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Geräte und Module für Megaschall-Reinigung, Substrattrocknung und Medientemperierung für die nasschemische Produktion.
METRONICS Semiconductor Equipment GmbH
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Über METRONICS Semiconductor Equipment
Die METRONICS Semiconductor Equipment GmbH bietet Geräte und Module an, die in der nasschemischen Produktion von Halbleiter-, Optik- und Medizinprodukten verwendet werden. Das Produktspektrum umfasst Substratreinigungsmodule, Substrattrocknungsmodule, Geräte zur Temperierung der Prozessmedien, Prozesstanks aus hochreinem Quarz sowie hochreine Ventile, Verschraubungen und kundenspezifisch vorgeformte, formstabile PFA-Schlauchleitungen. Ein Teil der Produkte, darunter das Megaschall-Reinigungssystem, wird selbst entwickelt und hergestellt und wird bei Wafer- und Chipherstellern sowie Forschungsinstituten weltweit eingesetzt. Standardprodukte können auf Anforderung an beliebige Applikationen angepasst werden, um Prozessergebnisse, Geräte-Lebensdauer und Produktionsdurchsatz zu verbessern. Das Unternehmen wird von den Gründern Dipl.Ing. (FH) Marco Meyer und Dipl.Ing. (TH) Rosemarie Kehr geführt, die über langjährige Erfahrung in Herstellung, Vertrieb und Service von Halbleiteranlagen verfügen.
- Verfahren
- Megaschall-Reinigung von Wafern und Substraten, Ultraschall-Reinigung, Trocknung von Wafern und Substraten (Spin Dryer), Temperierung der Prozessmedien, Megaschall-/Ultraschall-Reinigungssysteme, Substrattrocknung (Spin Dryer), Medientemperierung, Substratreinigungsmodule
- Werkstoffe
- Quarz (hochrein, für Prozesstanks), PFA (Schlauchleitungen), PFA, hochreiner Quarz
- Gegründet
- 2001
- Branchen
- Halbleiterindustrie, Solarindustrie, Optikindustrie, Chemieindustrie, Medizintechnik, Forschung
- 01
Entwicklung
- 02
CAD-Konstruktion
- 03
Herstellung
- 04
Anpassung an Applikation
- 05
Service
Werkstoffe und Medien
PFA
Kundenspezifisch vorgeformte und formstabile PFA-Schlauchleitungen für hochreine Anwendungen.
hochreiner Quarz
Werkstoff für Prozesstanks der nasschemischen Produktion.
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Megaschall-Reinigung von Wafern und SubstratenReinigung (Sonstiges) | – | – | – | – | Wafer, Substrate |
| Ultraschall-ReinigungReinigung (Sonstiges) | – | – | – | – | Wafer, Substrate |
| Trocknung von Wafern und Substraten (Spin Dryer)Reinigung (Sonstiges) | – | – | – | – | Wafer, Substrate |
| Temperierung der ProzessmedienSonstiges | – | – | – | – | – |
5 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Megaschall-Reinigungssystem | METRONICS Semiconductor Equipment GmbH | – | – | – | – |
| Substratreinigungsmodul | METRONICS Semiconductor Equipment GmbH | – | – | – | – |
| Substrattrocknungsmodul | METRONICS Semiconductor Equipment GmbH | – | – | – | – |
| Gerät zur Medientemperierung | METRONICS Semiconductor Equipment GmbH | – | – | – | – |
| Prozesstank aus hochreinem Quarz | METRONICS Semiconductor Equipment GmbH | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Historie
- 2001
Aufnahme der Geschäftstätigkeit durch die Gründer Marco Meyer und Rosemarie Kehr.