Ist das Ihr Unternehmen? Profil übernehmen
Fertigt automatisierte Materialcharakterisierungssysteme, Kryostaten und Messtechnik für Magnetismus, Tieftemperatur- und Quantenforschung.
Quantum Design, Inc.
San Diego, CA (Weltzentrale) · Pfungstadt (Europe Headquarters) · Grimbergen · Campinas · Beijing · Shanghai · Guangzhou · Les Ulis · Budapest · Navi Mumbai · Leatherhead · Rom · Tokyo · Osaka ·Neu auf Amplifa
Über Quantum Design
Quantum Design (QD) ist ein seit 1982 in San Diego, Kalifornien ansässiger Hersteller von automatisierten Materialcharakterisierungssystemen für Forschende in Physik, Chemie, Biotechnologie, Materialwissenschaften und Nanotechnologie. Das Portfolio umfasst die Messplattformen PPMS DynaCool, MPMS 3 (SQUID-Magnetometer) und PPMS VersaLab, kryogenfreie optische Kryostaten der OptiCool-Familie (7 Tesla, Vector, Flex), Helium-Verflüssiger und -Reiniger (NexGen160, NexGen250, ATP30), korrelative AFM/SEM-Mikroskopie (FusionScope, AFSEM nano) sowie NV-Magnetometrie (ProteusQ, QDM). Für die Probenherstellung werden Dünnschicht- und Nanofabrikationssysteme vertrieben bzw. angeboten: PVD- und CVD-Anlagen (nanoPVD, nanoCVD, MiniLab), Vakuum-Annealing bis 1000 °C, reaktives Ionenätzen sowie Floating-Zone-Kristallzüchtungsöfen. Daneben vertrieben die Quantum Design Oxford Produkte (Tieftemperatur- und supraleitende Magnetsysteme, Verdünnungskryostaten). Über mehr als 20 eigene Niederlassungen in Europa, Asien und Amerika bietet das Unternehmen mit über 800 Mitarbeitenden lokalen Vertrieb, technischen Support, Installation, Schulung und Wartung; das Europe Headquarters befindet sich in Pfungstadt, Deutschland.
- Standort
- San Diego, CA
- Verfahren
- Physikalische Property-Messung (PPMS DynaCool), SQUID-Magnetometrie (MPMS 3), Physikalische Property-Messung (PPMS VersaLab), Optische Spektroskopie im Kryostaten (OptiCool 7 Tesla, Vector, Flex), Helium-Verflüssigung und -Reinigung (NexGen160, NexGen250, ATP30), Korrelierende AFM/SEM Mikroskopie (FusionScope), AFM-Insert für SEM/FIB (AFSEM nano), Elektronenbeugung (ELDICO ED-1)
- Werkstoffe
- Metalle (Dünnschicht), Dielektrika, Keramiken, Organika, Graphen, Kohlenstoffnanoröhren, Physikalische Gasphasenabscheidung, Chemische Gasphasenabscheidung
- Gegründet
- 1982
- Mitarbeiter
- 800+
- Branchen
- Physik, Chemie, Biotechnologie, Materialwissenschaften, Nanotechnologie, Quantentechnologien
- 01
Systementwicklung und Engineering
- 02
Fertigung und Montage der Messsysteme und Kryostaten
- 03
Installation bei Kund:innen
- 04
Schulung und Applikationsberatung
- 05
Kundendienst, Wartung und Reparaturen (inkl. Remote-Support)
- 06
Ersatzteile und Verbrauchsmaterial
Verfahren & Anwendungen
Physikalische Gasphasenabscheidung
Dünnschichten aus Metallen, Oxiden, Nitriden, Dielektrika, Organika und Keramiken (nanoPVD, MiniLab).
Chemische Gasphasenabscheidung
Synthese von Graphen und Kohlenstoffnanoröhren bis 1100 °C, auch wafer-scale (nanoCVD).
Reaktives Ionenätzen
Schonendes, präzises Ätzen sensibler Schichten wie Graphen und 2D-Materialien (nanoETCH).
Vakuum-Annealing
Thermische Behandlung von 2D-Materialien und Wafern bei kontrollierter Atmosphäre bis 1000 °C (nanoANNEAL).
Floating-Zone-Kristallzüchtung
Einkristallzüchtung im IR-Image-Furnace bzw. Laser-Furnace mit 1,5 kW und 2 kW.
Standorte
San Diego, CA
USWorld Headquarters, Fertigung und Entwicklung
- PPMS DynaCool
- MPMS 3
- PPMS VersaLab
- OptiCool 7 Tesla / Vector / Flex
- NexGen160, NexGen250, ATP30
- HAC 900, HLC 4900
- FusionScope
Pfungstadt
DEEurope Headquarters; Vertrieb und Support für Deutschland, Österreich und Mittlerer Osten
Grimbergen
BEVertriebsbüro Benelux
Beijing
CNVertriebs- und Servicebüro
Shanghai
CNVertriebs- und Servicebüro
Guangzhou
CNVertriebs- und Servicebüro
Singapur
SGVertriebs- und Servicebüro Südostasien
Yverdon
CHVertriebs- und Servicebüro Schweiz
Systeme & Komponenten
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Physikalische Property-Messung (PPMS DynaCool)Prüfung | – | – | – | – | Materials characterization von Festkörperproben |
| SQUID-Magnetometrie (MPMS 3)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Physikalische Property-Messung (PPMS VersaLab)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Optische Spektroskopie im Kryostaten (OptiCool 7 Tesla, Vector, Flex)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Helium-Verflüssigung und -Reinigung (NexGen160, NexGen250, ATP30)Engineering | – | – | – | – | – |
| Korrelierende AFM/SEM Mikroskopie (FusionScope)Prüfung | – | – | – | – | – |
| AFM-Insert für SEM/FIB (AFSEM nano)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Elektronenbeugung (ELDICO ED-1)Prüfung | – | – | – | – | kristalline Proben |
| Einkristall-Orientierung per Laue (s-Laue)Prüfung | – | – | – | – | – |
| FMR-Spektroskopie (PhaseFMR / CryoFMR / ST-FMR)Prüfung | – | – | – | – | – |
| Magnetron-Sputtern (nanoPVD-S10A)Oberfläche | – | 4" Durchmesser Substrate | – | – | Metalle, Oxide, Nitride, Dielektrika, Organika, Keramiken |
| Thermische Bedampfung / Verdampfung (nanoPVD-T15A)Oberfläche | – | 4" Durchmesser Substrate | – | – | Metalle, Organika |
| Chemische Gasphasenabscheidung CVD Graphen/CNT (nanoCVD-8G)Oberfläche | – | 20 × 40 mm² Substrat | – | – | Graphen, Kohlenstoffnanoröhren |
| Wafer-scale CVD Graphen, optional Plasma (nanoCVD-WG/WGP)Oberfläche | – | 3" oder 4" Wafer | – | – | Graphen |
| Vakuummodulare PVD Systeme (MiniLab 026/060/080/090/125)Oberfläche | – | bis 6" bzw. 11" Substrate | – | – | Metalle, Dielektrika, Organika |
| Reaktives Ionenätzen (nanoETCH / RIE)Oberfläche | – | – | – | – | Graphen, 2D-Materialien |
| Vakuum-Annealing bis 1000 °C (nanoANNEAL)Wärmebehandlung | – | – | – | – | 2D-Materialien, Wafer |
| Floating-Zone-Kristallzüchtung (IR Image Furnace, Laser Furnace 1.5 kW / 2 kW)Engineering | – | – | – | – | – |
| Nanofabrikation (μLaser, μAligner, μCoater, μExposer)Engineering | – | – | – | – | – |
26 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Physical Property Measurement System (PPMS DynaCool) | Quantum Design DynaCool | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| SQUID-Magnetometer | Quantum Design MPMS 3 | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| Kompaktes Physikalische-Property-Messsystem | Quantum Design VersaLab | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| Kryogenfreier optischer Kryostat 7 Tesla / Vektor | Quantum Design OptiCool / OptiCool Vector / OptiCool Flex | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| Helium-Verflüssiger und -Reiniger | Quantum Design NexGen160, NexGen250, ATP30 | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| Helium-Kompressoren | Quantum Design HAC 900, HLC 4900 | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| Korrelierende AFM/SEM Mikroskopie-Plattform | Quantum Design FusionScope | – | – | – | San Diego, CA, USA |
| AFM-Insert für SEM/FIB | AFSEM nano | – | – | – | – |
| Scanning NV Mikroskop | Qnami ProteusQ | – | – | – | – |
| Quanten-Diamant-Mikroskop | EuQlid QDM | – | – | – | – |
| FMR-Spektrometer | NanOsc Instruments PhaseFMR / CryoFMR / ST-FMR | – | – | – | – |
| Elektronenbeugungsgerät | ELDICO Scientific ED-1 | – | – | – | – |
| Einkristall-Orientierungssystem (Laue) | Pulstec s-Laue | – | – | – | – |
| PCD-Detektoren und Bildkameras | ADVACAM MiniPIX, WidePIX, AdvaPIX | – | – | – | – |
| Bench-Top-Charge-Photometer | illumion illumionONE | – | – | – | – |
| Optische Laser-Fallen | Aresis TWEEZ | – | – | – | – |
| Magnetron-Sputtersystem (Benchtop) | Moorfield Nanotechnology nanoPVD-S10A | – | Substrate bis 4" Durchmesser; Base Pressure <5×10⁻⁷ mbar | – | – |
| Thermische Verdampfungssystem (Benchtop) | Moorfield Nanotechnology nanoPVD-T15A | – | Substrate bis 4" Durchmesser | – | – |
| CVD Graphen-Synthesesystem (Benchtop) | Moorfield Nanotechnology nanoCVD-8G | – | 20 × 40 mm²; 1100 °C max. | – | – |
| Wafer-scale CVD System | Moorfield Nanotechnology nanoCVD-WG(P) | – | 3"/4" Wafer; 1100 °C; Base <5×10⁻⁷ mbar | – | – |
| Modulares PVD Bodensystem | Moorfield Nanotechnology MiniLab 026 | – | Substrate bis 6"; Kammer 305 mm ID × 350 mm | – | – |
| Modulares PVD Bodensystem | Moorfield Nanotechnology MiniLab 060 | – | Substrate bis 11"; Kammer 400×400×400 mm | – | – |
| Vakuum-Annealing-System | Moorfield Nanotechnology nanoANNEAL | – | bis 1000 °C | – | – |
| Reaktives Ionenätz-System | Moorfield Nanotechnology nanoETCH | – | – | – | – |
| IR Image Furnace (2-Mirror Floating Zone) | IR Image Furnace | – | – | – | – |
| Laser Floating Zone Furnace | Laser Furnace 1.5 kW / 2 kW | – | – | – | – |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Historie
- 1982
Gründung von Quantum Design in San Diego, Kalifornien.
- 2024
Stuart Schoenmann wird Global CEO von Quantum Design.
- 2025
Scott Krog (CFO) und Melinda Kimbro (CHRO) treten dem Unternehmen bei.
- 2026
Übernahme von Qnami (zweite Akquisition 2026); Einführung der Quantum Design Oxford Ultra-low-temperature Kryostaten.