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Entwicklung und Fertigung von Vakuum-Beschichtungsanlagen und Prozessen für hochpräzise Dünnschichten und optische Beschichtungen.
SOLAYER GmbH
Karlstein am Main · Kesselsdorf bei Dresden · Shanghai · Singapur · Zhunan · Taichung · Hsinchu · TainanNeu auf Amplifa
Über SOLAYER
Die SOLAYER GmbH ist ein 2007 in Dresden gegründetes, international tätiges Hightech-Unternehmen der Oberflächentechnik mit Sitz in Karlstein am Main. Das Unternehmen entwickelt und fertigt kundenspezifische Vakuum-Beschichtungsanlagen, darunter die Ultra-Hochpräzisions-Sputteranlage AVIOR M-300, die AVIOR S-100, die modulare ALASCO O-200 sowie die Inline-Plattform ALIOTH für die Serienproduktion. Die Verfahrenspalette umfasst MF-, DC-, DC-Puls- und RF-Magnetronsputtern, PECVD, Aufdampfen, ALD, IBAD, Ionenstrahlätzen, RIE, PIII und Flash Lamp Annealing. Abgeschieden werden Funktions- und optische Schichten wie ITO, AZO, IGZO, SiO2, Ta2O5, TiO2, SiNx, TiN sowie Metalle auf Substraten aus Silizium, Glas (inklusive Dünnglas ab 0,2 mm), Polymer und Metallfolie. Zu den Zielbranchen zählen Photonik, Präzisionsoptik, Halbleiter, Display, Photovoltaik, Sensorik/3D-Sensing/LiDAR, Automotive und Life Sciences. Neben Anlagen bietet SOLAYER Schichtstapel-Simulation, Materialqualifizierung, Lohnbeschichtung, Dünnschichtmessdienste, Retrofits und Ersatzteilversorgung. Standorte sind zwei Technology Center in Karlstein und Kesselsdorf bei Dresden sowie Vertriebsbüros in Shanghai, Singapur und Taiwan; seit 2020 ist die AMEC (Shanghai) strategischer Investor.
- Standort
- Karlstein
- Verfahren
- Hochpräzise Dünnschichtbeschichtung / Vakuum Beschichtung (Dünnschichtabscheidung), MF-, DC-, DC-Puls- und RF-Magnetronsputtern, PECVD (Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung), Aufdampfen (Evaporation), ALD (Atomlagenabscheidung), IBAD (Ion Beam Assisted Deposition), IBE (Ion Beam Etching) / Ion Milling, RIE (Reactive Ion Etching)
- Werkstoffe
- ITO, AZO, IGZO, ZnO:X / iZnO, ZinxSnyOz, Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, Tantalpentoxid
- Gegründet
- 2007
- Branchen
- Photonik, Präzisionsoptik, Optische Filter, Halbleiter/organische Halbleiter, Display, Photovoltaik
- 01
Prozessspezifikation und Machbarkeitsbewertung
- 02
Schichtstapel-Simulation und -modellierung
- 03
Anlagenkonstruktion (Mechanik und Elektrotechnik)
- 04
Anlagenfertigung und -montage
- 05
Materialqualifizierung und Prozessimplementierung
- 06
Kundenabnahmetest (Qualification & Testing)
- 07
Onsite-/Remote-Support, Wartung, Ersatzteile, Up-scaling
Standorte
Karlstein
DEHeadquarters & Technology Center 2 – Entwicklung und Engineering von Vakuumbeschichtungsanlagen
- Werkstoffe
- Aluminium, Kupfer, Titan, Messing, Edelstahl, Kunststoff
- AVIOR M-300
- AVIOR S-100
- ALASCO O-200
- ALIOTH
- Vertikale Inline-Beschichtungsanlage (PVD/PECVD)
- Horizontale Inline-Beschichtungsanlage (Sputtern, PECVD, ALD, FLA)
Kesselsdorf bei Dresden
DETechnology Center 1 – Forschung und Entwicklung Filtertechnologien
Shanghai
CNVertriebsbüro (AMEC China)
Singapore
SGVertriebsbüro (AMEC Singapore)
Zhunan
TWVertriebsbüro (AMEC Taiwan)
Taichung
TWVertriebsbüro
Hsinchu
TWVertriebsbüro
Tainan
TWVertriebsbüro
Produkte & Systeme
Einblicke in die Fertigung
Branchen
Verfahren & technische Grenzen
| Verfahren | Toleranz | Max. Bauteil | Gewicht | Losgröße | Werkstoffe |
|---|---|---|---|---|---|
| Hochpräzise Dünnschichtbeschichtung / Vakuum Beschichtung (Dünnschichtabscheidung)Oberfläche | – | – | – | – | – |
| MF-, DC-, DC-Puls- und RF-MagnetronsputternOberfläche | – | – | – | – | – |
| PECVD (Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung)Oberfläche | – | – | – | – | SiO2, SiOxNy, TiOxNy, AlOxNy, SiNx |
| Aufdampfen (Evaporation)Oberfläche | – | – | – | – | Mo, Cr, Al, Ag, Au, Cu, W, Ti, Ni, ZnTe, SiO2, Ta2O5, TiO2, TiN |
| ALD (Atomlagenabscheidung)Oberfläche | – | – | – | – | Al2O3, SiO2, TiO2, AlN, SiNx |
| IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)Oberfläche | – | – | – | – | Mo, Cr, Al, Ag, Au, Cu, W, Ti, Ni, SiO2, Ta2O5, TiO2, TiN, AlN, DLC, SiC |
| IBE (Ion Beam Etching) / Ion MillingOberfläche | – | – | – | – | Si-Wafer, Glas, Metallfolie, DLC, SiC |
| RIE (Reactive Ion Etching)Oberfläche | – | – | – | – | Si-Wafer, Glas, DLC, SiC, AlC, SiCxOyNz |
| PIII (Plasma-Immersions-Ionen-Implantation)Oberfläche | – | – | – | – | Metallfolie, Glas, DLC, SiC |
| Flash Lamp Annealing (FLA) – schnelle Wärmebehandlung (RTP) von ProbenWärmebehandlung | – | – | – | – | Si-Wafer, Glas, SiNx, TiN |
| Oberflächenbehandlung – Reinigung, Ätzen, IonenimplantationOberfläche | – | – | – | – | Si-Wafer, Glas, Polymer, Metallfolie |
| Optische Beschichtung (Antireflex-, Filter-, Spiegel-, TCO-, Metallschichten mittels Sputtern)Oberfläche | – | – | – | – | SiO2, Al2O3, Ta2O5, Nb2O5, TiO2, ZrO2, HfO2, ZnO, WO3, ITO, AZO, Ag, Au, Al, SiNx, TiOxNy |
| Dünnschichtmess- und Charakterisierungsdienste im AnalytiklaborPrüfung | – | – | – | – | – |
| Schichtstapel-Simulation und -Modellierung (optische Schichteigenschaften)Engineering | – | – | – | – | – |
| Design maßgeschneiderter ALD-Reaktorwerkzeuge; mechanischer & elektrischer AnlagendesignEngineering | – | – | – | – | – |
| Herstellung von NIR-Bandpassfiltern (X41) auf Dünnglas mit 'Zero Bow'-Technologie,Oberfläche | – | 200 mm Substratdurchmesser × Substratdicke < 200 µm | – | – | Si:H (wasserstoffdotiertes Silizium), SiO2, Dünnglas |
| Kundenspezifische Vakuumautomatisierung (Substrattransport, Kassettenbetrieb, Cluster-Anlagen 2–8Montage | – | – | – | – | – |
6 Anlagen & Maschinen
| Maschine | Hersteller / Modell | Anzahl | Arbeitsraum | Baujahr | Standort |
|---|---|---|---|---|---|
| Ultra-Hochpräzisions-Sputteranlage (High-End-Produktionsanlage, optische Beschichtung) | SOLAYER AVIOR M-300 | – | Universal Loading für Substratgrößen 12 x 300 mm, 24 x 200 mm oder 48 x 150 mm; 'Zero Bow'-Prozess | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
| Optische Sputteranlage (plug & coat, kleine Chargen / Markteintritt) | SOLAYER AVIOR S-100 | – | – | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
| Modulare optische Beschichtungsanlage (R&D und Produktion, mit PIII-, FLA-Modulen und | SOLAYER ALASCO O-200 | – | – | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
| Vielseitige Inline-Beschichtungsanlage (dielektrische, metallisch-dielektrische und | SOLAYER ALIOTH | – | – | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
| Vertikale Inline-Beschichtungsanlage (PVD- und PECVD-Modulplattform, kontinuierlicher | SOLAYER | – | – | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
| Horizontale Inline-Beschichtungsanlage (Sputtern, PECVD, ALD, FLA; Reinigung, Ätzen, Abscheidung, | SOLAYER | – | – | – | Karlstein/Kesselsdorf, Deutschland |
Zusatzleistungen
Historie
- 2007
Gründung in Dresden – Silicon Saxony
- 2013–2015
Aufbau von Vertretungen in den USA, China, Taiwan, Japan, Korea und Indien
- 2016
Übernahme der DTF – Dresden Thin Film Technology GmbH; Eröffnung des neuen Technology Centers in Karlstein
- 2020
AMEC (Shanghai) wird strategischer Investor; Mitgliedschaft in EPIC; Vorstellung der Zero-Bow-Wafer-Technologie für NIR-Bandpassfilter (X41)
- 2021
Präsenz auf der virtuellen Messe Photonics+