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IONTOF – Fertigung

Entwicklung und Fertigung von TOF-SIMS- und LEIS-Instrumenten für Oberflächenanalyse sowie analytischer Service in Kooperation mit Tascon.

IO

IONTOF GmbH

MünsterNeu auf Amplifa

1989Gegründet
4 Unternehmen in Deutschland, USA undIONTOF-Gruppe
TOF-SIMS, LEIS, SPMVerfahren
HRB 10680, Amtsgericht MünsterHandelsregister

Über IONTOF

Die IONTOF GmbH mit Sitz in Münster entwickelt und fertigt Instrumente für die Oberflächenanalyse auf Basis von Ionenstrahltechnik. Das Produktportfolio umfasst TOF-SIMS-Instrumente (Time-of-Flight Sekundärionen-Massenspektrometrie) der Reihen M6, M6 Plus und M6 Hybrid SIMS sowie das LEIS-Instrument Qtac für die quantitative Charakterisierung der obersten Atomlage (Low Energy Ion Scattering). Die Geräte ermöglichen Oberflächenspektroskopie, Oberflächenimaging, Tiefenprofilierung im Dual-Beam-Modus, 3D-Analyse, retrospektive Analyse sowie TOF MS/MS mit CID-Fragmentierung; die M6 Plus-Plattform kombiniert SIMS mit In-situ-Rastermikroskopie (SPM). Zu den analysierten Materialklassen zählen Metalle, Halbleiter, Polymere, Glas, Keramik, Biomaterialien und Pharmazeutika. Anwendungen finden sich in Branchen wie Halbleiter, Pharmazie, Lacke und Beschichtungen, Papier und Katalyse. Für analytischen Service kooperiert IONTOF eng mit der Schwesterfirma Tascon in Münster; die IONTOF-Gruppe umfasst vier Unternehmen in Deutschland, den USA und Japan. Der Hauptsitz liegt im Technologiehof nahe der Universität Münster.

Standort
Münster
Verfahren
TOF-SIMS (Time-of-Flight Sekundärionen-Massenspektrometrie) - Oberflächenanalyse,, LEIS (Low Energy Ion Scattering) - quantitative Charakterisierung der obersten Atomlage, TOF MS/MS mit CID-Fragmentierung zur Molekülstrukturaufklärung, Dual Beam Tiefenprofilierung, In-situ SPM (Scanning Probe Microscopy) kombiniert mit SIMS, Orbitrap SIMS für organische SIMS-Anwendungen, Probenerwärmung und -kühlung während der Analyse (closed-loop), Analytischer Service (Oberflächenanalyse, in Kooperation mit Tascon; auch XPS und optische
Werkstoffe
Metalle, Halbleiter, Polymere, Glas, Keramik, Biomaterialien, Pharmazeutika, Farben und Beschichtungen
Zertifikate
Analytischer Service (TOF-SIMS, LEIS, XPS), ISO 9001
Gegründet
1989
Branchen
Halbleiter, Polymere, Lacke und Beschichtungen, Biomaterialien, Pharma, Glas
  1. 01

    Entwicklung der Ionentechnik und Massenspektrometer

  2. 02

    Engineering und Konstruktion der Instrumente

  3. 03

    Fertigung und Montage der TOF-SIMS- und LEIS-Geräte

  4. 04

    Softwareentwicklung (SurfaceLab 7)

  5. 05

    Analytischer Service mit Tascon

  6. 06

    Service, Schulungen und weltweiter Support

Analytische Verfahren und analysierte Materialien

SIMS

TOF-SIMS (Time-of-Flight Sekundärionen-Massenspektrometrie)

Hochempfindliche Oberflächenanalyse für Spektroskopie, Imaging, Tiefenprofile und 3D-Analyse an Metallen, Halbleitern, Polymeren, Glas, Keramik und Biomaterialien.

LEIS

LEIS (Low Energy Ion Scattering)

Quantitative Charakterisierung der obersten Atomlage, insbesondere für Katalysatoren und Metalle.

MS/MS

TOF MS/MS mit CID-Fragmentierung

Molekülstrukturaufklärung, z. B. bei Polymeren und organischen Proben.

SPM

In-situ SPM kombiniert mit SIMS

Kombination aus hochauflösender SIMS-Analyse und Rastersondenmikroskopie auf der M6 Plus-Plattform.

Orbitrap

Orbitrap SIMS

Für organische SIMS-Anwendungen auf dem M6 Hybrid SIMS Kombinationsinstrument.

DB

Dual-Beam-Tiefenprofilierung

Sputtern und Analyse mit getrennten Ionenstrahlen für Tiefenprofile und 3D-Analyse.

Standorte

Standort Münster

Münster

DE

Hauptsitz mit Entwicklung, Fertigung und Montage der Instrumente

Werkstoffe
Metalle, Halbleiter, Polymere, Glas, Keramik, Biomaterialien, Pharmazeutika, Farben und Beschichtungen, Papier
  • M6
  • M6 Plus
  • M6 Hybrid SIMS
  • Qtac
  • Nanoprobe 50 (Bismut-Cluster-Ionenquelle)
  • SurfaceLab 7

Einblicke in die Fertigung

TOF-SIMS: zerstörungsfreie Oberflächenanalyse
TOF-SIMS: zerstörungsfreie Oberflächenanalyse
Tiefenprofilierung mit Dual-Beam-Modus
Tiefenprofilierung mit Dual-Beam-Modus
3D-Analyse mit paralleler Massendetektion
3D-Analyse mit paralleler Massendetektion
Prinzip der LEIS: Streuung von Edelgasionen an Oberflächenatomen
Prinzip der LEIS: Streuung von Edelgasionen an Oberflächenatomen
LEIS: Energiespektrum der gestreuten Ionen
LEIS: Energiespektrum der gestreuten Ionen

Branchen

HalbleiterPolymereLacke und BeschichtungenBiomaterialienPharmaGlasPapierMetalleKatalysatoren

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
TOF-SIMS (Time-of-Flight Sekundärionen-Massenspektrometrie) - Oberflächenanalyse,Prüfung––––Metalle, Halbleiter, Polymere, Glas, Keramik, Biomaterialien, Pharmazeutika, Papier, Farben und Beschichtungen, organisches Gewebe
LEIS (Low Energy Ion Scattering) - quantitative Charakterisierung der obersten AtomlagePrüfung––––Katalysatoren, Metalle
TOF MS/MS mit CID-Fragmentierung zur MolekülstrukturaufklärungPrüfung––––Polymere, organische Proben
Dual Beam TiefenprofilierungPrüfung–––––
In-situ SPM (Scanning Probe Microscopy) kombiniert mit SIMSPrüfung–––––
Orbitrap SIMS für organische SIMS-AnwendungenPrüfung––––organische Materialien
Probenerwärmung und -kühlung während der Analyse (closed-loop)Prüfung–––––
Analytischer Service (Oberflächenanalyse, in Kooperation mit Tascon; auch XPS und optischePrüfung––––Metalle, Halbleiter, Polymere, Glas, Biomaterialien, Pharmazeutika, Katalysatoren

5 Anlagen & Maschinen

MaschineHersteller / ModellAnzahlArbeitsraumBaujahrStandort
TOF-SIMS Instrument (High-End)IONTOF M6–––Münster, Deutschland
TOF-SIMS + In-situ SPM PlattformIONTOF M6 Plus–––Münster, Deutschland
TOF-SIMS/Orbitrap KombinationsinstrumentIONTOF M6 Hybrid SIMS–––Münster, Deutschland
LEIS Instrument (Low Energy Ion Scattering)IONTOF Qtac–––Münster, Deutschland
Bismut-Cluster-Ionenquelle (bis 40 pA gepulst, laterale Auflösung < 50 nm, bis 50 kHz)IONTOF Nanoprobe 50–––Münster, Deutschland

Zusatzleistungen

Analytischer Service (in Kooperation mit Tascon)Service und weltweiter Support rund um die UhrRemote SupportSoftware-Updates und DownloadbereichSchulungen (IONTOF User School)Group mit vier Unternehmen in Deutschland, USA und Japan

Qualität

IONTOF betreibt selbst TOF-SIMS- und LEIS-Instrumente in enger Kooperation mit dem Prüflabor Tascon; analytische Dienstleistungen umfassen XPS und optische Charakterisierung der Oberflächentopographie.

NachweisMünster
Analytischer Service (TOF-SIMS, LEIS, XPS)
ISO 9001

Historie

  1. 1989

    Gründung durch Prof. Alfred Benninghoven, Dr. Ewald Niehuis und Thomas Heller zur Kommerzialisierung der TOF-SIMS-Forschung der Universität Münster

  2. 1997

    Gründung der Schwesterfirma Tascon als spezialisiertes TOF-SIMS-Prüflabor

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