Ist das Ihr Unternehmen? Profil übernehmen
Entwicklung und Fertigung von Silizium-Drift-Detektoren (SDD) und Detektorsystemen für die Materialanalytik – vom Wafer bis zum Modul
KETEK GmbH
München (Hofer Str. 3) · München (Hansastraße 27c) · Neubiberg (Werner-Heisenberg-Weg 39) · Peking, China (Vertriebsbüro)Neu auf Amplifa
Über KETEK
Die KETEK GmbH mit Sitz in München ist auf die Entwicklung und Fertigung von Silizium-Drift-Detektoren (SDD) spezialisiert, die in der energiedispersiven Röntgenspektroskopie (EDS/EDX) und Röntgenfluoreszenz-Analytik (XRF) eingesetzt werden. Das Produktportfolio umfasst das komplette Spektrum vom hochreinen Silizium-Wafer über den Detektor-Chip bis zum fertigen, vakuumverkapselten Detektormodul in TO8-Bauweise, ergänzt um selbst entwickelte analoge und digitale Signalverarbeitungselektronik wie Preamplifier (VIAMP), Digital Pulse Processor (DPP3) und komplette SDD-Systeme (AXAS, ARRAY). Gefertigt wird in Reinraumumgebung mittels Halbleiter-Planartechnologie mit Ionenimplantation und Epitaxie; Werkstoffe sind hochreines Silizium, Keramik-Chipträger, Graphen-Fenster und Beryllium-Fenster. Kunden stammen aus Elektronenmikroskopie, Materialforschung, Recycling/Materialsortierung und Lebensmittelkontrolle; NASA-Mars-Rover wie Curiosity und Perseverance sind mit KETEK-Detektoren ausgestattet. Das inhabergeführte Unternehmen beschäftigt rund 120 Mitarbeitende an Standorten in München, Neubiberg und einem Vertriebsbüro in Peking und beliefert Kunden weltweit.
- Standort
- München
- Verfahren
- Halbleiterverarbeitung / Chip-Fertigung (Planartechnologie, Ionenimplantation, Epitaxie), Herstellung von Silizium-Drift-Detektoren (SDD) – vom Wafer über Detektor-Chip bis zum Detektormodul, Entwicklung und Fertigung analoger und digitaler Signalelektronik (Preamplifier,, Herstellung von Graphen-Fenstern (CH: 1000 nm Kohlenstoff ohne Support-Grid; CL: 165 nm Kohlenstoff, Reinraumfertigung (SDD-Produktionsstätte, verdoppelte Reinraumfläche seit 2011), Materialanalyse / Elementanalyse mittels XRF & EDX (Detektoren für 0.05–30 keV, Nachweisgrenze < 1, Entwicklung und Fertigung von Silizium-Drift-Detektoren (SDD) vom Wafer bis zum Detektormodul, Eigene analoge und digitale Signalverarbeitungselektronik (Preamplifier, Digital Pulse Processor)
- Werkstoffe
- Hochreines Silizium (Wafer), Graphen, Keramik (Chip-Träger), Beryllium (Fenster, 8 µm), Graphen-Fenster (CH/CL), Beryllium-Fenster (8 µm), Keramik-Chipträger, Planartechnologie / Ionenimplantation / Epitaxie
- Zertifikate
- ISO 9001:2015, ISO 9001
- Gegründet
- 1989
- Mitarbeiter
- ~120
- Branchen
- Röntgenfluoreszenz-Spektrometrie (XRF), Energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDS/EDX), Elektronenmikroskopie (TEM), Materialanalyse und Materialforschung, Recycling/Materialsortierung, Lebensmittelkontrolle (Schwermetallnachweis)
- 01
Halbleiterverarbeitung (Planartechnologie, Ionenimplantation, Epitaxie)
- 02
Detektor-Chip-Fertigung aus Silizium-Wafer
- 03
Graphen-Fenster-Herstellung
- 04
Montage des Detektormoduls (Chipträger, Peltier-Kühlung, Vakuumverkapselung)
- 05
Fertigung der Signalverarbeitungselektronik
- 06
Systemintegration und Prüfung
- 07
Vertrieb und Support (inkl. Software/Firmware)
Werkstoffe & Verfahren
Hochreines Silizium (Wafer)
Grundmaterial für SDD-Chips, verarbeitet mittels Planartechnologie mit Ionenimplantation und Epitaxie.
Graphen-Fenster (CH/CL)
Eigenentwickelte Kohlenstofffenster (CH: 1000 nm ohne Support-Grid, CL: 165 nm mit Si-Support-Grid) für verbesserte Transmission im Niedrigenergiebereich.
Beryllium-Fenster (8 µm)
Klassisches Einfenster für VITUS-Module großer aktiver Fläche (H80/H150).
Keramik-Chipträger
Trägermaterial für die Montage des SDD-Chips im TO8-Gehäuse.
Planartechnologie / Ionenimplantation / Epitaxie
Verfahren der Halbleiterverarbeitung zur Herstellung der SDD-Chips in Reinraumfertigung.
Standorte
München (Hofer Str. 3)
DEHauptsitz: Vertrieb, Entwicklung und Fertigung
- Werkstoffe
- Silizium, Keramik, Graphen
- Reinraumfertigung (verdoppelte Fläche seit 2011)
- SDD-Produktionsstätte
- Signalverarbeitungselektronik-Fertigung
München (Hansastraße 27c)
DEFertigung und Entwicklung von Halbleiterdetektoren und Detektorsystemen
- Werkstoffe
- Silizium
Neubiberg (Werner-Heisenberg-Weg 39)
DEFertigung und Entwicklung von Halbleiterdetektoren und Detektorsystemen
- Werkstoffe
- Silizium
Peking (KETEK China)
CNVertriebsbüro China
Bauteile & Produkte
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Halbleiterverarbeitung / Chip-Fertigung (Planartechnologie, Ionenimplantation, Epitaxie)Engineering | – | – | – | – | Silizium |
| Herstellung von Silizium-Drift-Detektoren (SDD) – vom Wafer über Detektor-Chip bis zum DetektormodulMontage | – | – | – | – | Silizium, Keramik, Graphen |
| Entwicklung und Fertigung analoger und digitaler Signalelektronik (Preamplifier,Montage | – | – | – | – | – |
| Herstellung von Graphen-Fenstern (CH: 1000 nm Kohlenstoff ohne Support-Grid; CL: 165 nm KohlenstoffEngineering | – | – | – | – | Graphen, Silizium, Kohlenstoff |
| Reinraumfertigung (SDD-Produktionsstätte, verdoppelte Reinraumfläche seit 2011)Engineering | – | – | – | – | – |
| Materialanalyse / Elementanalyse mittels XRF & EDX (Detektoren für 0.05–30 keV, Nachweisgrenze < 1Prüfung | – | – | – | – | – |
7 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Silizium-Drift-Detektor (SDD) Module VITUS-Serie | KETEK VITUS H7/H20/H20 SLF/H30/H50/K50/H80/H150 | – | 7–150 mm² kollimierte Fläche | – | München |
| Komplette SDD-Systeme (SDD + Preamplifier + DPP3 + Netzteil) | KETEK AXAS-D 3.0 / AXAS-A 3.0 | – | – | 2024 | München |
| Multi-Channel SDD Array (3–7 Kanäle) | KETEK ARRAY 3.0 | – | bis 350 mm² kollimierte Fläche (7-Kanal: 560 mm²) | 2024 | München |
| OEM SDD-Elektronik mit DPP3 | KETEK VICO-DV 3.0 / VICO-AV 3.0 | – | – | 2023 | München |
| OEM Preamplifier-Module (SDD + Preamplifier) | KETEK VIAMP-KC 3.0 / VIAMP-KL 3.0 / VIAMP-KP 3.0 | – | – | 2023 | München |
| Digital Pulse Processor | KETEK DPP3 (VICO-DP/DPP2) | – | – | 2015 | München |
| Peltier-Kühler (in SDD-Modulen verbaut) | – | – | – | – | München |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Qualität
KETEK ist nach ISO 9001:2015 (TÜV SÜD, Reg. Nr. 12 100 33497 TMS) für Vertrieb, Entwicklung und Fertigung von Halbleiterdetektoren, Detektorsystemen, Strahlungsquellen und zugehöriger Elektronik zertifiziert. Ziele der Prozesse sind höchste Ausbeute, termingerechte Lieferung und fehlerfreie Qualität.
| Nachweis | München (Hofer Str. 3) | München (Hansastraße 27c) | Neubiberg (Werner-Heisenberg-Weg 39) |
|---|---|---|---|
| ISO 9001 |
Historie
- 1989
Gründung der KETEK GmbH durch Dr. Josef Kemmer
- 1995
Erste SDD-Generation; neue Geschäftsführung Silvia Wallner und Dr. Reinhard Fojt
- 2002
ISO 9001:2000-Zertifizierung; Produktlaunch des AXAS-Röntgenerfassungssystems
- 2005
Einführung der VITUS SDD-Serie
- 2007
Produktlaunch des VIAMP-Moduls (VITUS SDD + Preamplifier)
- 2008
Weltrekord Energieauflösung: 120,9 eV für Mn Kα
- 2011
Verdopplung der Reinraumfläche am Hauptsitz München
- 2012
VITUS SDD auf dem Mars-Rover Curiosity; Einführung der VITUS CUBE SDD-Serie; erste SiPM-Module
- 2013
Größter zirkularer SDD mit 150 mm² aktiver Fläche als Standardprodukt
- 2015
Einführung des Digital Pulse Processors DPP2 (VICO-DP)
- 2017
Einführung eines 7-Kanal-SDD-Arrays mit 560 mm² kollimierter Gesamtfläche
- 2018
Eigenes Graphen-Fenster wird marktreif
- 2019
VICO-DV 2.0 – kleinste OEM-SDD-Elektronik
- 2020
AXAS-A/D 2.0 kompaktes Komplettsystem vorgestellt
- 2021
VITUS 2.0 SDD-Generation; SDDs auf dem Mars-Rover Perseverance; Verkauf der SiPM-Assets an Broadcom
- 2022
Low-Energy Graphene Window (CL) vorgestellt
- 2023
VICO-DV 3.0 mit DPP3; VIAMP-KP 3.0 für Vakuumanwendungen
- 2024
ARRAY 3.0 (3–7 Kanäle) und AXAS 3.0 mit DPP3 eingeführt
- 2025
VITUS H20 SLF (Stray-Line-Free) SDD eingeführt