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Sonderanlagen für Plasmatechnologie und CVD-Anlagen zur Diamantsynthese auf Basis der patentierten CYRANNUS®-Technologie
iplas Innovative Plasma Systems GmbH
Troisdorf, DeutschlandNeu auf Amplifa
Über iplas
Die iplas Innovative Plasma Systems GmbH entwickelt und fertigt Sonderanlagen für innovative Plasmatechnologie am Standort Troisdorf. Das Unternehmen wurde 1997 von Dr.-Ing. Hildegard Sung-Spitzl und Dr. rer. nat. Ralf Spitzl gegründet und gilt mit der 1995 erfundenen und patentierten CYRANNUS® MWCVD-Plasmaquelle als Pionier der Plasmatechnologie. Kernprodukte sind hocheffiziente CVD-Produktionsanlagen für die Diamantsynthese, mit denen Diamantschichten in elektronischer Qualität (Wafer oder Kristalle) sowie Diamant-Edelsteine hergestellt werden. Weitere Anwendungsfelder sind Plasmaaktivierung von Kunststoffen und biokompatiblen Oberflächen, umweltfreundliches Ätzen und Feinstreinigen, Zersetzung stabiler Chemikalien in Abgasen (Plasma Cracking) sowie Gasaktivierung für Wasserstoff- und Power-to-Gas-Konzepte. Im eigenen Entwicklungslabor werden maßgeschneiderte Plasmaverfahren entwickelt, Prototypen und kleine Musterserien hergestellt; zudem bietet iplas Fabless Manufacturing und ein CVD-Schulungszentrum an. Die Anlagen werden weltweit exportiert; die meisten kommerziell betriebenen Anlagen basieren auf der CYRANNUS®-Technologie.
- Standort
- Troisdorf
- Verfahren
- CVD-Diamantsynthese (MWCVD, CYRANNUS®-Technologie), Produktion von Diamant-Edelsteinen und, Plasmaaktivierung von Kunststoffen und Herstellung biokompatibler Oberflächen, Umweltfreundliches Ätzen und Feinstreinigen von Oberflächen, Plasma Cracking / Zersetzung stabiler Chemikalien in Abgasen, Aktivierung von Gasen (H2,, Entwicklung maßgeschneiderter Plasma-Verfahren, Herstellung von Prototypen und kleinen Musterserien, Entwicklung und Fertigung von Sonderanlagen für Plasmatechnologie, CVD-Anlagen für Diamantsynthese, Plasmaaktivierung von Kunststoffen und biokompatiblen Oberflächen
- Werkstoffe
- Synthetischer Diamant (Diamantschichten, -kristalle, -edelsteine), Kunststoff (für Plasmaaktivierung), CVD-Diamantsynthese (MWCVD), CYRANNUS® MWCVD-Plasmaquelle, Plasmaaktivierung, Plasma Cracking / Gasaktivierung, Kunststoff
- Gegründet
- 1997
- Branchen
- Halbleiterindustrie, Diamantsynthese / Edelsteine, Umwelttechnik, Erneuerbare Energien / Power-to-Gas, Moderne Produktionstechnik, Neue Werkstoffe
- 01
Engineering und Verfahrensentwicklung im eigenen Entwicklungslabor
- 02
Fertigung der CYRANNUS®-Sonderanlagen
- 03
Prototypen und Musterserien im Entwicklungslabor
- 04
Fabless Manufacturing
- 05
Schulung im CVD-Schulungszentrum
Werkstoffe und Verfahren
CVD-Diamantsynthese (MWCVD)
Herstellung von Diamantschichten in elektronischer Qualität (Wafer oder Kristalle) sowie Diamant-Edelsteinen mit CYRANNUS®-Plasmaquellen.
CYRANNUS® MWCVD-Plasmaquelle
Eigene, weltweit patentierte Mikrowellen-CVD-Plasmaquelle für Oberflächenprozesse in Halbleiterqualität.
Plasmaaktivierung
Aktivierung von Kunststoffoberflächen und Herstellung biokompatibler Oberflächen.
Plasma Cracking / Gasaktivierung
Zersetzung stabiler Chemikalien in Abgasen und Aktivierung von Gasen wie H2 für Power-to-Gas-Anwendungen.
Kunststoff
Substratwerkstoff für Plasmaaktivierung und Oberflächenbehandlung.
Standorte
Troisdorf
DEHauptsitz, Entwicklung und Fertigung
- Losgröße
- Prototypen, Musterserien, Kleinserien
- Werkstoffe
- Diamant (synthetisch), Kunststoff
- CYRANNUS® 5,8 GHz Plasmaanlage
- CYRANNUS® 915 MHz Diamond Gemstone Production System
- Vollautomatisches DIAMOND-Laborsystem
- Entwicklungslabor
- CVD-Schulungszentrum
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| CVD-Diamantsynthese (MWCVD, CYRANNUS®-Technologie), Produktion von Diamant-Edelsteinen undEngineering | – | – | – | – | Diamant (synthetisch) |
| Plasmaaktivierung von Kunststoffen und Herstellung biokompatibler OberflächenOberfläche | – | – | – | – | Kunststoff |
| Umweltfreundliches Ätzen und Feinstreinigen von OberflächenOberfläche | – | – | – | – | – |
| Plasma Cracking / Zersetzung stabiler Chemikalien in Abgasen, Aktivierung von Gasen (H2,Oberfläche | – | – | – | – | – |
| Entwicklung maßgeschneiderter Plasma-Verfahren, Herstellung von Prototypen und kleinen MusterserienEngineering | – | – | – | – | – |
3 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| CYRANNUS® Plasmaquelle/System (MWCVD, 5,8 GHz) | iplas Innovative Plasma Systems GmbH CYRANNUS® 5,8 GHz | – | – | 2012 | Troisdorf |
| CYRANNUS® Plasmasystem 915 MHz zur Diamant-Herstellung | iplas Innovative Plasma Systems GmbH CYRANNUS® 915 MHz Diamond Gemstone Production System | – | – | 2015 | Troisdorf |
| Vollautomatisches DIAMOND-Laborsystem | iplas Innovative Plasma Systems GmbH | – | – | 2010 | Troisdorf |
Zusatzleistungen
Historie
- 1995
Erfindung und Patentierung der CYRANNUS® MWCVD-Plasmaquelle
- 1997
Gründung der iplas Innovative Plasma Systems GmbH durch Hildegard Sung-Spitzl und Ralf Spitzl; CYRANNUS® Plasmaquelle für F&E
- 1999
CYRANNUS® Plasmasysteme für verschiedene Anwendungen
- 2000
Gewinner des 'Idee Förderpreis' (Jungunternehmerin des Jahres)
- 2001
Verlegung des Hauptsitzes in eigene Räumlichkeiten in Troisdorf
- 2002
Auszeichnung R&D100 Company of the World
- 2005
Einführung CYRANNUS® für Diamant-Edelsteine
- 2008
Einführung des ersten 915-MHz-Plasmasystems
- 2010
Einführung vollautomatischer DIAMOND-Laborsysteme
- 2012
Erste 5,8-GHz-CYRANNUS®-Plasmaanlage in Betrieb; CYRANNUS® für Plasma Cracking, H2 und erneuerbare Energiekonzepte
- 2013
Erste kommerzielle Diamant-Edelsteinfabrik
- 2014
FAST 50 Technology Award (Deloitte) – Aufnahme in die Liste der 50 schnellstwachsenden Technologieunternehmen Deutschlands
- 2015
Markteinführung des ersten 915-MHz-CYRANNUS®-Systems zur Diamantherstellung
- 2018
Start des CVD-Schulungszentrums