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Optimierung, Skalierung und Produktion kundenspezifischer Polymere für die Halbleiter- und Elektronikchemie.

Supurior GmbH

Ober-Ramstadt (Hauptsitz)Neu auf Amplifa

GmbHRechtsform

HRB 107007, AG DarmstadtHandelsregister

Gramm bis KilobereichSkalierungsbereich

Copolymere/Blockcopolymere aus bis zu 5Polymerkomplexität

Über Supurior

Die Supurior GmbH mit Sitz in Ober-Ramstadt ist auf die Entwicklung, Optimierung, Skalierung und Produktion kundenspezifischer Polymere spezialisiert. Auf Basis einer lizenzierten Polymerisationstechnologie der Fraunhofer LBF werden Copolymere und Blockcopolymere aus bis zu fünf verschiedenen Monomeren synthetisiert, um Eigenschaften wie Löslichkeit, Reaktivität, Haftung, Chemikalienbeständigkeit und Thermische Stabilität gezielt einzustellen. Typische Monomerbasen sind Methacrylate sowie Styrol, Hydroxystyrol und dessen Derivate; weitere Monomere sind auf Anfrage möglich. Der Fokus liegt auf einer engen Molmassenverteilung (niedriger PDI), vollständig unterdrückter Oligomerbildung sowie höchster Reinheit mit minimalem Restmonomer-, Oligomer-, Partikel- und Metallionen-Gehalt gemäß Halbleiterqualität. Supurior skaliert vom ersten Gramm bis zu kommerziellen Mengen im Kilobereich und übernimmt die industrielle Produktion inklusive Qualitätskontrolle und Purifikation. Die Abstammung aus 15 Jahren Erfahrung in der Electronic-Chemical-Industrie macht das Unternehmen ein geeigneter Partner für Photoresist-Anwendungen.

Standort: Ober-Ramstadt
Verfahren: Polymerisation (Copolymer-/Blockcopolymer-Synthese bis zu fünf Monomere, Scale-up von Gramm- bis, Optimierung und Skalierung von kundenspezifischen Polymeren (Gramm- bis Kilobereich), Entwicklung kundenspezifischer Polymerlösungen, Kommerzielle Produktion mit Qualitätskontrolle, Reinigung/Purifikation von Polymeren
Werkstoffe: Methacrylate, Styrol, Hydroxystyrol und Derivate
Branchen: Halbleiter/Elektronikchemie, Photoresist-Anwendungen

01
Entwicklung kundenspezifischer Polymerlösungen
02
Optimierung und Skalierung vom ersten Gramm bis zu mehreren Kilos
03
Purifikation der Polymere
04
Kommerzielle Produktion
05
Qualitätskontrolle

Monomere & Polymertechnik

Methacrylate

Typische Monomerklasse zur Einstellung von Löslichkeit, Reaktivität, Haftung, chemischer Beständigkeit und thermischer Stabilität der Polymere.

Styrol

Monomerbasis für Polymere mit gezielt abgestimmten Eigenschaften, u. a. für Photoresist-Anwendungen.

HOST

Hydroxystyrol und Derivate

Eingesetzt für Polymere, die Anforderungen der Halbleiter- und Photoresist-Industrie erfüllen.

Standort

Ober-Ramstadt

Hauptsitz

Stückgewicht / Größe: erste Gramm bis kommerzielle Produktmengen
Losgröße: Gramm- bis Kilobereich
Werkstoffe: Methacrylate, Styrol, Hydroxystyrol und Derivate

Polymerisation (Fraunhofer-LBF-Technologie)
Purifikation
Qualitätskontrolle

Produkte

**Hochreine kundenspezifische Polymere**Polymerisation · Halbleiter/Elektronikchemie

**Copolymere und Blockcopolymere (bis 5 Monomere)**Polymerisation · Photoresist-Anwendungen

Einblicke in die Fertigung

Polymerstruktur mit enger Molmassenverteilung

Branchen

Halbleiter/ElektronikchemiePhotoresist-Anwendungen

Verfahren & technische Grenzen

Verfahren	Toleranz	Max. Bauteil	Gewicht	Losgröße	Werkstoffe
Polymerisation (Copolymer-/Blockcopolymer-Synthese bis zu fünf Monomere, Scale-up von Gramm- bisKunststoff	–	–	erste Gramm – mehrere Kilos bis kommerzielle Mengen	–	Polymere auf Basis von Methacrylaten, Polymere auf Basis von Styrol, Hydroxystyrol und Derivaten

Zusatzleistungen

Optimierung und Skalierung von kundenspezifischen Polymeren (Gramm- bis Kilobereich)Entwicklung kundenspezifischer PolymerlösungenKommerzielle Produktion mit QualitätskontrolleReinigung/Purifikation von Polymeren