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SENTECH – Fertigung

Entwicklung und Fertigung von Plasmaprozessanlagen und Dünnschicht-Messtechnik für die Halbleiterindustrie und -forschung.

SENTECH Logo

SENTECH Instruments GmbH

Berlin-AdlershofNeu auf Amplifa

Berlin-AdlershofStandort im Wissenschafts- und Technologiepark Adlershof
WeltweitVertriebs- und Servicenetz

Über SENTECH Instruments

SENTECH Instruments GmbH entwickelt und fertigt Anlagen für die Plasma-Prozesstechnik sowie Werkzeuge für die Dünnschicht-Messtechnik. Das Produktportfolio umfasst Systeme für Low-Damage-Plasmaätzprozesse, ICPECVD-Deposition (Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie Cluster-Konfigurationen für kombinierte Ätz- und Abscheidelösungen. Im Bereich Messtechnik bietet das Unternehmen spektroskopische Ellipsometrie, spektroskopische Reflektometrie, Laser-Ellipsometrie, In-situ-Messtechnik und Endpoint-Detection für die Qualitätskontrolle von Dünnschichten. Einsatzfelder liegen in der Halbleiterforschung und -industrie, darunter Optoelektronik, MEMS, Sensorik, Leistungshalbleiter auf Basis von GaN und SiC, Quantentechnologien und Qualitätskontrolle. Das Unternehmen unterstützt seine Kunden mit weltweitem Vertrieb, Anwendungsbetreuung über die Systemlebensdauer sowie technischem Service. SENTECH ist in Berlin-Adlershof angesiedelt, einem der führenden Wissenschafts- und Technologieparks Deutschlands.

Standort
Berlin-Adlershof
Verfahren
Plasma Etching, ICPECVD Systems (Deposition), Atomic Layer Deposition, Cluster Configuration for Plasma Etching and Deposition, Spectroscopic Ellipsometry, Spectroscopic Reflectometry, Laser Ellipsometry, In-situ Metrology / Endpoint Detection
Werkstoffe
GaN, SiC, Galliumnitrid (GaN), Siliziumkarbid (SiC), Plasma-Ätzen (Plasma Etching), ICPECVD-Deposition, Atomlagenabscheidung (ALD), Spektroskopische Ellipsometrie
Zertifikate
Application Support über die Systemlebensdauer, Technischer Service Support, Weltweites Vertriebsnetz
Branchen
Halbleiterindustrie und Halbleiterforschung, Optoelektronik, MEMS, Sensorik, Leistungshalbleiter (GaN/SiC), Qualitätskontrolle
  1. 01

    Engineering und Systementwicklung

  2. 02

    Fertigung von Plasmaprozessanlagen

  3. 03

    Fertigung von Dünnschicht-Messtechnik

  4. 04

    Weltweiter Vertrieb

  5. 05

    Anwendungsbetreuung über die Systemlebensdauer

  6. 06

    Technischer Service

Prozesse und Materialien

GaN

Galliumnitrid (GaN)

Materialsystem für Plasmaprozesse in der Leistungshalbleiterfertigung (Power Devices).

SiC

Siliziumkarbid (SiC)

Materialsystem für Plasmaprozesse in der Leistungshalbleiterfertigung (Power Devices).

PECVD

Plasma-Ätzen (Plasma Etching)

Low-Damage-Plasmaätzprozesse für Forschung und Industrie.

ICPECVD

ICPECVD-Deposition

Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung von Dünnschichten.

ALD

Atomlagenabscheidung (ALD)

Präzise Abscheidung von Dünnschichten in atomarer Schichtdicke.

SE

Spektroskopische Ellipsometrie

Messtechnik für wiederholbare und genaue Dünnschichtcharakterisierung.

SR

Spektroskopische Reflektometrie

Messtechnik zur Charakterisierung von Dünnschichten für die Qualitätskontrolle.

LE

Laser-Ellipsometrie

Optische Messtechnik für Schichtdickenbestimmung.

In-situ

In-situ-Messtechnik / Endpoint-Detection

Prozessbegleitende Messung und Endpunkterkennung während des Ätz- und Abscheidprozesses.

Standort

Standort Berlin-Adlershof

Berlin-Adlershof

DE

Hauptsitz mit Entwicklung und Fertigung

Anlagen und Systeme

SI 500 D Plasma-Ätzanlage mit Load Lock
SI 500 D Plasma-Ätzanlage mit Load LockPlasma Etching · Halbleiterforschung und -industrie
Dünnschicht-Messtechnik für Wafer
Dünnschicht-Messtechnik für WaferThin Film Metrology · Qualitätskontrolle
Kompakte Terahertz-Lösung
Kompakte Terahertz-LösungMesstechnik · Forschung
SENresearch 4.0
SENresearch 4.0Messtechnik-Software · Dünnschichtcharakterisierung

Einblicke in die Fertigung

Dünnschicht-Messtechnik: Understanding Metrology
Dünnschicht-Messtechnik: Understanding Metrology
Plasma Process Technology Seminar und Workshop 2026
Plasma Process Technology Seminar und Workshop 2026
SENTECH Thin Film Metrology Trainer
SENTECH Thin Film Metrology Trainer
NAPEX Virtual Symposium: Frontiers in Nanoscale Plasma Etching
NAPEX Virtual Symposium: Frontiers in Nanoscale Plasma Etching

Branchen

Halbleiterindustrie und HalbleiterforschungOptoelektronikMEMSSensorikLeistungshalbleiter (GaN/SiC)QualitätskontrolleQuantentechnologienMEMS (Mikroelektromechanische Systeme)Leistungshalbleiter (Power Devices, GaN/SiC)Quantentechnologien (supraleitende Schaltkreise, Quantensensoren)

Verfahren & technische Grenzen

VerfahrenToleranzMax. BauteilGewichtLosgrößeWerkstoffe
Plasma EtchingOberfläche––––Halbleiter, GaN, SiC
ICPECVD Systems (Deposition)Oberfläche–––––
Atomic Layer DepositionOberfläche–––––
Cluster Configuration for Plasma Etching and DepositionOberfläche–––––
Spectroscopic EllipsometryPrüfung–––––
Spectroscopic ReflectometryPrüfung–––––
Laser EllipsometryPrüfung–––––
In-situ Metrology / Endpoint DetectionPrüfung–––––
Metrology for Quality ControlPrüfung–––––

Zusatzleistungen

Application Support über die SystemlebensdauerTechnical Service SupportWeltweites Vertriebsnetz / Vertrieb

Qualität und Anwendungssupport

SENTECH begleitet seine Kunden mit Expert Application Support über die gesamte Systemlebensdauer und stellt ein weltweites Vertriebs- und technisches Servicenetz bereit.

NachweisBerlin-Adlershof
Application Support über die Systemlebensdauer
Technischer Service Support
Weltweites Vertriebsnetz
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