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Vakuum-Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsanlagen auf Ionenstrahl- und Plasmabasis mit Nanometer-Präzision
scia Systems GmbH
Chemnitz · Clemens-Winkler-Str. 6c, 09116 ChemnitzNeu auf Amplifa
Über scia Systems
scia Systems ist ein 2013 in Chemnitz gegründeter Hersteller von Anlagen zur ultrapräzisen Oberflächenbearbeitung auf Basis von Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Das Unternehmen entwickelt und fertigt Vakuumsysteme zum Beschichten, Ätzen, Trimmen und Reinigen mit Nanometer-Genauigkeit – von Ionenstrahlätzen (IBE/RIBE/CAIBE), Ionenstrahltrimmen und Ionenstrahlsputtern (IBS/DIBS) über Magnetronsputtern, Elektronenstrahlverdampfen, PECVD/RIE bis zu Plasma- und Ionenstrahl-Trockenreinigung. Die modularen Systeme werden als Einzelkammer-, Cluster- oder Inlineanlagen für Forschung und Großserienproduktion konfiguriert. Die Leistungspalette umfasst Anlagendesign, hausinterne Fertigung von Kernkomponenten, Softwareentwicklung, Prozessentwicklung, weltweite Inbetriebnahme sowie Service und Support mit 24/7-Hotline. Kunden sind Unternehmen und Forschungseinrichtungen aus Mikroelektronik, MEMS, Präzisionsoptik, Photonik, Astronomie und biomedizinischer Technik, darunter AMTC, die Universität Kiel und das kanadische INO. Das Unternehmen arbeitet in Partnerschaft mit der VON ARDENNE GmbH (Dresden) und bedient über ein weltweites Vertriebs- und Servicenetzwerk Märkte in Europa, Nordamerika und Asien.
- Standort
- Chemnitz
- Verfahren
- Ionenstrahlätzen (IBE / Ion Beam Milling), Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE), Chemisch-unterstütztes Ionenstrahlätzen (CAIBE), Ionenstrahltrimmen (Ion Beam Trimming), Ionenstrahl-Polierfehlerkorrektur, Ionenstrahlsputtern (IBS/IBD), Duales Ionenstrahlsputtern (DIBS/DIBD), Magnetronsputtern (PVD, statisch/konfokal/dynamisch)
- Werkstoffe
- Silizium, Indiumphosphid, Galliumarsenid, Silizium-Germanium, Lithiumniobat, Lithiumtantalat, Siliziumnitrid, Siliziumdioxid
- Zertifikate
- EN ISO 9001:2015
- Gegründet
- 2013
- Branchen
- Mikroelektronik, MEMS, Präzisionsoptik, Photonik / PICs, Astronomie, Biomedizinische Technik
- 01
Anlagendesign
- 02
Prozessentwicklung (F&E)
- 03
Fertigung von Kernkomponenten
- 04
Softwareentwicklung
- 05
Montage & Inbetriebnahme
- 06
Installation & Training
- 07
Service & Support
Standorte
Chemnitz
DEHauptsitz mit Bürogebäude und Produktionshalle
- Werkstoffe
- Halbleiter, Metalle, Keramiken, Dielektrika
- scia Mill 150/200/300 (Ionenstrahlätzen)
- scia Trim 200/300 (Ionenstrahltrimmen)
- scia Finish 1500 (Polierfehlerkorrektur)
- scia Coat 200/500, scia Opto 300 (Ionenstrahlsputtern)
- scia Multi 300/680/1500, scia Magna 200 (Magnetronsputtern)
- scia Eva 200 (Elektronenstrahlverdampfer)
- scia Clean 800–3000 (Trockenreinigung)
- scia Batch 350, scia Cube 300/750 (PECVD/RIE)
- scia Cluster 200/215 (Clustersysteme)
- scia Inline 400 (kundenspezifisches Inline-System)
Anlagen & Bauteile
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Ionenstrahlätzen (IBE / Ion Beam Milling)Oberfläche | – | Substrate bis 300 mm | – | Kleinserien/F&E – Massenproduktion | Argon-Verfahren: Metalle (Au, Ru, Ta), Halbleiter |
| Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)Oberfläche | – | – | – | – | Lithiumniobat, dielektrische Materialien |
| Chemisch-unterstütztes Ionenstrahlätzen (CAIBE)Oberfläche | – | – | – | – | Metalle, Halbleiter, Keramiken |
| Ionenstrahltrimmen (Ion Beam Trimming)Oberfläche | Schichtdickenkorrektur bis in den Sub-Nanometerbereich | Wafer bis 300 mm | – | – | Lithiumniobat, Siliziumnitrid, piezoelektrische Materialien |
| Ionenstrahl-PolierfehlerkorrekturOberfläche | Verbesserung der Mikrorauheit | Substrate bis 1500 mm | – | – | optische Substrate |
| Ionenstrahlsputtern (IBS/IBD)Oberfläche | – | Wafer bis 200 mm; Optiken bis Ø 300 mm | – | – | dielektrische Materialien, piezoelektrische Beschichtungen |
| Duales Ionenstrahlsputtern (DIBS/DIBD)Oberfläche | – | – | – | – | dielektrische Materialien, Nanoverschleißschutzschichten |
| Magnetronsputtern (PVD, statisch/konfokal/dynamisch)Oberfläche | – | Substrate bis 1500 mm | – | – | SiO2, Metallisierungsstapel, Legierungen (Co-Sputtern) |
| Elektronenstrahlverdampfen (EBPVD, optional mit Ionenstrahlunterstützung)Oberfläche | – | Wafer bis 200 mm | – | – | Hochtemperaturmaterialien, Refraktärmetalle |
| Glancing Angle Deposition (Nanostrukturen)Oberfläche | – | Wafer bis 200 mm | – | – | – |
| Plasma-gestütztes CVD (PECVD)Oberfläche | – | 300 mm x 200 mm / 750 mm x 750 mm | – | Chargen (3D-Beschichtung) | – |
| Reaktives Ionenätzen (RIE)Oberfläche | – | 300 mm x 200 mm / 750 mm x 750 mm | – | – | – |
| Atomlagenabscheidung (ALD)Oberfläche | – | – | – | – | – |
| Trockenreinigung (Plasma-/Ionenstrahlreinigung)Oberfläche | – | Ø 800 mm bis Ø 3 m × 500 mm Höhe / 3,4 m Länge | – | – | – |
| Substratvorreinigung / Oberflächenaktivierung vor BeschichtungOberfläche | – | – | – | – | Oxidschichten, Verunreinigungen |
| Formung von RasierklingenschneidenOberfläche | – | – | – | – | Stahl (Rasierklingen) |
| Anlagendesign / kundenspezifische SystementwicklungEngineering | – | – | – | – | – |
| Softwareentwicklung / AnlagensteuerungEngineering | – | – | – | – | – |
| Prozessentwicklung (F&E)Engineering | – | – | – | – | – |
| Installation, Inbetriebnahme & TrainingMontage | – | – | – | – | – |
| Service & Support (Wartung, Ersatzteile, Retrofits)Montage | – | – | – | – | – |
| Fertigung von Kernkomponenten im HausMontage | – | – | – | – | – |
23 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Ionenstrahlätzsystem (IBE/RIBE/CAIBE) | scia Systems scia Mill 150 | – | Substrate bis 150 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahlätzsystem (IBE/RIBE/CAIBE) | scia Systems scia Mill 200 | – | Wafer bis 200 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahlätzsystem (IBE/RIBE/CAIBE) | scia Systems scia Mill 300 | – | Wafer bis 300 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahl-TrimmSystem | scia Systems scia Trim 200 | – | Wafer bis 200 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahl-TrimmSystem | scia Systems scia Trim 300 | – | Wafer bis 300 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahl-Polierfehlerkorrektur | scia Systems scia Finish 1500 | – | Substrate bis 1500 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahlsputteranlage (IBS/DIBS/IBE) | scia Systems scia Coat 200 | – | Wafer bis 200 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahlsputteranlage (IBS/DIBS/IBE) | scia Systems scia Coat 500 | – | bis 500 mm x 300 mm | – | Chemnitz |
| Ionenstrahlsputteranlage (IBS/DIBS) | scia Systems scia Opto 300 | – | Optiken bis Ø 300 mm | – | Chemnitz |
| Magnetron-Sputtersystem | scia Systems scia Multi 300 | – | Wafer/Optics, ebene und 3D-Baugruppen | – | Chemnitz |
| Magnetron-Sputtersystem | scia Systems scia Multi 680 | – | Substrate bis 680 mm | – | Chemnitz |
| Magnetron-Sputtersystem | scia Systems scia Multi 1500 | – | Substrate bis 1500 mm | – | Chemnitz |
| Magnetron-Sputter-Clusteranlage | scia Systems scia Magna 200 | – | Wafer bis 200 mm | – | Chemnitz |
| Magnetron-Sputter-Inline-Anlage | scia Systems scia Magna 400/500/700/1200 Inline | – | optische Substrate | – | Chemnitz |
| Elektronenstrahlverdampfer | scia Systems scia Eva 200 | – | Wafer bis 200 mm | – | Chemnitz |
| Trockenreinigungssystem | scia Systems scia Clean 800 | – | bis Ø 800 mm und 500 mm Höhe | – | Chemnitz |
| Trockenreinigungssystem | scia Systems scia Clean 1000/1500/3000 | – | bis Ø 3 m und 3,4 m Länge | – | Chemnitz |
| PECVD/RIE-Chargensystem (3D-Beschichtung) | scia Systems scia Batch 350 | – | – | – | Chemnitz |
| PECVD/RIE-Großflächensystem | scia Systems scia Cube 300 | – | 300 mm x 200 mm | – | Chemnitz |
| PECVD/RIE-Großflächensystem | scia Systems scia Cube 750 | – | 750 mm x 750 mm | – | Chemnitz |
| Modulares Multi-Prozess-Clustersystem | scia Systems scia Cluster 200 | – | – | – | Chemnitz |
| Clustersystem (2 Prozesskammern, Handling-Roboter) für Ionenstrahlätzen optischer Materialien | scia Systems scia Cluster 215 | – | – | – | Chemnitz |
| Kundenspezifisches Inline-System | scia Systems scia Inline 400 | – | Formung und Beschichtung von Rasierklingenschneiden | – | Chemnitz |
Zusatzleistungen
Referenzkunden
Qualität
scia Systems ist nach EN ISO 9001:2015 zertifiziert und arbeitet mit Kunden an der stetigen Optimierung der Systeme für aktuelle und zukünftige Anforderungen in der Produktion.
| Nachweis | Chemnitz |
|---|---|
| EN ISO 9001:2015 |
Historie
- 2013
Gründung in Chemnitz in Partnerschaft mit der VON ARDENNE GmbH (Dresden)
- 2026
Robert Rückriem vervollständigte mit Wirkung zum 1. Januar 2026 die Geschäftsführung gemeinsam mit Dr. Michael Zeuner und Dr. Michael Gempe