Prüfung | – | – | – | – | – |
| Beamline Design & Spectrometry – hochauflösende Spektrometer, Monochromatoren, Reflektometer undEngineering | – | – | – | – | – |
| Attosecond & Time-Resolved Experiments – Pump-Probe-Experimente mit Attosekunden-AuflösungEngineering | – | – | – | – | – |
| Angle-resolved photoelectron spectroscopy (ARPES)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Coherent diffraction imaging (CDI)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Reflectometry & ScatterometryPrüfung | – | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Historie
- 2021
ISO-Veröffentlichungsdatum der Website im Januar 2021; Jahresangabe bezieht sich auf dieses Datum.