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Femtosekundenlaser-basierte Mikro- und Nanofertigung: 2PP-Systeme, fs-Laser-Prozessierung, Ionenfallen, EUV-Quellen und ultrareine Nanopartikel
Laser nanoFab GmbH
Hannover (Labor und Lieferadresse) · Garbsen (Geschäftssitz)Neu auf Amplifa
Über Laser nanoFab
Die Laser nanoFab GmbH aus Hannover ist auf laserbasierte Mikro- und Nanotechnologie spezialisiert. Das Unternehmen entwickelt und fertigt Systeme und Bauteile mit Femtosekundenlasern, darunter Mikro- und Nanostrukturierungssysteme für die Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) mit Strukturgrößen unter 100 nm, Systeme zur fs-Laser-Prozessierung für subtraktive Ablation sowie eine debrisfreie EUV-Quelle auf Basis von Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie. Ergänzend werden ultrareine Edelmetall-Nanopartikel (femtoInk) und eigene Photoresist-Serien (femtoBond) angeboten. Die Dienstleistungen umfassen Prozess- und Systementwicklung, Machbarkeitsstudien, Prozessskalierung und kundenspezifische Anlagen für die Mikrotechnologie. Abgedeckte Anwendungsgebiete sind Quantentechnologien (Ionenfallen), EUV-Metrologie, Mikrofluidik, Mikrooptik, Mikromechanik sowie Biologie und Medizin bis hin zum Tissue Engineering. Das Labor und die Warenannahme befinden sich in Hannover, der Geschäftssitz liegt im benachbarten Garbsen.
- Standort
- Hannover
- Verfahren
- 2-Photonen Polymerisation (2PP), Stereolithographie, Ablation mit Ultrakurzpulslaser (fs-Laser Prozessierung), Abformverfahren, Prozessentwicklung laserbasierter Prozesse für die Mikrotechnologie, Systementwicklung / kundenspezifische Anlagen für die Mikrotechnologie, Prozessentwicklung für laserbasierte Mikro- und Nanotechnologie (fs-Laser), Systementwicklung: kundenspezifische Anlagen für die Mikrotechnologie
- Werkstoffe
- femtoBond 4B Photoresist, femtoBond 4C Photoresist, femtoInk - ultrareine Edelmetall-Nanopartikel, Rogers-Material (Ionenfalle-Chips), Gold (Beschichtung Ionenfalle), Zwei-Photonen-Polymerisation, Ablation mit Ultrakurzpulslaser, Stereolithographie
- Branchen
- Quantentechnologien, EUV-Metrologie, Mikrofluidik, Biologie/Medizin (Tissue Engineering), Mikrooptik, Mikromechanik
- 01
CAD-Design und Machbarkeitsstudie
- 02
Prozessentwicklung mit fs-Lasern
- 03
Additive Fertigung (2PP, Stereolithographie)
- 04
Subtraktive Fertigung (fs-Laser-Ablation)
- 05
Abformverfahren
- 06
Systemintegration kundenspezifischer Anlagen
- 07
Prüfung und Lieferung
Werkstoffe und Verfahren
femtoBond 4B Photoresist
Negativ-Photoresist für Zwei-Photonen-Polymerisation mit nahinfraroten Lasern, z. B. um 800 nm.
femtoBond 4C Photoresist
Negativ-Photoresist für 2PP mit grünem Laserlicht, z. B. um 520 nm.
Zwei-Photonen-Polymerisation
Direktes Laserschreiben dreidimensionaler Mikro- und Nanostrukturen bis unter 100 nm Auflösung.
Ablation mit Ultrakurzpulslaser
Subtraktive Bearbeitung optischer Materialien mit Femtosekundenlasern.
Stereolithographie
Additive Fertigung von Strukturen aus Photoresisten.
Abformverfahren
Replikation von Mikrostrukturen aus Photoresisten und biokompatiblen Materialien.
Gold
Beschichtung mikrostrukturierter RF-Chips für Ionenfallen.
Ultrareine Edelmetall-Nanopartikel
Herstellung ultrareiner Nanopartikel aus Edelmetallen.
Standorte
Hannover
DELabor- und Lieferadresse, Fertigung und Entwicklung
- Stückgewicht / Größe
- 2PP-Bauraum 10 × 10 × 10 cm; Bauteile bis 100 mm
- Losgröße
- Prototyp und Forschungsaufträge
- Werkstoffe
- Photoresiste (femtoBond), optische Materialien, biokompatible Materialien, Gold, Rogers-Material, Edelmetalle
- M 4D 2PP-Mikro- und Nanostrukturierungssystem (Bauraum 10×10×10 cm, Stellfläche ca. 1 m²)
- A 4D fs-Laser-Prozessierungssystem
- Femtosekunden-Pumplaser (1030 nm, 10 W, 290 fs–10 ps)
- EUV T2 - debrisfreie EUV-Quelle (Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie)
Garbsen
DEGeschäftssitz und Rechnungsadresse
Bauteile und Systeme
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| 2-Photonen Polymerisation (2PP)Additiv | – | 100 mm × 100 mm × 100 mm | – | – | Photoresiste (femtoBond), Standard-Fotoresists für Lithografie, biologisch abbaubare und biokompatible Photoresists |
| StereolithographieAdditiv | – | – | – | – | Photoresiste |
| Ablation mit Ultrakurzpulslaser (fs-Laser Prozessierung)Oberfläche | – | – | – | – | optische Materialien |
| AbformverfahrenKunststoff | – | – | – | – | Photoresiste, optische Materialien, biokompatible Materialien |
| Prozessentwicklung laserbasierter Prozesse für die MikrotechnologieEngineering | – | – | – | – | – |
| Systementwicklung / kundenspezifische Anlagen für die MikrotechnologieEngineering | – | – | – | – | – |
4 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| 2PP-Mikro- und Nanostrukturierungssystem | Laser nanoFab GmbH M 4D | – | 10 cm x 10 cm x 10 cm (Bauraum), Stellfläche ca. 1 m² | – | Hannover |
| fs-Laser Prozessierungssystem | Laser nanoFab GmbH A 4D | – | – | – | Hannover |
| Femtosekunden Pumplaser (1030 nm, 10 W, 290 fs-10 ps) | – | – | – | – | Hannover |
| EUV-Quelle (Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie) | Laser nanoFab GmbH EUV T2 | – | – | – | Hannover |
Zusatzleistungen