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Internationale Technologiegruppe für Lithografie-, 3D-Mikrodruck-, Wafer-Prozess- und Analysetechnik für Mikro- und Nanofabrikation.
LAB14 GmbH
Heidelberg · 28 Standorte in Europa, Amerika und AsienNeu auf Amplifa
Über LAB14
Die LAB14 GmbH ist eine internationale Technologiegruppe mit Sitz in Heidelberg, die auf Mikro- und Nanotechnologie spezialisiert ist. Die Gruppe vereint hochspezialisierte Tochterunternehmen mit komplementärer Expertise in Fabrikation, Strukturierung, Analyse und Metrologie. Das Portfolio umfasst maskenlose Direktschreib-Lithografie und Fotomasken-Anlagen (Heidelberg Instruments), 3D-Mikrodruck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (Nanoscribe), Software zur Prozessoptimierung (GenISys), industrielle Tintenstrahldrucksysteme und Präzisions-Fotolithografie (Notion Systems), Oberflächenanalyse und Rasterkraftmikroskopie (SPECSGROUP, Nanosurf) sowie Wafer-Prozessanlagen für Beschichtung, Reinigung und Ätzen samt Chiller- und Wärmetauschsystemen (Amcoss). Die Technologien dienen Halbleiterfertigung, MEMS, Mikrooptik, Sensorik, Displays, Luft- und Raumfahrt, Life Sciences und Materialforschung. Mit über 1.200 Mitarbeitenden, 28 Standorten in Europa, Amerika und Asien sowie mehr als 2.300 Kunden ist LAB14 Teil der RSBG SE und damit der RAG-Stiftung.
- Standort
- Heidelberg
- Verfahren
- Maskenlose Direktschreib-Lithografie (Mikro-/Nanopatterning, 2D- und 2.5D-Grayscale-Lithografie), Fotomasken-Herstellung (Lithografie-Equipment für Hochvolumenproduktion), 3D-Mikrodruck / Zwei-Photonen-Polymerisation (additive Fertigung auf Nano-, Mikro- und Mesoskala), Grayscale-Lithografie-Systeme, Software für Prozessoptimierung in Mikro-/Nanofertigung (Lithografie, Datenmodellierung, Metrologie), Präzisions-Fotolithografie, Industrielles Tintenstrahldrucken (Additive Electronics für Elektronik, Displays, Halbleiter), Tintenstrahldruck für Displays, Leiterplatten, Halbleiter und optische 3D-Komponenten
- Werkstoffe
- speziell entwickelte Druckmaterialien für Mikrofabrikation, Zwei-Photonen-Polymerisation, Maskenlose Direktschreib-Lithografie, Industrielles Tintenstrahldrucken, Oberflächen-Nanoanalyse (XPS), Rasterkraftmikroskopie (AFM), Wafer-Prozessierung
- Zertifikate
- ISO 9001
- Gegründet
- 2022
- Mitarbeiter
- 1200+
- Branchen
- Halbleiterfertigung, MEMS, Mikrooptiken, Fotomasken, Sensorik, Display- und Elektronikindustrie
- 01
Engineering und Software für Prozessoptimierung
- 02
Maskenlose Direktschreib-Lithografie / Fotomaskenfertigung
- 03
3D-Mikrodruck (Zwei-Photonen-Polymerisation)
- 04
Industrielles Tintenstrahldrucken / Additive Electronics
- 05
Wafer-Beschichtung, -Reinigung und -Ätzen
- 06
Oberflächenanalyse und Metrologie (AFM, XPS)
- 07
Wartung, Reinigung und Reparatur (Vakuumtechnik, Reinraum)
- 08
Service, Training, Ersatzteile und Prozessmanagement-Software
Technologien und Verfahren
Zwei-Photonen-Polymerisation
Additive 3D-Mikrofertigung von hochpräzisen Strukturen auf Nano-, Mikro- und Mesoskala mit speziell entwickelten Druckmaterialien.
Maskenlose Direktschreib-Lithografie
2D- und 2.5D-Grayscale-Patterning für Fotomasken, MEMS, Mikrooptik, Packaging und Sensorik.
Industrielles Tintenstrahldrucken
Additive Electronics für Elektronik, Displays, Leiterplatten, Halbleiter und optische 3D-Komponenten.
Oberflächen-Nanoanalyse (XPS)
Analyse von Oberflächen unter Vakuumbedingungen für Materialforschung und Nanotechnologie.
Rasterkraftmikroskopie (AFM)
Präzise Messplattformen für Life Sciences, Materialforschung und Industrie.
Wafer-Prozessierung
Beschichtungs-, Reinigungs- und Ätzanlagen sowie maßgeschneiderte Chiller und Wärmetauscher für die Halbleiterindustrie.
Standorte und Tochterunternehmen
Heidelberg
DEHauptsitz der LAB14 GmbH
Eggenstein-Leopoldshafen
DENanoscribe – Entwicklung und Produktion von 3D-Druck- und Grayscale-Lithografiesystemen (KIT-Spin-off)
- Werkstoffe
- Speziell entwickelte Druckmaterialien
- 3D-Drucksysteme (Zwei-Photonen-Polymerisation)
Schwetzingen
DENotion Systems – Hauptsitz, industrielle Tintenstrahldrucksysteme und Präzisions-Fotolithografie
- Industrielle Tintenstrahldrucksysteme
Singen
DENotion Systems – zusätzlicher Standort
- Industrielle Tintenstrahldrucksysteme
Österreich (Amcoss)
DEAmcoss GmbH – Wafer-Prozessanlagen (Beschichtung, Reinigung, Ätzen) und Chiller/Wärmetauscher
- Wafer-Prozessanlagen
- Chiller und Wärmetauscher
Schweiz (Nanosurf)
DENanosurf AG – Entwicklung und Herstellung von Rasterkraftmikroskopen
- Rasterkraftmikroskope (AFM)
München (GenISys)
DEGenISys GmbH – Software für Prozesssteuerung in Mikro- und Nanofertigung
- Prozessmanagement-Software
Grenoble (40-30)
DE40-30 SAS – Wartung, Reinigung und Reparatur in Vakuumtechnik, Elektronik und Reinräumen
- Prozessmanagement-Software
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Maskenlose Direktschreib-Lithografie (Mikro-/Nanopatterning, 2D- und 2.5D-Grayscale-Lithografie)Engineering | – | – | – | – | – |
| Fotomasken-Herstellung (Lithografie-Equipment für Hochvolumenproduktion)Engineering | – | – | – | – | – |
| 3D-Mikrodruck / Zwei-Photonen-Polymerisation (additive Fertigung auf Nano-, Mikro- und Mesoskala)Additiv | – | – | – | – | speziell entwickelte Druckmaterialien |
| Grayscale-Lithografie-SystemeAdditiv | – | – | – | – | – |
| Software für Prozessoptimierung in Mikro-/Nanofertigung (Lithografie, Datenmodellierung, Metrologie)Engineering | – | – | – | – | – |
| Präzisions-FotolithografieEngineering | – | – | – | – | – |
| Industrielles Tintenstrahldrucken (Additive Electronics für Elektronik, Displays, Halbleiter)Additiv | – | – | – | – | – |
| Tintenstrahldruck für Displays, Leiterplatten, Halbleiter und optische 3D-KomponentenAdditiv | – | – | – | – | – |
| Oberflächenanalyse (XPS-Analysen, Oberflächenanalyse unter Vakuumbedingungen)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Rasterkraftmikroskopie (AFM) für Life Sciences, Materialforschung und IndustriePrüfung | – | – | – | – | – |
| Wartung, Reinigung und Reparatur in Vakuumtechnologie, Elektronik und Reinraum-UmgebungenOberfläche | – | – | – | – | – |
| Wafer-Beschichtung (Coating)Oberfläche | – | – | – | – | Wafer |
| Wafer-Reinigung (Cleaning)Oberfläche | – | – | – | – | Wafer |
| Wafer-Ätzen (Etching)Oberfläche | – | – | – | – | Wafer |
| Herstellung von Kälte- und Wärmetauschsystemen (Chiller, Wärmetauscher)Engineering | – | – | – | – | – |
9 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Direct-Write-Lithografie-Systeme (Tischsysteme bis High-End-Fotomaskenanlagen) | Heidelberg Instruments | über 1.500 | – | – | – |
| 3D-Drucksysteme (Zwei-Photonen-Polymerisation) | Nanoscribe | – | – | – | Eggenstein-Leopoldshafen (KIT-Spin-off) |
| Industrielle Tintenstrahldrucksysteme | Notion Systems | – | – | – | Schwetzingen und Singen, Deutschland |
| Rasterkraftmikroskope (AFM) | Nanosurf | – | – | – | Schweiz |
| Oberflächen-Nanoanalyse-Systeme | SPECS | – | – | – | – |
| Wafer-Prozessanlagen (Beschichtung, Reinigung, Ätzen) | Amcoss | – | – | – | Österreich |
| Chiller und Wärmetauscher | Amcoss | – | – | – | Österreich |
| Automatisierte Analyse- und Metrologie-Tools | Enviro (SPECSGROUP) | – | – | – | – |
| Rastersonden- und Transportmess-Elektronik | Nanonis (SPECSGROUP) | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Qualität
Die LAB14-Gruppe unterstützt Qualitätssicherung durch führende Metrologie- und Analysetechnologie ihrer Tochterunternehmen, u. a. Rasterkraftmikroskopie (Nanosurf), XPS-Oberflächenanalyse unter Vakuumbedingungen (SPECS) und automatisierte Analyse- und Metrologie-Tools (Enviro). Amcoss ist als Tochterunternehmen ISO 9001 zertifiziert.
| Nachweis | Österreich (Amcoss) |
|---|---|
| ISO 9001 |
Historie
- 2019
Gründung der RSBG Advanced Manufacturing Technologies GmbH (RSBG AMT), einem von fünf Clustern der RSBG SE
- 2022
Gründung der LAB14 GmbH als Tochtergesellschaft der RSBG SE (Teil der RAG-Stiftung); Umbenennung aus RSBG AMT
- 2023
LAB14 Strategy and Technology Meeting in Essen mit Führung durch die Zeche Zollverein und Vortrag zur Geschichte der RAG-Stiftung
- 2024
Dezember: Nanoscribe tritt der LAB14-Gruppe als neue Tochtergesellschaft bei
- 2025
Juli: Bekanntgabe der Fusion von Osiris International und Notion Systems; der Firmenname bleibt Notion Systems
- 2026
März: LAB14 tritt dem MIT.nano Consortium bei
- 2026
1. Oktober: Neues Management Board – Thomas Wiedermann wird Chief Change Officer, Martin Wynaendts van Resandt wird Non Executive Chairman